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    • 1. 发明申请
    • ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM FOR EUV PROJECTION LITHOGRAPHY
    • 用于EUV投影光刻的照明光学系统
    • WO2011154244A1
    • 2011-12-15
    • PCT/EP2011/058418
    • 2011-05-24
    • CARL ZEISS SMT GMBHPATRA, MichaelDITTMANN, OlafKIRCH, MarcENDRES, MartinWALTER, MarkusBIELING, StigDÖRN, Sebastian
    • PATRA, MichaelDITTMANN, OlafKIRCH, MarcENDRES, MartinWALTER, MarkusBIELING, StigDÖRN, Sebastian
    • G03F7/20G02B26/08
    • G03F7/70116G02B26/0833G03F7/70075
    • An illumination optical system for EUV projection lithography for illuminating an illumination field, in which an object field of a following imaging optical system can be arranged, has a first facet mirror with a plurality of first facets (7 1 ) for the reflective guidance of part bundles of a bundle of EUV illumination light (3). A downstream second facet mirror (10) with a plurality of second facets (11) is used for the reflective guidance of the part bundles (3 1 ; 3 1' ) reflected by the first facets (7 1 ), so object field illumination channels, to which, in each case, a first (7 1 ) and a second (11 1 ; 11 1' ) facet is allocated in each case, are predetermined by the first facets (7) and the second facets (11 1 ; 11 1' ) allocated by means of the reflected bundle guidance. The reflection faces of at least some of the first facets (7 1 ) are tiltable in each case between at least one illumination tilting position to guide the part bundle along an object field illumination channel (3 1 ; 3 1' ) in the direction of one of the second facets (11 1 ; 11 1' ) and at least one switch-off tilting position to guide the part bundle in the direction of a switch-off beam path (30) not impinging on the object field. The direction of the switch-off beam path (30) differs from the direction of the object field illumination channel (3 1 ; 3 1' ). In addition, methods for predetermining a set of switch-off tilting positions of the tiltable first facets (7) are disclosed. The result is an illumination optical system, with which a fine adjustment of illumination settings to be predetermined for the illumination of the illumination field is possible.
    • 一种用于EUV投影光刻的照明光学系统,用于照亮其中可以布置后续成像光学系统的物场的照明场,具有第一刻面镜,其具有多个第一刻面(71),用于部分束的反射引导 的一束EUV照明灯(3)。 具有多个第二小面(11)的下游第二分面反射镜(10)用于由第一面(71)反射的部分束(31; 31')的反射引导,因此物场照明通道 在每种情况下,在每种情况下分配第一(71)和第二(111; 111')面是由第一面(7)和第二面(111; 111')预先分配 反映束指导。 第一小面(71)中的至少一些的反射面在每种情况下可在至少一个照明倾斜位置之间倾斜,以沿着物场照明通道(31; 31')沿着物体照明通道 第二小面(111; 111')和至少一个关闭倾斜位置,以沿着不撞击物体场的关闭光束路径(30)的方向引导部分束。 关闭光束路径(30)的方向与物场照明通道(31; 31')的方向不同。 此外,公开了用于预先确定可倾斜第一面(7)的一组关闭倾斜位置的方法。 结果是照明光学系统,可以对照明场的照明进行预定的照明设置的微调。
    • 2. 发明申请
    • OPTICAL ASSEMBLY WITH SUPPRESSION OF DEGRADATION
    • 光学组件抑制降解
    • WO2013010806A1
    • 2013-01-24
    • PCT/EP2012/063101
    • 2012-07-05
    • CARL ZEISS SMT GMBHSCHMIDT, Stefan-WolfgangEHM, Dirk HeinrichWALTER, Markus
    • SCHMIDT, Stefan-WolfgangEHM, Dirk HeinrichWALTER, Markus
    • G03F7/20G21K1/06
    • G03F7/70883G03F7/70891G03F7/70916G03F7/70925G03F7/70983
    • The invention relates to an optical assembly, in particular a projection exposure apparatus for EUV lithography, comprising: a beam generating system for generating radiation (6) at an operating wavelength,at least one optical element (13, 14) which is subjected to the radiation (6) and is arranged in a residual gas atmosphere, and a feed device for feeding at least one gaseous constituent into the residual gas atmosphere in order to suppress a degradation of the surface (14a) of the optical element (14) that is induced by the radiation, wherein either a beam diameter (d) of the radiation (6) at the surface of the optical element, in particular at the surfaces of all optical elements of the optical assembly, lies above a threshold value (d c ) so that a suppression of the degradation by the gaseous constituent is effective, or the beam diameter (d) at the surface (14a) of the optical element (14) lies below the threshold value (d c ) so that a reduction of the effectiveness of the suppression of degradation occurs,and at least one further device (25, 27) for the improved suppression of the degradation of the surface (14a) is assigned to the optical element (14).The invention also relates to an associated method for operating an optical assembly.
    • 本发明涉及一种光学组件,特别是用于EUV光刻的投影曝光设备,包括:用于产生工作波长的辐射(6)的光束产生系统,至少一个光学元件(13,14) 辐射(6)并且设置在残留气体气氛中,以及用于将至少一种气态成分供给到残留气体气氛中的进料装置,以便抑制光学元件(14)的表面(14a)的劣化, 其特征在于光学组件的所有光学元件的表面处的辐射(6)的光束直径(d)在光学元件的表面处,特别是在阈值(dc)之上,所以光束直径(d) 抑制气态组分的降解是有效的,或者光学元件(14)的表面(14a)处的光束直径(d)低于阈值(dc),使得降低 suppres 并且至少一个用于改善对表面(14a)的降解的抑制的装置(25,27)被分配给光学元件(14)。本发明还涉及一种用于操作 光学组件。
    • 3. 发明申请
    • VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINES SYSTEMS AUS WENIGSTENS EINEM ELEKTRISCHEN VERBRAUCHER UND EINER BRENNSTOFFZELLENANORDNUNG
    • 一种用于运行至少一个用电设备的系统及燃料电池装置
    • WO2010025752A1
    • 2010-03-11
    • PCT/EP2008/007265
    • 2008-09-05
    • DAIMLER AGWALTER, Markus
    • WALTER, Markus
    • H01M8/04
    • H01M8/04559H01M8/04589H01M8/0494
    • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betreiben eines Systems (1) aus wenigstens einem elektrischen Verbraucher (3) und einer Brennstoffzellenanordnung (2), von der eine elektrische Leistung (PBz) für den Verbraucher (3) bereitgestellt wird und die durch einen die bereitgestellte Leistung (PBz) repräsentierenden Ausgangsstrom (IBz) und eine die bereitgestellte Leistung (PBz) repräsentierende Ausgangsspannung (PBZ) sowie einen zugehörigen Arbeitspunkt (AP) charakterisiert ist, wobei anhand einer aktiven Variation einer oder eines durch den elektrischen Verbraucher (3) vorgegebenen Spannung (U) oder Strom (I) eine dynamische Leistungskennzahl (KMPP) ermittelt wird, anhand der der Arbeitspunkt (AP) der Brennstoffzellenanordnung (2) ermittelt und eingestellt wird.
    • 本发明涉及一种操作的系统(1)包括至少一个电负载从其中提供(3)和燃料电池组件(2),为消费者(3)的电功率(PBZ)的方法,并通过提供的电力 (PBZ)表示输出电流(IBZ)和表示输出电压(PBZ)和相关联的工作点(AP)所提供的功率(PBZ)的特征在于,其中(上一个的活性的变化或通过所述电负载(3)给定的电压U的基于 )或电流(I)具有的性能(KMPP的动态系数)的燃料电池组件(2)的工作点(AP)的基础上确定被确定和设置。
    • 5. 发明申请
    • VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM STEUERN EINES REAKTORS
    • 设备及其控制方法的反应器
    • WO2004015503A1
    • 2004-02-19
    • PCT/DE2003/002538
    • 2003-07-29
    • DAIMLERCHRYSLER AGWALTER, Markus
    • WALTER, Markus
    • G05B5/01
    • G05B5/01
    • Eine Steuervorrichtung für einen Reaktor (1) umfasst wenigstens einen Sensor (4) zum Erfassen einer für die Effektivität des Reaktors repräsentativen Größe und zum Liefern eines der erfassten Größe entsprechenden Messsignals, eine mit dem Sensor verbundene Steuereinheit (3) zum Ableiten wenigstens eines Steuersignals (e) von dem vom Sensor (4) gelieferten Messsignal (a) and wenigstens einen Aktor (2) zum Beeinflusen eines Prozessparameters des Reaktors (1) anhand des Steuersignals (e). Die Steuereinheit (3) erzeugt das Steuersignal (e) mit einem von der erfassten Größe abhängigen Gleichanteil und einer mit einer ersten Frequenz (f 1 ) oszillierenden Komponente and ist eingerichtet, den Gleichanteil anhand eines Verhältnisses zwischen der oszillierenden Komponente des Steuersignals (e) and einer mit der ersten Frequenz oszillierenden Komponente des Messsignals (a) festzulegen.
    • 用于反应器的控制装置(1)包括至少一个传感器(4),用于检测反应器的尺寸的效果的代表,和用于相应的测量信号,连接到传感器控制单元(3),用于导出至少一个控制信号提供所检测到的尺寸中的一个( 由传感器提供的e)测量信号(4)(a)和至少一个致动器(2),用于Beeinflusen反应器(1)(控制信号e的基础上的处理参数)。 所述控制单元(3)产生具有根据直流分量的检测到的尺寸的值的控制信号(S)和一个具有第一频率(F1)振荡成分和被布置成控制信号(一个或多个)的振动分量之间的关系的基础上的DC分量和 与所述测量信号(A)组的第一频率分量的振荡。
    • 8. 发明申请
    • VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINES SYSTEMS AUS MINDESTENS EINEM IN EINEM ELEKTRISCHEN NETZ ANGEORDNETEN ELEKTRISCHEN VERBRAUCHER UND EINEM BRENNSTOFFZELLENSYSTEM
    • 为经营的至少一个系统的电力法ARRANGED用电设备及燃料电池系统
    • WO2009049782A1
    • 2009-04-23
    • PCT/EP2008/008415
    • 2008-10-06
    • DAIMLER AGWALTER, Markus
    • WALTER, Markus
    • B60L11/18H01M8/04H01M16/00
    • H01M16/006B60L11/1824B60L11/1887B60L2210/10H01M8/04559H01M8/04567H01M8/04753H01M8/04888H01M8/04947H01M2250/20Y02T10/7072Y02T10/7216Y02T90/12Y02T90/121Y02T90/127Y02T90/14Y02T90/32Y02T90/34
    • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betreiben eines Systems aus mindestens einem in einem elektrischen Netz (6) angeordneten elektrischen Verbraucher (3) und einem Brennstoffzellensystem (1), von welchem eine elektrische Leistung in das elektrische Netz (6) eingespeist wird, wobei eine dem Brennstoffzellensystem (1) zugeführte Menge von Medien entsprechend einer vom Brennstoffzellensystem (1) geforderten Leistung (P soll ) gesteuert wird, wobei eine Zwischenkreisspannung (U zκ ) im elektrischen Netz (6) auf einen vorgegebenen Wert geregelt wird, wobei die Zwischenkreisspannung (U zκ ) vom Brennstoffzellensystem (1) vorgegeben und mittels eines DC/DC-Wandlers (4), über den einem Energiespeicher (5) Energie aus dem elektrischen Netz (6) zugeführt und/oder über den dem elektrischen Netz (6) Energie aus dem Energiespeicher (5) zugeführt wird, geregelt wird oder dass dem elektrischen Netz (6) Energie direkt aus dem Energiespeicher (5) zugeführt und/oder dem Energiespeicher (5) Energie direkt aus dem elektrischen Netz (6) zugeführt wird, wobei das Brennstoffzelensystem (1) die Zwischenkreisspannung (U zκ ) selbst regelt.
    • 本发明涉及一种操作,其在电网络布置在至少一个(6)的电负载(3)和燃料电池系统(1),从该电网(6)中的电功率被馈送的系统中,一种方法,其中所述 燃料电池系统(1)的按照所涉及的燃料电池系统(1)功率(Psoll)所需的媒体供给量进行控制,其特征在于,一个中间电路电压(乌斯?)是电网(6)调节为预定值,其中,所述中间电路电压(乌斯?) 燃料电池系统(1)是预定的,由(4),通过该能量存储装置(5)和/或经由所述电网(6)从所述能量存储器提供的能量从电网(6)的能量的DC / DC转换器的装置( 5)被供给,被控制,或者,所述电网络(6)从所述能量存储装置(5)和/或所述能量存储装置(5)供给能量的能量直接 直接从电网(6)被提供,其中,所述Brennstoffzelensystem(1)本身调节中间电路电压(乌斯?)。