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1. 发明申请

WO2019120387A1 VERFAHREN ZUM BETRIEB EINER ABSCHEIDEANLAGE 审中-公开
公开(公告)号：WO2019120387A1
公开(公告)日：2019-06-27
申请号：PCT/DE2018/101037
申请日：2018-12-20
申请人： CENTROTHERM INTERNATIONAL AG
发明人： SCHULZ, Sebastian Hubertus , GUGGOLZ, Lars , HAASE, Josef , MÜLLER, Reiner
IPC分类号： C23C16/50 , C23C16/44 , H01J37/32 , C23C16/40
CPC分类号： C23C16/4412 , C23C16/403 , C23C16/4405 , H01J37/32477 , H01J37/32834 , H01J37/32853 , H01J37/32871
摘要： Verfahren zum Betrieb einer Abscheideanlage, bei welchem eine Prozessschicht auf einem zu beschichtenden Objekt abgeschieden wird (22), vor dem Abscheiden (22) der Prozessschicht auf dem zu beschichtenden Objekt ein an einer Wandung (40) einer Prozesskammer oder an einer Wandung (40) einer mit der Prozesskammer verbundenen Abgasstrecke der Abscheideanlage angelagertes Edukt (42) einer unerwünschten Reaktion mittels einer Bindesubstanz (44) chemisch umgesetzt wird (16) in wenigstens ein Produkt (46, 48) und dieses wenigstens eine Produkt (46, 48) aus der Abscheideanlage abgeführt wird (18).

2. 发明申请

WO2019120386A1 VERFAHREN ZUM BETRIEB EINER ABSCHEIDEANLAGE SOWIE ABSCHEIDEANLAGE 审中-公开
公开(公告)号：WO2019120386A1
公开(公告)日：2019-06-27
申请号：PCT/DE2018/101036
申请日：2018-12-20
申请人： CENTROTHERM INTERNATIONAL AG
发明人： SCHULZ, Sebastian Hubertus , GUGGOLZ, Lars , HAASE, Josef , MÜLLER, Reiner
IPC分类号： C23C16/44 , C23C16/30 , C23C16/40 , C23C16/50 , H01J37/32
CPC分类号： C23C16/4412 , C23C16/403 , C23C16/4405 , H01J37/32477 , H01J37/32834 , H01J37/32853 , H01J37/32871
摘要： Verfahren zum Betrieb einer Abscheideanlage (20) mit einer eine Vakuumpumpe (30) aufweisenden Abgasstrecke (31), bei welchem eine an einer Wandung (23) der Abgasstrecke (31) parasitär abgeschiedene Schicht (40; 50) mittels eines Gases (42; 52) zumindest teilweise chemisch umgesetzt wird (10) und bei der chemischen Umsetzung (10) ein Bestandteil (44; 54) der parasitär abgeschiedenen Schicht (40; 50) in eine Gasphase überführt wird (12), sowie Abscheideanlage (20) zur Durchführung des Verfahrens.

3. 发明申请

WO2019120358A1 VERFAHREN ZUM BETRIEB EINER ABSCHEIDEANLAGE 审中-公开
公开(公告)号：WO2019120358A1
公开(公告)日：2019-06-27
申请号：PCT/DE2018/100742
申请日：2018-08-29
申请人： CENTROTHERM INTERNATIONAL AG
发明人： SCHULZ, Sebastian Hubertus , GUGGOLZ, Lars , HAASE, Josef , MÜLLER, Reiner
IPC分类号： C23C16/44 , H01J37/32
CPC分类号： C23C16/4412 , C23C16/403 , C23C16/4405 , H01J37/32477 , H01J37/32834 , H01J37/32853 , H01J37/32871
摘要： Verfahren zum Betrieb einer Abscheideanlage (20), bei welchem in der Abscheideanlage (20) eine Zwischenschicht (50a) abgeschieden wird (10) und nachfolgend zum Zwecke einer Beschichtung von in der Abscheideanlage (20) angeordneten Objekten (26) in der Abscheideanlage (20) wenigstens eine Prozessschicht (52a) abgeschieden wird (12).

4. 发明申请

WO2018178289A1 PLASMAGENERATOR, PLASMA-BEHANDLUNGSVORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM GEPULSTEN BEREITSTELLEN VON ELEKTRISCHER LEISTUNG 审中-公开
公开(公告)号：WO2018178289A1
公开(公告)日：2018-10-04
申请号：PCT/EP2018/058193
申请日：2018-03-29
申请人： CENTROTHERM INTERNATIONAL AG
发明人： SCHULZ, Sebastian Hubertus , PERNAU, Thomas , NACHBAUER, Florian , WALK, Felix
IPC分类号： H01J37/32
摘要： Es sind Plasmagenerator und ein Verfahren zum gepulsten Bereitstellen von elektrischer Leistung mit einer Frequenz von wenigstens 40KHz an wenigstens zwei Prozesskammern, beschrieben. Der Plasmagenerator weist folgendes auf: eine Steuereinheit die geeignet ist Prozessdaten über Prozesse in den wenigstens zwei Prozesskammern zu erhalten und auszuwerten, ein regelbares Netzteil mit einem Ausgang, das geeignet ist ansprechend auf ein Steuersignal von der Steuereinheit an seinem Ausgang einen Gleichstrom mit einer vorbestimmten Spannung und/oder Stärke auszugeben, und eine Schalteinheit mit einem ersten Eingang, der mit dem Ausgang des Netzteils verbunden ist, und mit wenigstens zwei Schalteinheitsausgängen zur jeweiligen Verbindung mit einer der wenigstens zwei Prozesskammern. Die Schalteinheit ist geeignet, aus einem Gleichstrom am Eingang einen Wechselstrom mit einer vorbestimmten Frequenz von wenigstens 40KHz als ein Ausgangssignal zu formen und das Ausgangssignal ansprechend auf ein Steuersignal von der Steuereinheit, als Puls selektiv für vorbestimmte Pulsdauer an einen der Schalteinheitsausgänge auszugeben. Die Steuereinheit ist geeignet Leistungsanforderungen der wenigstens zwei Prozesskammern zu koordinieren und das Netzteil und die Schalteinheit derart anzusteuern, dass an den jeweiligen mit den Prozesskammern in Verbindung stehenden Schalteinheitsausgängen jeweils im Wesentlichen die den Leistungsanforderungen entsprechende Leistung über einen Zeitraum als Pulse zur Verfügung gestellt wird, wobei die Pulse der jeweiligen Prozesskammern so zeitlich so zueinander versetzt sind, dass die Prozesskammern zeitgleich betrieben werden können.

5. 发明申请

WO2020070214A1 PLASMA-BEHANDLUNGSVORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM AUSGEBEN VON PULSEN ELEKTRISCHER LEISTUNG AN WENIGSTENS EINE PROZESSKAMMER 审中-公开
公开(公告)号：WO2020070214A1
公开(公告)日：2020-04-09
申请号：PCT/EP2019/076754
申请日：2019-10-02
申请人： CENTROTHERM INTERNATIONAL AG
发明人： SCHULZ, Sebastian Hubertus , PERNAU, Thomas
IPC分类号： H01J37/32 , H01J37/34 , C23C14/54
摘要： Es sind eine Plasma-Behandlungsvorrichtung und ein Verfahren zum Ausgeben von Pulsen elektrischer Leistung an wenigstens eine Prozesskammer beschrieben. Die Plasma-Behandlungsvorrichtung weist einen Plasmagenerator zum Ausgeben von Pulsen elektrischer Leistung an wenigstens eine Prozesskammer auf, der Plasmagenerator konfiguriert ist die Pulse über eine Prozesszeit gemäß einer vorbestimmten Pulsfolge zu erzeugen und auszugeben. Der Plasmagenerator weis eine Arc-Einheit auf, die geeignet ist einen Überschlag oder einen bevorstehenden Überschlag, auch Arc-Event genannt, zu erkennen und darauf ansprechend einen Puls der an die Prozesskammer ausgegeben wird oder ausgegeben werden soll, abzubrechen, zu verändern und/oder ausfallen zu lassen, was als Arc-Eingriff bezeichnet wird. Ferner ist wenigstens eine Steuereinheit vorgesehen, die konfiguriert ist, um ein Verfahren auszuführen, das folgendes aufweist: das Bestimmen oder Empfangen einer Prozesszeit und Pulsfolge für die Prozesskammer in/an einer Steuereinheit, das Ansteuern eines Plasmagenerators um über die bestimmte Prozesszeit hinweg die Pulsfolge auszugeben, das Erkennen eines Arc-Events, das einen Überschlag oder einen bevorstehenden Überschlag anzeigt, ansprechend auf das Erkennen eines Arc-Events das Durchführen eines Arc-Eingriffs der das Abbrechen, Verändern und/oder Ausfallenlassen eines Pulses, der an die Prozesskammer ausgegeben wird oder ausgegeben werden soll, das Erhalten von Daten über Arc-Eingriffe und Bestimmen anhand der Daten eine Prozesszeitverlängerung mit entsprechender Pulsfolge, um eine durch die Arc-Eingriffe bedingte Leistungsreduzierung wenigsten teilweise zu kompensieren, und das Ansteuern des Plasmagenerators, um im Anschluss an die bestimmte Prozesszeit über die Dauer der bestimmten Prozesszeitverlängerung hinweg die entsprechende Pulsfolge auszugeben

6. 发明申请

WO2020069989A1 TRANSPORTEINHEIT UND VERFAHREN FÜR PARALLELES EINFAHREN ODER AUSFAHREN VON SUBSTRATTRÄGERN IN PROZESSROHRE 审中-公开
公开(公告)号：WO2020069989A1
公开(公告)日：2020-04-09
申请号：PCT/EP2019/076147
申请日：2019-09-27
申请人： CENTROTHERM INTERNATIONAL AG
发明人： LEICHTLE, Roland , REIZE, Ralf , SCHULZ, Sebastian Hubertus
IPC分类号： H01L21/677
摘要： Es sind eine Transporteinheit für paralleles Einfahren oder Ausfahren von Substratträgern, insbesondere von Waferbooten für Halleitersubstrate, in parallele Prozessrohre bzw. aus diesen heraus, sowie ein Verfahren zum gleichzeitigen Beladen von parallelen, horizontal beabstandeten Prozessrohren offenbart. Die Transporteinheit weist eine horizontale Führung auf, die sich geradlinig in einer ersten Richtung erstreckt, die einer Richtung zum Einfahren oder Ausfahren von Substratträgern entspricht, eine vertikale Führung, die in der ersten Richtung entlang der horizontalen Führung bewegbar geführt ist, einen Gabelträger, der entlang der vertikalen Führung auf und ab bewegbar geführt ist sowie zwei langgestreckte Gabelelemente, die am Gabelträger angebracht und mit diesem entlang der vertikalen Führung bewegbar sind, wobei sich jedes Gabelelement in der ersten Richtung erstreckt und konfiguriert ist einen Substratträger aufzunehmen, und wobei die Gabelelemente derart am Gabeiträger angebracht sind, dass die Gabelelemente horizontal in einer zweiten Richtung senkrecht zur ersten Richtung bewegbar sind. Ferner weist die Transporteinheit Antriebselemente zum steuerbaren Bewirken einer Bewegung der vertikalen Führung entlang der horizontalen Führung, einer Bewegung des Gabelträgers entlang der vertikalen Führung und einer Bewegung der Gabelelemente in der zweiten Richtung. Das Verfahren zum gleichzeitigen Beladen weist folgende Schritte auf: Beladen von zwei langgestreckten sich parallel in der ersten Richtung erstreckenden, horizontal beabstandeten Gabelelementen mit jeweils einem Substratträger; gemeinsames vertikales Ausrichten der Gabelelemente mit den Prozessrohren; horizontales Ausrichten der Gabelelemente mit Substratträger zu den Prozess rohren durch horizontale Bewegung wenigstens eines Gabelelements in einer zweiten Richtung senkrecht zur ersten Richtung; gemeinsames horizontales Einfahren der Gabelelemente mit Substratträger entlang der ersten Richtung in die Prozessrohre derart, dass jeweils ein Gabelelement mit Substratträger in eine entsprechendes der Prozessrohre einfährt; gemeinsames Absetzen der Substratträger im jeweiligen Prozess rohr; und gemeinsames Ausfahren der Gabelelemente aus den Prozessrohren.

7. 发明申请

WO2019038327A1 BEHANDLUNGSVORRICHTUNG FÜR SUBSTRATE UND VERFAHREN ZUM BETRIEB EINER SOLCHEN BEHANDLUNGSVORRICHTUNG 审中-公开
公开(公告)号：WO2019038327A1
公开(公告)日：2019-02-28
申请号：PCT/EP2018/072666
申请日：2018-08-22
申请人： CENTROTHERM INTERNATIONAL AG
发明人： SCHULZ, Sebastian Hubertus , GUGGOLZ, Lars , PERNAU, Thomas
IPC分类号： C23C16/44 , H01L21/67 , H01J37/32 , F04C28/02 , F04D25/16 , B01D53/74 , F04D25/00
摘要： Es wird eine Vorrichtung zum Bereitstellen von Vakuum an unterschiedliche Vakuumeinheiten, insbesondere eine Behandlungsvorrichtung für Substrate, insbesondere Halbleitersubstrate und Substrate für die Photovoltaik sowie ein Verfahren zum Betrieb einer solchen Vorrichtung beschrieben. Die Behandlungsvorrichtung weist folgendes auf: wenigstens drei voneinander getrennte Vakuumeinheiten, eine erste Pumpe und ein erstes Leitungssystem welches die erste Pumpe mit jeder der Vakuumeinheiten verbindet, eine zweite Pumpe und ein zweites Leitungssystem welches die zweite Pumpe mit jeder der Vakuumeinheiten verbindet, wenigstens eine der Anzahl der Vakuumeinheiten entsprechende Anzahl von ersten Ventilen, die derart im ersten Leitungssystem angeordnet sind, dass jeder Vakuumeinheit ein erstes Ventil zugeordnet ist, um die Verbindung zwischen der entsprechenden Vakuumeinheit und der ersten Pumpe zu steuern, wenigstens eine der Anzahl der Vakuumeinheiten entsprechende Anzahl von zweiten Ventilen, die derart im zweiten Leitungssystem angeordnet sind, dass jeder Vakuumeinheit ein zweites Ventil zugeordnet ist, um die Verbindung zwischen der entsprechenden Vakuumeinheit und der zweiten Pumpe zu steuern, und eine Steuereinheit zum Ansteuern wenigstens der ersten und zweiten Ventile, um individuell ein Abpumpen der Vakuumeinheiten über die erste und/oder die zweite Pumpe zu steuern. Beim Betrieb der Behandlungsvorrichtung werden die jeweiligen Vakuumeinheiten bevorzugt über die zweite Pumpe auf einen vorbestimmten Druck abgepumpt und während einer Prozessierung über die erste Pumpe auf einem vorbestimmten Druck gehalten, wobei während des Abpumpens die Verbindung zwischen der jeweiligen Vakuumeinheit und der ersten Pumpe geschlossen ist, und während der Prozessierung die Verbindung zwischen der jeweiligen Vakuumeinheiten und der zweiten Pumpe geschlossen ist.

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