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1. 发明申请

WO2009043578A1 ILLUMINATION SYSTEM OPTICAL ELEMENT WITH AN ELECTRICALLY CONDUCTIVE REGION 审中-公开
标题翻译：具有电导电区域的照明系统光学元件
公开(公告)号：WO2009043578A1
公开(公告)日：2009-04-09
申请号：PCT/EP2008/008350
申请日：2008-10-02
申请人： CARL ZEISS SMT AG , WOLSCHRIJN, Bastiaan, Theodoor , EHM, Dirk, Heinrich , WARM, Berndt
发明人： WOLSCHRIJN, Bastiaan, Theodoor , EHM, Dirk, Heinrich , WARM, Berndt
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70141 , G03F7/70258
摘要： Optical element, comprising first regions which reflect or transmit the light falling on the optical element, and further comprising at least second regions which are in each instance separated by a distance from the first region and which at least partially surround the first region, wherein the second regions are designed to be at least in part electrically conductive and are electrically insulated from the first regions, and wherein the optical element comprises a carrier element (60) and at least two first regions in the form of mirror facets which are arranged on the carrier element, and the respective second regions (61) which are arranged with a separation from the mirror facets on the carrier element (60) are electrically insulated against the carrier element as well as against the mirror facet, and at least one mirror facet is surrounded by an electrically conductive second region.
摘要翻译：光学元件包括反射或透射落在光学元件上的光的第一区域，并且还包括至少第二区域，其至少第二区域在每个情况下与第一区域分开并且至少部分地围绕第一区域，其中，第二区域被设计为至少部分导电并且与第一区域电绝缘，并且其中光学元件包括载体元件（60）和至少两个呈镜面形式的第一区域，其布置在载体元件和与载体元件（60）上的镜面分开设置的相应的第二区域（61）与载体元件以及镜面相电绝缘，并且至少一个镜面是被导电的第二区域包围。

2. 发明申请

WO2010034472A1 ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的照明系统
公开(公告)号：WO2010034472A1
公开(公告)日：2010-04-01
申请号：PCT/EP2009/006856
申请日：2009-09-23
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BACH, Florian , BENZ, Daniel , WALDIS, Severin , WERBER, Armin , WARM, Berndt
发明人： BACH, Florian , BENZ, Daniel , WALDIS, Severin , WERBER, Armin , WARM, Berndt
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70058 , G03F7/70116 , G03F7/70141 , G03F7/70266 , G03F7/70291 , G03F7/70891
摘要： An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus (10) comprises a primary light source (30), a system pupil surface (70) and a mirror array (46). The mirror array (46) is arranged between the primary light source (30) and the system pupil surface (70) and comprises a plurality of adaptive mirror elements (M ij ). Each mirror element (M ij ) comprises a mirror support (100) and a reflective coating (102) and is configured to direct light (34) produced by the primary light source (30) towards the system pupil surface (70). Preferably the mirror elements (M ij ) are tiltably mounted with respect to a support structure (110). According to the invention the mirror elements (M ij ) comprise structures (100, 102) having a different coefficient of thermal expansion and being fixedly attached to one another. A temperature control device (90) is configured to variably modify the temperature distribution within the structures so as to change the shape of the mirror elements.
摘要翻译：微光刻投影曝光装置（10）的照明系统包括主光源（30），系统光瞳表面（70）和反射镜阵列（46）。镜阵列（46）布置在主光源（30）和系统光瞳表面（70）之间，并且包括多个自适应镜元件（Mij）。每个镜元件（Mij）包括镜支撑件（100）和反射涂层（102），并且被配置为将由主光源（30）产生的光（34）引向系统光瞳表面（70）。优选地，镜元件（Mij）相对于支撑结构（110）可倾斜地安装。根据本发明，镜元件（Mij）包括具有不同热膨胀系数并且彼此固定地附接的结构（100,102）。温度控制装置（90）被配置为可变地修改结构内的温度分布，以便改变反射镜元件的形状。

3. 发明申请

WO2005083524A2 VERFAHREN ZUM AUSRICHTEN DER OBERFLÄCHE EINES SUBSTRATS 审中-公开
标题翻译：方法基板的把表面
公开(公告)号：WO2005083524A2
公开(公告)日：2005-09-09
申请号：PCT/EP2005/002026
申请日：2005-02-25
申请人： CARL ZEISS SMT AG , WARM, Berndt
发明人： WARM, Berndt
IPC分类号： G03F9/00
CPC分类号： G03F7/70783 , G03F7/707
摘要： Bei einem Verfahren zum Ausrichten der Oberfläche eines Substrates (6), insbesondere eines Wafers, wird das Substrat (6) auf ein Substratufnahmeteil (3) aufgelegt, wonach durch Stellkräfte, die auf eine Auflagefläche (3a) des Substrataufnahmeteils (3) wirken, die Oberfläche des Substrates (6) ausgerichtet wird.
摘要翻译：在用于在基板（6）的表面对准，特别是晶片的方法，所述衬底（6）上的Substratufnahmeteil（3）被放置，其作用通过恢复力，这在基片接收部分的轴承面（3a）（3），所述基板（6）的表面被对齐。

4. 发明申请

WO2010049020A1 BELEUCHTUNGSOPTIK FÜR DIE EUV-MIKROLITHOGRAPHIE 审中-公开
标题翻译：照明光学系统微EUV光刻
公开(公告)号：WO2010049020A1
公开(公告)日：2010-05-06
申请号：PCT/EP2009/005113
申请日：2009-07-14
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DENGEL, Guenther , WITTICH, Gero , DINGER, Udo , STUETZLE, Ralf , ENDRES, Martin , OSSMANN, Jens , WARM, Berndt
发明人： DENGEL, Guenther , WITTICH, Gero , DINGER, Udo , STUETZLE, Ralf , ENDRES, Martin , OSSMANN, Jens , WARM, Berndt
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70141 , G03F7/702 , G03F7/70558
摘要： Eine Beleuchtungsoptik (47) für die EUV-Mikrolithographie dient zur Ausleuchtung eines Objektfeldes (19) mit einem EUV-Nutzstrahlungsbündel (3). Zur Vorgabe von Beleuchtungsparametern dienen Vorgabeeinrichtungen (6, 10). Zur Korrektur der Intensitätsverteilung und/oder der Winkelverteilung der Objektfeldbeleuchtung dient eine Beleuchtungs-Korrektureinrichtung. Diese hat eine zumindest teilweise mit dem Nutzstrahlungsbündel (3) vor dem Objektfeld (19) beaufschlagte und gesteuert angetrieben verlagerbare optische Komponente (13). Ein Detektor (50, 53) dient zur Erfassung eines der Beleuchtungsparameter. Eine Auswerteeinrichtung (31) dient zur Auswertung der Detektordaten und zur Umsetzung von diesen in Steuersignale. Mindestens ein Aktor (61, 62) dient zur Verlagerung der optischen Komponente (13). Während Belichtungen werden die Stellelemente so mit den Detektorsignalen geregelt, dass während der Dauer einer Projektionsbelichtung eines maximale Verlagerung von Rändern des Objektfeldes (19) zu einem zu belichtenden Objekt (18) von unter 8 μm gewährleistet ist. Es resultiert eine Beleuchtungsoptik, mit der die Einhaltung vorgegebener Beleuchtungsparameter auch bei höchsten Präzisionsanforderungen gewährleistet
摘要翻译：用于EUV微光刻的照明光学部件（47）用于与EUVNutzstrahlungsbündel（3）照明物场（19）。用于指定照明参数指示装置用作（6，10）。照明校正装置用于校正的强度分布和/或物场照明的角度分布。这已作用于至少部分与所述物场（19）和控制驱动可移动光学部件（13）的Nutzstrahlungsbündel（3）的上游。的检测器（50，53）用于检测所述照明参数中的一个。的评估装置（31），用于将检测器数据的评估并将其转换成控制信号。至少一个致动器（61，62）用于将光学部件（13）的位移。在曝光被控制以便与被保证在物场（19）的边缘的最大位移的投影曝光的持续时间的对象的检测器信号中的调节元件，以小于8微米（18）被暴露。其结果是与即使在最高的精度要求具有特定照明参数确保符合的照明光学部件

5. 发明申请

WO2009132756A1 ILLUMINATION OPTICS FOR EUV MICROLITHOGRAPHY AND ILLUMINATION SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS COMPRISING AN ILLUMINATION OPTICS OF THIS TYPE 审中-公开
标题翻译：用于EUV微结构和照明系统的照明光学和包含这种类型的照明光学的投影曝光装置
公开(公告)号：WO2009132756A1
公开(公告)日：2009-11-05
申请号：PCT/EP2009/002584
申请日：2009-04-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , WARM, Berndt , STEIGERWALD, Christian , ENDRES, Martin , STÜTZLE, Ralf , OSSMANN, Jens , SCHARNWEBER, Ralf , HAUF, Markus , DINGER, Udo , WALDIS, Severin , KIRCH, Marc , HARTJES, Joachim
发明人： FIOLKA, Damian , WARM, Berndt , STEIGERWALD, Christian , ENDRES, Martin , STÜTZLE, Ralf , OSSMANN, Jens , SCHARNWEBER, Ralf , HAUF, Markus , DINGER, Udo , WALDIS, Severin , KIRCH, Marc , HARTJES, Joachim
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70083
摘要： An illumination optics for EUV microlithography serves for guiding an illumination light bundle from a radiation source to an object field with an extension ratio between a longer field dimension (x) and a shorter field dimension (y), the ratio being considerably greater than 1. A field facet mirror (13) has a plurality of field facets (19) for setting defined illumination conditions in the object field. A following optics downstream of the field facet mirror (13) serves for transmitting the illumination light into the object field (5). The following optics comprises a pupil facet mirror (14) with a plurality of pupil facets (27). The field facets (19) are in each case individually allocated to the pupil facets (27) so that portions of the illumination light bundle (10) impinging upon in each case one of the field facets (19) are guided on to the object field (5) via the associated pupil facet (27). The field facet mirror (13) not only comprises a plurality of basic illumination field facets (19 G ) which provide a basic illumination of the object field (5) via associated basic illumination pupil facets (27 G ) but also a plurality of correction illumination field facets (19 K ) which provide for a correction of the illumination of the object field (5) via associated correction illumination pupil facets (27 K ). The result is an illumination optics which allows unwanted variations of illumination parameters, for instance an illumination intensity distribution or an illumination angle distribution, to be corrected across the object field.
摘要翻译：用于EUV微光刻的照明光学器件用于将照明光束从辐射源引导到物场，其具有在较长场尺寸（x）和较短场尺寸（y）之间的延伸比，该比率远大于1。场面反射镜（13）具有多个场面（19），用于在对象场中设定定义的照明条件。场面反射镜（13）下游的跟随光学器件用于将照明光发射到物场（5）中。以下光学器件包括具有多个光瞳面（27）的光瞳小面镜（14）。场分面（19）在每种情况下分别被分配给光瞳面（27），使得照射光束（10）中的每一个场景面（19）中的一个照射的部分被引导到物场（5）通过相关联的光瞳面（27）。场面反射镜（13）不仅包括通过相关联的基本照明光瞳（27G）提供对象场（5）的基本照明的多个基本照明场面（19G），而且还包括多个校正照明场面（19K），其经由相关联的校正照明光瞳面（27K）提供对物场（5）的照明的校正。结果是照明光学元件允许在整个对象场校正照明参数的不期望的变化，例如照明强度分布或照明角度分布。

6. 发明申请

WO2008101656A2 METHOD FOR PRODUCING FACET MIRRORS AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：生产面镜和投影曝光装置的方法
公开(公告)号：WO2008101656A2
公开(公告)日：2008-08-28
申请号：PCT/EP2008/001247
申请日：2008-02-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , WARM, Berndt , RENNON, Sigfried , DINGER, Udo , BAIER, Jürgen , BURKART, Stefan , KOUROULIS, Christos , CHUNG, Hin Yiu Anthony , WIESNER, Stefan , ENKISCH, Hartmut , DENGEL, Günther
发明人： WARM, Berndt , RENNON, Sigfried , DINGER, Udo , BAIER, Jürgen , BURKART, Stefan , KOUROULIS, Christos , CHUNG, Hin Yiu Anthony , WIESNER, Stefan , ENKISCH, Hartmut , DENGEL, Günther
IPC分类号： G02B5/09 , G03F7/20 , G02B7/18
CPC分类号： G02B5/08 , B29D11/00596 , G02B5/09 , G03F7/702 , G03F7/70825
摘要： The invention relates to methods for producing mirrors, in particular facet mirrors, and projection exposure apparatuses equipped with the mirrors according to the invention.
摘要翻译：本发明涉及用于生产反射镜，特别是小平面反射镜的方法以及配备有根据本发明的反射镜的投影曝光装置。

7. 发明申请

WO2010149436A1 ILLUMINATION OPTICAL UNIT WITH A REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT COMPRISING A MEASURING DEVICE 审中-公开
标题翻译：具有包含测量装置的反射光学元件的照明光学单元
公开(公告)号：WO2010149436A1
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：PCT/EP2010/056966
申请日：2010-05-20
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , MELZER, Frank , STAICU, Adrian , BAIER, Jürgen , WARM, Berndt , KNÜFERMANN, Markus , LAYH, Michael
发明人： MELZER, Frank , STAICU, Adrian , BAIER, Jürgen , WARM, Berndt , KNÜFERMANN, Markus , LAYH, Michael
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/7085 , B82Y10/00 , G21K1/067 , G21K2201/061 , G21K2201/067
摘要： The invention relates to a reflective optical element comprising a substrate (1), a reflective coating (3) and a measuring device (5). In this case, the measuring device (5) is contigured such that it is arranged at leapt partly between the coating (3) and the substrate (1). What is thereby achieved is that ail regions of the optical element on which relevant radiation impinges act in reflective fashion and, in addition, it is possible to measure the radiation at different locations. This has the further advantage that no additional loss occurs as a result of a portion of the radiation having to be screened out for measuring and monitoring purposes. Instead, that portion of the radiation which is not reflected anyway is used for these purposes.
摘要翻译：本发明涉及一种包括基板（1），反射涂层（3）和测量装置（5）的反射光学元件。在这种情况下，测量装置（5）被连接成使得其部分地布置在涂层（3）和基板（1）之间。由此实现的是，相关辐射所照射的光学元件的区域以反射方式起作用，此外，可以在不同位置测量辐射。这具有的另外的优点是，由于辐射的一部分必须被筛选以用于测量和监视目的，不会发生额外的损失。相反，反射无反射的那部分辐射被用于这些目的。

8. 发明申请

WO2013097881A1 IMAGE PROCESSING METHOD FOR DETERMINING FOCUS DEPTH OF A REFRACTIVE LASER 审中-公开
标题翻译：用于确定反射激光的焦点深度的图像处理方法
公开(公告)号：WO2013097881A1
公开(公告)日：2013-07-04
申请号：PCT/EP2011/006605
申请日：2011-12-29
申请人： WAVELIGHT GMBH , WARM, Berndt
发明人： WARM, Berndt
IPC分类号： A61F9/008
CPC分类号： A61F9/00825 , A61F2009/00844 , A61F2009/00855 , G06T7/521
摘要： The present invention relates to a laser apparatus, system, and method for determining a depth of a focus point of a laser beam. An interface device is coupleable to the laser apparatus and has an applanation element comprising a front surface and a back surface. A laser beam having a predefined shape is focussed through the applanation element at a focus point. A superimposed image of a spurious reflection, which is reflected from the front surface of the applanation element, with a standard reflection, which is reflected from the back surface of the applanation element, is detected. The spurious reflection is then filtered out of the superimposed image. Based on the remaining standard reflection, the depth of the focus point of the laser beam can be determined.
摘要翻译：本发明涉及一种用于确定激光束的焦点深度的激光装置，系统和方法。接口装置可耦合到激光装置，并且具有包括前表面和后表面的压平元件。具有预定形状的激光束在焦点处聚焦通过压平元件。检测从压延元件的背面反射的标准反射从压延元件的前表面反射的伪反射的叠加图像。然后将杂散反射从叠加的图像中滤出。基于剩余的标准反射，可以确定激光束的焦点的深度。

9. 发明申请

WO2003071221A3 ANNÄHERUNGSSENSOR, INSBESONDERE FÜR DIE ZÜNDAUSLÖSUNG DES GEFECHTSKOPFES EINER ABWEHRGRANATE GEGEN EIN ANFLIEGENDES PROJEKTIL 审中-公开
公开(公告)号：WO2003071221A3
公开(公告)日：2003-08-28
申请号：PCT/EP2003/001528
申请日：2003-02-15
申请人： DIEHL MUNITIONSSYSTEME GMBH & CO. KG , STEUER, Raimar , WARM, Berndt
发明人： STEUER, Raimar , WARM, Berndt
IPC分类号： G02B13/14
摘要： Ein Annäherungssensor (11) soll den Gefechtskopf einer Abwehrgranate initiieren, die einem angreifenden Projektil vom zu schützenden Objekt aus entgegengefeuert wird, um die Funktionalität des Angreifers zu stören oder sogar zu zerstören. Dazu soll der Annäherungssensor (11) noch nicht darauf ansprechen, dass der von der Granate abzuwehrende Gegner in deren Flugrichtung voraus erscheint, vielmehr soll der Annäherungssensor erst dann ansprechen, wenn der abzuwehrende Gegner in einem wirkoptimalen Abstand schräg voraus erfasst wird. Eine solche hohlkegelwandungsförmige Ansprechcharakteristik ergibt sich, wenn ein ringförmiges Detektorelement (12) in der Bildfokusebene hinter einer positiven Zylinderlinse (14) angeordnet ist.

10. 发明申请

WO2012110053A1 APPARATUS FOR MEASURING OPTICAL PROPERTIES OF AN OBJECT 审中-公开
标题翻译：用于测量物体的光学特性的装置
公开(公告)号：WO2012110053A1
公开(公告)日：2012-08-23
申请号：PCT/EP2011/000713
申请日：2011-02-15
申请人： WAVELIGHT GMBH , WARM, Berndt , SCHMID, Stefan , GORSCHBOTH, Claudia , DONITZKY, Christof
发明人： WARM, Berndt , SCHMID, Stefan , GORSCHBOTH, Claudia , DONITZKY, Christof
IPC分类号： A61B3/12 , A61B3/10 , A61B3/103 , A61B3/18
CPC分类号： A61B3/102 , A61B3/1015 , G01B9/02091
摘要： An apparatus for measuring optical properties of an object - such as, in particular, an eye - comprises a wavefront sensor for surveying wavefront aberrations generated by the object and an optical coherence tomograph, so that both wavefront aberrations and structures of the object can be surveyed. For this purpose a broadband laser radiation-source (12) is provided for the OCT. A reference beam is generated with a retroreflector (32), and a beam-splitter (18) serves as optical component both for the wavefront determination and for the OCT.
摘要翻译：用于测量物体（特别是眼睛）的光学特性的装置包括用于测量由物体产生的波前像差和光学相干断层扫描仪的波前传感器，从而可以对物体的波前像差和结构进行调查。为此，为OCT提供宽带激光辐射源（12）。用后向反射器（32）生成参考光束，并且分束器（18）用作用于波前确定和OCT的光学部件。

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