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1. 发明申请

WO2004046641A1 VERFAHREN ZUM KALIBRIEREN EINES INTERFEROMETERS, VERFAHREN ZUM QUALIFIZIEREN EINES OBJEKTS UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES OBJEKTS 审中-公开
标题翻译：程序用于校准干涉，方法符合条件的对象及其制造方法的对象
公开(公告)号：WO2004046641A1
公开(公告)日：2004-06-03
申请号：PCT/EP2002/013091
申请日：2002-11-21
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FREIMANN, Rolf , DÖRBAND, Bernd , SCHILLKE, Frank , BEIERSDÖRFER, Susanne , SCHULTE, Stefan
发明人： FREIMANN, Rolf , DÖRBAND, Bernd , SCHILLKE, Frank , BEIERSDÖRFER, Susanne , SCHULTE, Stefan
IPC分类号： G01B9/02
CPC分类号： G01B9/02072 , G01B9/02039 , G01M11/005
摘要： Es wird ein Verfahren zum Kalibrieren eines Interferometers mit einem Kompensationssystem zur Vermessung einer asphärischen Oberfläche vorgeschlagen, welches umfasst: Bereitstellen des Interferometers (1) mit dem Kompensationssystem (25). Anordnen einer Referenzoptik-Baugruppe (29), welche einen Spiegel (37) mit einer vorbestimmten Spiegelfläche und ein von der Spiegelfläche (37) separates vorbestimmtes Diffraktionsmuster (39) Überlagern der zurücklaufenden Wellenfronten nach deren Durchlaufen des Kompensationssystems (25) mit einer Referenzwellenfront zu einem Interferenzmuster, und Bestimmen von optischen Eigenschaften des Interferometers (1) und des Kompensationssystems (25) aus dem Interferenzmuster.
摘要翻译：建议用的补偿系统，用于测量非球面表面，用于校准的干涉仪的方法，包括：提供所述干涉仪（1）到补偿系统（25）。布置参比光学装置组件（29），其包括具有预定反射镜表面和从反射镜表面（37）的反射镜（37）分开的预定的衍射图案（39）通过所述补偿系统（25）与参考波阵面到叠加其通过后返回的波前干涉图案，以及确定干涉仪（1）和从所述干涉图案的补偿系统（25）的光学特性。

2. 发明申请

WO2009007087A9 OPTICAL ELEMENT AND METHOD OF CALIBRATING A MEASURING APPARATUS COMPRISING A WAVE SHAPING STRUCTURE 审中-公开
公开(公告)号：WO2009007087A9
公开(公告)日：2009-01-15
申请号：PCT/EP2008/005547
申请日：2008-07-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HETZLER, Jochen , SCHILLKE, Frank , SCHULTE, Stefan , FREIMANN, Rolf , DÖRBAND, Bernd
发明人： HETZLER, Jochen , SCHILLKE, Frank , SCHULTE, Stefan , FREIMANN, Rolf , DÖRBAND, Bernd
IPC分类号： B24B13/06
摘要： An optical element has an optical surface, which optical surface is adapted to a non-spherical target shape, such that a long wave variation of the actual shape of the optical surface with respect to the target shape is limited to a maximum value of 0,2 nm, wherein the long wave variation includes only oscillations having a spatial wavelength equal to or larger than a minimum spatial wavelength of 10 mm.

3. 发明申请

WO2009007087A1 OPTICAL ELEMENT AND METHOD OF CALIBRATING A MEASURING APPARATUS COMPRISING A WAVE SHAPING STRUCTURE 审中-公开
标题翻译：光学元件和校准包含波形结构的测量装置的方法
公开(公告)号：WO2009007087A1
公开(公告)日：2009-01-15
申请号：PCT/EP2008/005547
申请日：2008-07-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HETZLER, Jochen , SCHILLKE, Frank , SCHULTE, Stefan , FREIMANN, Rolf , DÖRBAND, Bernd
发明人： HETZLER, Jochen , SCHILLKE, Frank , SCHULTE, Stefan , FREIMANN, Rolf , DÖRBAND, Bernd
IPC分类号： B24B13/06
CPC分类号： G01B9/021 , G01B9/02039 , G01B11/2441 , G01M11/025 , G01M11/0271 , Y10T29/49771
摘要： An optical element has an optical surface, which optical surface is adapted to a non-spherical target shape, such that a long wave variation of the actual shape of the optical surface with respect to the target shape is limited to a maximum value of 0,2 nm, wherein the long wave variation includes only oscillations having a spatial wavelength equal to or larger than a minimum spatial wavelength of 10 mm.
摘要翻译：光学元件具有光学表面，该光学表面适于非球形目标形状，使得光学表面的实际形状相对于目标形状的长波变化被限制为最大值0， 2nm，其中长波变化仅包括具有等于或大于10mm的最小空间波长的空间波长的振荡。

4. 发明申请

WO2008110239A1 DIFFRACTIVE COMPONENT, INTERFEROMETER ARRANGEMENT, METHOD FOR QUALIFYING A DUAL DIFFRACTION GRATING, METHOD OF MANUFACTURING AN OPTICAL ELEMENT, AND INTERFEROMETRIC METHOD 审中-公开
标题翻译：衍射成分，干涉仪布置，双折射光栅的鉴定方法，制造光学元件的方法和干涉法
公开(公告)号：WO2008110239A1
公开(公告)日：2008-09-18
申请号：PCT/EP2008/001022
申请日：2008-02-11
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHULTE, Stefan , HETZLER, Jochen , FREIMANN, Rolf , DREHER, Matthias , DÖRBAND, Bernd
发明人： SCHULTE, Stefan , HETZLER, Jochen , FREIMANN, Rolf , DREHER, Matthias , DÖRBAND, Bernd
IPC分类号： G01B9/02 , G02B5/18 , G02B5/32
CPC分类号： G02B27/4233 , G01N21/4788 , G01N2021/4792 , G02B5/1819 , G02B5/1823 , G02B27/4261
摘要： A diffractive component comprises a grating (25) including plural regions (A, A', B) of different types, wherein the gratings in the different regions differ with respect to lattice period and orientation. The different regions can be arranged according to an irregular pattern. Further, the gratings of the different types can be inverse to each other, or parameters of grating forming structures can vary between regions of the different types. A structural parameter of a dual grating is determined using a first phase function of the dual grating. A deviation of a surface of an optical element from a target surface is determined in an interferometric measurement using a second phase function of the dual grating taking into account the determined structural parameter of the grating. In an interferometric method using a diffraction grating harbouring different phase functions in different types of regions arranged in a superlattice for measuring a surface of an object perturbing superlattice diffraction orders are destructively interfered by adapting the diffraction grating having a periodicity of the superlattice that varies across the grating.
摘要翻译：衍射分量包括包括不同类型的多个区域（A，A'，B）的光栅（25），其中不同区域中的光栅相对于晶格周期和取向不同。可以根据不规则图案布置不同的区域。此外，不同类型的光栅可以彼此相反，或者光栅形成结构的参数可以在不同类型的区域之间变化。使用双光栅的第一相位函数来确定双光栅的结构参数。考虑到确定的光栅的结构参数，使用双光栅的第二相位函数在干涉测量中确定光学元件与目标表面的偏差。在使用在布置在超晶格中的不同类型的区域中具有不同相位函数的衍射光栅的干涉测量方法中，用于测量物体扰动超晶格衍射级的表面的衍射光栅通过使具有超过晶格周期性变化的周期性的衍射光栅受到破坏性干扰光栅。

5. 发明申请

WO2008012091A2 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM BESTIMMEN EINER ABWEICHUNG EINER TATSÄCHLICHEN FORM VON EINER SOLLFORM EINER OPTISCHEN OBERFLÄCHE 审中-公开
标题翻译：用于确定一个实际形式的偏差的方法和装置应该形成的光学表面
公开(公告)号：WO2008012091A2
公开(公告)日：2008-01-31
申请号：PCT/EP2007/006639
申请日：2007-07-26
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHILLKE, Frank , FREIMANN, Rolf , DREHER, Matthias
发明人： SCHILLKE, Frank , FREIMANN, Rolf , DREHER, Matthias
IPC分类号： G01M11/02 , G01B11/24
CPC分类号： G01B11/2441 , G01B9/02039
摘要： Ein Verfahren zum Bestimmen einer Abweichung einer tatsächlichen Form von einer Sollform einer optischen Oberfläche (12; 103) umfasst folgende Schritte: Bereitstellen einer eingehenden elektromagnetischen Messwelle (20; 113), Bereitstellen zweier diffraktiver Strukturen (47, 49; 145, 146, 141, 143), die jeweils darauf ausgelegt sind, die Wellenfront einer eintreffenden Welle umzuformen, Kalibrieren eines der beiden diffraktiven Strukturen (47, 49; 145, 146, 141, 143) durch Einstrahlen der eingehenden Messwelle (20; 113) auf die mindestens eine zu kalibrierende diffraktive Struktur (47, 49; 145, 146, 141, 143) und Bestimmen einer Kalibrierabweichung der tatsächlichen Wellenfront von einer Sollwellenfront der Messwelle (20; 113) nach deren Interaktion mit der mindestens einen zu kalibrierenden diffraktiven Struktur (47; 49; 145, 146, 141, 143), Anordnen der beiden diffraktiven Strukturen (47; 49; 145, 146, 141, 143) derart im Strahlengang der eingehenden Messwelle (20; 113), dass einzelne Strahlen der Messwelle beide diffraktive Strukturen (47; 49; 145, 146, 141, 143) durchstrahlen, und Umformen der eingehenden Messwelle (20; 113) mittels der beiden diffraktiven Strukturen (47; 49; 145, 146, 141, 143) in eine angepasste Messwelle (64; 114), deren Wellenfront an die Sollform der optischen Oberfläche (12; 103) angepasst ist, Anordnen der optischen Oberfläche (12; 103) im Strahlengang der angepassten Messwelle (64, 114), so dass die angepasste Messwelle (64; 114) mit der optischen Oberfläche (12; 103) in Interaktion tritt, sowie Vermessen der Wellenfront der angepassten Messwelle (64; 114) nach deren Interaktion mit der optischen Oberfläche (12; 103).
摘要翻译：一种用于从光学表面（12; 103）的所希望的形状确定实际形状的偏差的方法包括以下步骤：提供一个进入的电磁测量轴（20; 113），提供两个衍射结构（47，49; 145，146，141， 143），其每个被设计为变换入射波的波前，校准所述两个衍射结构中的一个（47，49;通过照射进来的测量轴（20 145,146，141，143）;在所述至少一个到113）校准衍射结构（47，49; 145，146，141，143），并且确定来自目标波前的测量轴（20; 113）的实际波前的校准偏差与所述至少一个相互作用后要被校准的衍射结构（47; 49; 145 ，146，141，143），布置两个衍射结构（47; 49; 145，146，141，143）中输入的测量轴（20的辐射通路; 113），该einz 测量轴两个衍射结构（47埃尔讷射线; 49; 由射线145，146，141，143）;以及形成输入测量轴（20;由所述两个衍射结构（47装置113）; 49; 145，146，141，143）成匹配测量轴（64; 114），该波前于光学表面的所需形状（12; 103）被适配为将所述光学表面（12; 103）在适于测量轴（64，114）的光束路径中，以使适于测量轴（64; 114）与所述光学表面（12 ; 103）相互作用，并测量适于测量轴（64的波前;根据它们与所述光学表面（12相互作用）114; 103）。

6. 发明申请

WO2011032572A1 METHOD OF MEASURING A SHAPE OF AN OPTICAL SURFACE AND INTERFEROMETRIC MEASURING DEVICE 审中-公开
标题翻译：测量光学表面和干涉测量装置形状的方法
公开(公告)号：WO2011032572A1
公开(公告)日：2011-03-24
申请号：PCT/EP2009/006754
申请日：2009-09-18
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , FREIMANN, Rolf , DÖRBAND, Bernd , SCHULTE, Stefan , HOF, Albrecht , RIEPENHAUSEN, Frank , MANGER, Matthias , NEUGEBAUER, Dietmar , ISSLER, Helmut , BICH, Armin
发明人： FREIMANN, Rolf , DÖRBAND, Bernd , SCHULTE, Stefan , HOF, Albrecht , RIEPENHAUSEN, Frank , MANGER, Matthias , NEUGEBAUER, Dietmar , ISSLER, Helmut , BICH, Armin
IPC分类号： G01B9/02 , G01B11/24 , G02B26/06 , G01M11/02
CPC分类号： G01B11/2441 , G01B9/02027 , G01B9/02039 , G01B9/02057 , G01B9/02072 , G01B2290/15 , G01M11/005 , G01M11/025 , G01M11/0271 , G02B3/02 , G02B5/10
摘要： A method of measuring a shape of an optical surface (14) of a test object (12) is provided. The method comprises the steps of: providing an interferometric measuring device (16) generating a measurement wave (18), arranging the interferometric measuring device (16) and the test object (12) consecutively at different measurement positions relative to each other, such that different regions (20) of the optical surface (14) are illuminated by the measurement wave (18), measuring the positional coordinates of the measuring device (16) at the different measurement positions in relation to the test object (12), obtaining surface region measurements by interferometrically measuring the wavefront of the measurement wave (18) after interaction with the respective region (20) of the optica! surface (14) using the measuring device (16) in each of the measurement positions, and determining the actual shape of the optical surface (14) by computationally combining the sub-surface measurements based on the measured positional coordinates of the interferometric measuring device (16) at each of the measurement positions.
摘要翻译：提供了一种测量被测物体（12）的光学表面（14）的形状的方法。该方法包括以下步骤：提供产生测量波的干涉测量装置（16），将干涉测量装置（16）和测试对象（12）相对于彼此连续地布置在不同的测量位置，使得通过测量波（18）照射光学表面（14）的不同区域（20），测量相对于测试对象（12）的不同测量位置处的测量设备（16）的位置坐标，获得表面通过在与光学器件的相应区域（20）相互作用之后通过干涉测量测量波（18）的波前进行区域测量。在每个测量位置中使用测量装置（16）的表面（14），并且通过基于所测量的干涉测量装置的位置坐标（基于所述测量装置的测量位置坐标）计算地组合所述子表面测量来确定所述光学表面（14）的实际形状 16）在每个测量位置。

7. 发明申请

WO2010000757A1 OPTISCHE ABBILDUNGSEINRICHTUNG MIT BESTIMMUNG VON ABBILDUNGSFEHLERN 审中-公开
标题翻译：有决心图像缺陷光学图像装置
公开(公告)号：WO2010000757A1
公开(公告)日：2010-01-07
申请号：PCT/EP2009/058224
申请日：2009-06-30
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FREIMANN, Rolf , WEGMANN, Uwe
发明人： FREIMANN, Rolf , WEGMANN, Uwe
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70491 , G01B9/02018 , G01B9/02028 , G01B9/02065 , G01B9/0209 , G01B11/002 , G01N21/95607 , G01N2021/95615 , G01N2021/95676 , G03F7/70 , G03F7/70258 , G03F7/706 , G03F7/7085
摘要： Die Erfindung betrifft unter anderem eine optische Abbildungseinrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einer Abbildungseinheit zum Abbilden eines Objektpunktes auf einem Bildpunkt und einer Messeinrichtung, wobei die Abbildungseinheit eine erste optische Elementgruppe mit wenigstens einem ersten optischen Element umfasst, die dazu ausgebildet ist, an der Abbildung des Objektpunktes auf dem Bildpunkt teilzunehmen, und die Messeinrichtung zum Bestimmen wenigstens eines beim Abbilden des Objektpunktes auf dem Bildpunkt auftretenden Abbildungsfehlers ausgebildet ist. Die Messeinrichtung umfasst wenigstens eine Messlichtquelle, eine zweite optische Elementgruppe und wenigstens eine Erfassungseinheit. Die Messlichtquelle sendet wenigstens ein Messlichtbündel, insbesondere mehrere Messlichtbündel, aus. Die zweite optische Elementgruppe umfasst wenigstens ein optisches Referenzelement und ein zweites optisches Element, die dazu ausgebildet sind, das wenigstens eine Messlichtbündel zur Erzeugung wenigstens eines Erfassungssignals auf die wenigstens eine Erfassungseinheit zu lenken. Das zweite optische Element weist eine definierte räumliche Beziehung mit dem ersten optischen Element auf. Das optische Referenzelement weist eine zumindest teilweise reflektierende erste optische Fläche und das zweite optische Element eine zumindest teilweise reflektierende zweite optische Fläche auf. Die Messeinrichtung ist zum Bestimmen des wenigstens einen Abbildungsfehlers unter Verwendung des wenigstens einen Erfassungssignals ausgebildet. Die erste optische Fläche und die zweite optische Fläche sind einander derart zugeordnet, dass eine Mehrfachreflektion des wenigstens einen Messlichtbündels zwischen ihnen erfolgt.
摘要翻译：本发明涉及特别的光学成像装置，特别是用于微光刻，具有用于一个对象点的成像的成像单元的图像点和测量装置，其中所述成像单元包括：第一光学元件组具有至少一个第一光学元件，其适于将像点上的对象点的成像参与，和测量装置，用于确定在所述像素中发生的图像缺陷时，至少所形成的物点的成像。所述测量装置包括至少一个测量光源，第二光学元件组和至少一个检测单元。测量光源发射至少一个测量光束，特别是多个从测量光束。第二光学元件组包括至少一个光学参考元件和其适于引导所述至少一个测量光束到至少一个检测单元上产生至少一个检测信号的第二光学元件。第二光学元件具有与所述第一光学元件限定的空间关系。光参考元件具有至少部分反射的第一光学表面和所述第二光学元件是至少部分反射第二光学表面。测量装置适于使用所述至少一个检测信号以确定所述至少一个成像像差。第一光学表面与第二光学表面被彼此相关联的，例如它们之间的至少一个测量光束的多次反射。

8. 发明申请

WO2006125609A1 METHOD OF ALIGNING AN OPTICAL SYSTEM 审中-公开
标题翻译：计算光学系统的方法
公开(公告)号：WO2006125609A1
公开(公告)日：2006-11-30
申请号：PCT/EP2006/004900
申请日：2006-05-23
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FREIMANN, Rolf , WAGEMANN, Ulrich
发明人： FREIMANN, Rolf , WAGEMANN, Ulrich
IPC分类号： G02B27/62 , G01M11/02 , G03F7/20 , G02B5/32
CPC分类号： G02B27/62 , G01B9/02039 , G01M11/0221 , G02B5/32 , G03F7/70258
摘要： A method of manufacturing an optical system having plural optical elements mounted relative to each other on a mounting structure of the optical system comprises disposing the optical system in a beam path of an interferometer apparatus having an interferometer optics and a selectable hologram for shaping a beam of measuring light to be incident on surfaces of the optical elements of the optical system; selecting a first hologram of the interferometer apparatus and recording at least one first interference pattern generated by measuring light reflected from a surface of a first optical element; selecting a second hologram of the interferometer apparatus, wherein the second hologram is different from the first hologram, and recording at least one second interference pattern generated by measuring light reflected from a surface of a second optical element, which is different from the first optical element; and adjusting a position of the first optical element relative to the second optical element on the mounting structure based upon the first interference pattern and the second interference pattern.
摘要翻译：一种制造具有在光学系统的安装结构上相对于彼此安装的多个光学元件的光学系统的方法，包括将光学系统设置在具有干涉仪光学元件和可选择的全息图的干涉仪装置的光束路径中，测量入射到光学系统的光学元件的表面上的光; 选择所述干涉仪装置的第一全息图并记录通过测量从第一光学元件的表面反射的光而产生的至少一个第一干涉图案; 选择所述干涉仪装置的第二全息图，其中所述第二全息图不同于所述第一全息图，并且记录通过测量从与所述第一光学元件不同的第二光学元件的表面反射的光而产生的至少一个第二干涉图案 ; 以及基于所述第一干涉图案和所述第二干涉图案，在所述安装结构上调整所述第一光学元件相对于所述第二光学元件的位置。

9. 发明申请

WO2008089990A2 METHOD FOR OPERATING AN IMMERSION LITHOGRAPHY APPARATUS 审中-公开
标题翻译：用于操作倾斜平面设备的方法
公开(公告)号：WO2008089990A2
公开(公告)日：2008-07-31
申请号：PCT/EP2008/000566
申请日：2008-01-25
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KALLER, Julian , DÜSING, Rüdiger , PHILIPPS, Jens , FREIMANN, Rolf
发明人： KALLER, Julian , DÜSING, Rüdiger , PHILIPPS, Jens , FREIMANN, Rolf
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70916 , G03F7/70341 , G03F7/70925
摘要： The present invention relates to a method of operating an immersion lithography apparatus comprising the steps of providing an immersion lithography apparatus comprising at least one optical element and a lithography substrate, wherein a gap is located between the optical element and the lithography substrate, and providing an immersion liquid into the gap, wherein at least part of a surface of the optical element is in contact with the immersion liquid; and performing a cleaning process for removing a deposit formed on at least said part of the surface of the optical element by supplying a cleaning fluid into the gap, wherein the cleaning is effected by a chemical reaction between a chemical species in said cleaning fluid and the deposit. Preferably, the chemical species is an oxidizing species and the chemical reaction is an oxidation. The invention is particularly useful when an immersion liquid is used which comprises a hydrocarbon or a fluorinated hydrocarbon.
摘要翻译：本发明涉及一种操作浸没式光刻设备的方法，包括以下步骤：提供包括至少一个光学元件和光刻基板的浸没式光刻设备，其中间隙位于光学元件和光刻基板之间，并提供浸入液体进入间隙，其中光学元件的表面的至少一部分与浸没液接触; 以及通过向所述间隙供给清洗流体，进行清洗处理，以除去形成在所述光学元件的至少所述表面部分上的沉积物，其中所述清洗是通过所述清洗液中的化学物质与存款。优选地，化学物质是氧化物质，化学反应是氧化。当使用包含烃或氟化烃的浸液时，本发明特别有用。

10. 发明申请

WO2003075049A3 REFRACTIVE PROJECTION OBJECTIVE 审中-公开
公开(公告)号：WO2003075049A3
公开(公告)日：2003-09-12
申请号：PCT/US2003/006592
申请日：2003-03-03
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HUDYMA, Russell , ROSTALSKI, Hans-Jürgen , ULRICH, Wilhelm , FREIMANN, Rolf
发明人： HUDYMA, Russell , ROSTALSKI, Hans-Jürgen , ULRICH, Wilhelm , FREIMANN, Rolf
IPC分类号： G02B9/00
摘要： Refractive projection objective with a numerical aperture greater than 0.7, consisting of a first convexity, a second convexity, and a waist arranged between the two convexities. The first convexity has a maximum diameter denoted by D1, and the second convexity has a maximum diameter denoted by D2, and 0.8 1 /D 2

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