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1. 发明申请

WO2005015313A1 ILLUMINATION MASK FOR RANGE-RESOLVED DETECTION OF SCATTERED LIGHT 审中-公开
标题翻译：用于散射光的范围检测的照明面具
公开(公告)号：WO2005015313A1
公开(公告)日：2005-02-17
申请号：PCT/EP2003/010604
申请日：2003-09-24
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ARNZ, Michael , GROMER, Oswald , KLOSE, Gerd , STÜHLER, Joachim
发明人： ARNZ, Michael , GROMER, Oswald , KLOSE, Gerd , STÜHLER, Joachim
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70591 , G03F7/70941
摘要： The invention relates to an illumination mask (10) for a device for range-resolved determination of scattered light, having one or more scattered-light measuring structures (11) which respectively include an inner dark-field zone (22) which defines a minimum scattering range, to a corresponding device, to an associated method for determining scattered light, and to a microlithographic projection exposure apparatus having such a device. According to the invention, in the case of the illumination mask the scattered-light measuring structure has a scattered-light marker zone (20) in the form of a bright-field zone which on the one hand borders the inner dark-field zone and on the other hand borders an outer dark-field zone (21) which defines a maximum scattering range.
摘要翻译：本发明涉及一种用于范围分辨确定散射光的装置的照明掩模（10），其具有一个或多个散射光测量结构（11），其分别包括限定最小值的内部暗场区域（22）散射范围，到相应的装置，到用于确定散射光的相关方法，以及具有这种装置的微光刻投影曝光装置。根据本发明，在照明掩模的情况下，散射光测量结构具有明亮区域形式的散射光标记区域（20），该区域一方面与内部暗场区域接合，并且另一方面边界限定了最大散射范围的外部暗场区域（21）。

2. 发明申请

WO2009021670A1 METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING SCATTERED LIGHT ON AN OPTICAL SYSTEM 审中-公开
标题翻译：用于测量光学系统上的散射光的方法和装置
公开(公告)号：WO2009021670A1
公开(公告)日：2009-02-19
申请号：PCT/EP2008/006498
申请日：2008-08-07
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ARNZ, Michael
发明人： ARNZ, Michael
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70941
摘要： A method of measuring scattered light on an optical system comprises the following steps: providing a first measuring field (22a) and a second measuring field (22b), both measuring fields respectively being either of a first light manipulation type or a second light manipulation type, which first light manipulation type is configured to cause incoming light to enter the optical system and which second light manipulation type is configured to prevent incoming light from entering the optical system, and both measuring fields respectively having a second light manipulation type reference structure (30) and a respective measuring structure, which measuring structures are of the second light manipulation type in the case where the measuring fields are of the first light manipulation type, and are first light manipulation type regions of the measuring fields in the case where the measuring fields are of the second light manipulation type, wherein the measuring structures of the respective measuring fields (22a, 22b) are offset in different directions in relation to the respective reference structure, imaging the first measuring field by means of the optical system into an image plane and measuring a first light intensity produced herewith at a location in the region of the image of the reference structure of the first measuring field, and imaging the second measuring field by means of the optical system into the image plane and measuring a second light intensity produced herewith at a location in the region of the image of the reference structure of the second measuring field.
摘要翻译：测量光学系统上的散射光的方法包括以下步骤：提供第一测量场（22a）和第二测量场（22b），测量场分别是第一光操作型或第二光操作型所述第一光操作型被配置为使得入射光进入所述光学系统，并且所述第二光操作类型被配置为防止入射光进入所述光学系统，并且两个测量场分别具有第二光操作型参考结构（30 ）和各测量结构，在测量场为第一光操作型的情况下，测量结构为第二光操作型，并且在测量场的情况下为测量场的第一光操作型区域是第二光操纵型，其中各自的测量结构相对于各个参考结构，沿着不同的方向偏移测量场（22a，22b），通过光学系统将第一测量场成像到图像平面中，并测量在此处产生的第一光强度第一测量场的参考结构的图像，以及通过光学系统将第二测量场成像到图像平面中，并测量在此处产生的第二光强度，该第二光强度在参考结构的图像的区域中的位置处第二个测量领域。

3. 发明申请

WO2008071296A1 METHOD AND APPARATUS FOR DETERMINING THE POSITION OF A STRUCTURE ON A CARRIER RELATIVE TO A REFERENCE POINT OF THE CARRIER 审中-公开
标题翻译：用于确定载体相对于载体的参考点的结构位置的方法和装置
公开(公告)号：WO2008071296A1
公开(公告)日：2008-06-19
申请号：PCT/EP2007/010047
申请日：2007-11-20
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , ARNZ, Michael , KLOSE, Gerd , TOTZECK, Michael
发明人： ARNZ, Michael , KLOSE, Gerd , TOTZECK, Michael
IPC分类号： G06T7/00 , G03F9/00
CPC分类号： G03F9/7092 , G03F1/84 , G03F7/70625 , G03F9/7088 , G06K9/3216 , G06K9/6203 , G06K2009/3225 , G06T7/74 , G06T2207/30148
摘要： A method is provided for determining the position of a structure on a carrier, relative to a reference point of the carrier, said method comprising the steps of: a) providing an image including a reference structure; b) recording an image of the structure on the carrier by means of a recording device, with a known recording position relative to the reference points; c) superimposing the two images to form one superimposed image; d) determining the image distance of the two structures in the superimposed image; e) shifting the two structures in the superimposed image relative to one another, depending on the determined image distance; f) checking whether the determined image distance is below a predetermined maximum value; wherein, if the image distance is below the maximum value, the method is continued in step g), and, if the image distance is not below the maximum value, steps d) - f) are repeated, taking into account the determined image distance/distances; g) determining the position of the structure relative to the reference point, on the basis of the recording position in step b) and of the image distance/image distances determined in step(s) d).
摘要翻译：提供了一种用于确定载体上的结构相对于载体的参考点的位置的方法，所述方法包括以下步骤：a）提供包括参考结构的图像; b）通过记录装置将结构的图像记录在载体上，具有相对于参考点的已知记录位置; c）叠加两个图像以形成一个叠加的图像; d）确定叠加图像中两个结构的图像距离; e）根据所确定的图像距离，相对于彼此移动叠加图像中的两个结构; f）检查确定的图像距离是否低于预定的最大值; 其中，如果图像距离低于最大值，则在步骤g）中继续该方法，并且如果图像距离不低于最大值，则重复步骤d）至f），同时考虑所确定的图像距离 /距离; g）基于步骤b）中的记录位置和步骤（d）中确定的图像距离/图像距离来确定结构相对于参考点的位置。

4. 发明申请

WO2008145210A1 METHOD AND APPARATUS FOR DETERMINING THE RELATIVE OVERLAY SHIFT OF STACKED LAYERS 审中-公开
标题翻译：用于确定堆叠层相对叠加的方法和装置
公开(公告)号：WO2008145210A1
公开(公告)日：2008-12-04
申请号：PCT/EP2008/001844
申请日：2008-03-07
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , ARNZ, Michael , KLOSE, Gerd
发明人： ARNZ, Michael , KLOSE, Gerd
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70633
摘要： A method is provided for determining the relative overlay shift of stacked layers, said method comprising the steps of: a) providing a reference image including a reference pattern that comprises first and second pattern elements; b) providing a measurement image of a measurement pattern, which comprises a first pattern element formed by a first one of the layers and a second pattern element formed by a second one of the layers; c) weighting the reference or measurement image such that a weighted first image is generated, in which the first pattern element is emphasized relative to the second pattern element; d) determining the relative shift of the first pattern element on the basis of the weighted first image and of the measurement or reference image not weighted in step c); e) weighting the reference or measurement image such that a weighted second image is generated, in which the second pattern element is emphasized relative to the first pattern element; f) determining the relative shift of the second pattern element on the basis of the weighted second image and of the measurement or reference image not weighted in step e); g) determining the relative overlay shift on the basis of the relative shifts determined in steps d) and f).
摘要翻译：提供了一种用于确定堆叠层的相对重叠移位的方法，所述方法包括以下步骤：a）提供包括包括第一和第二图案元素的参考图案的参考图像; b）提供测量图案的测量图像，其包括由所述层中的第一层形成的第一图案元件和由所述层中的第二层形成的第二图案元素; c）对所述参考或测量图像进行加权，使得生成加权的第一图像，其中所述第一图案元素相对于所述第二图案元素被加强; d）基于加权的第一图像和在步骤c）中未加权的测量或参考图像来确定第一图案元素的相对移位; e）对所述参考或测量图像进行加权，使得生成加权的第二图像，其中相对于所述第一图案元素强调所述第二图案元素; f）基于加权的第二图像和在步骤e）中未加权的测量或参考图像来确定第二图案元素的相对移位; g）基于在步骤d）和f）中确定的相对移动来确定相对重叠移位。

5. 发明申请

WO2008122338A1 APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING THE POSITIONS OF MARKS ON A MASK 审中-公开
标题翻译：用于测量标记标记位置的装置和方法
公开(公告)号：WO2008122338A1
公开(公告)日：2008-10-16
申请号：PCT/EP2008/001936
申请日：2008-03-11
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , KLOSE, Gerd , ARNZ, Michael , HOF, Albrecht , KRAUSE, Helmut , STROESSNER, Ulrich , MANGER, Matthias , SCHELLHORN, Uwe , BECHSTEIN, Karl-Heinz
发明人： KLOSE, Gerd , ARNZ, Michael , HOF, Albrecht , KRAUSE, Helmut , STROESSNER, Ulrich , MANGER, Matthias , SCHELLHORN, Uwe , BECHSTEIN, Karl-Heinz
IPC分类号： G03F1/00
CPC分类号： G01N21/95692 , G01N2021/95676 , G03F1/84
摘要： An apparatus (1 ) for measuring the positions of marks (M) on a mask (2) is provided, said apparatus comprising a mask holder (3) for holding the mask (2), a recording unit (7) for recording the marks (M) of the mask (2) held by the mask holder (3), an actuating module (12) for moving the mask holder (3) and the recording unit (7) relative to each other, and an evaluating module (17), which numerically calculates the gravity-induced sagging of the mask (2) in the mask holder (3) and determines the positions of the marks (M) on the mask (2), based on the calculated sagging, the recordings made by the recording unit (7) and the relative movement between the mask holder (3) and the recording unit (7), wherein, prior to calculating said sagging, the present position of the mask (2) in the mask holder (3) is determined and is taken into consideration in said numerical calculation, and/or the geometrical dimensions of the mask (2) are taken into consideration in said numerical calculation of sagging.
摘要翻译：提供一种用于测量掩模（2）上的标记（M）的位置的装置（1），所述装置包括用于保持掩模（2）的掩模支架（3），用于记录标记的记录单元（7）（3）和由所述记录单元（7）相对移动的驱动模块（12），以及评估模块（17）），其数值计算掩模保持器（3）中的面罩（2）的重力引起的下垂，并且基于所计算的下垂来确定掩模（2）上的标记（M）的位置，由记录单元（7）和掩模保持器（3）和记录单元（7）之间的相对运动，其中，在计算所述下垂之前，掩模（2）在掩模保持器（3）中的当前位置是在所述数值计算中确定并考虑到，并且在所述数值计算中考虑掩模（2）的几何尺寸下垂。

6. 发明申请

WO2009092555A1 AUTOFOKUSVORRICHTUNG UND AUTOFOKUSSIERVERFAHREN FÜR EINE ABBILDUNGSVORRICHTUNG 审中-公开
标题翻译：支持自动对焦和设备对图片的自动对焦装置
公开(公告)号：WO2009092555A1
公开(公告)日：2009-07-30
申请号：PCT/EP2009/000313
申请日：2009-01-20
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , ARNZ, Michael , BETZ, Volkmar , KLOSE, Gerd , LEVTONOV, Mikhail
发明人： ARNZ, Michael , BETZ, Volkmar , KLOSE, Gerd , LEVTONOV, Mikhail
IPC分类号： G02B21/24
CPC分类号： G02B21/244 , G02B21/245
摘要： Es wird bereitgestellt eine Autofokusvorrichtung für eine Abbildungsvorrichtung, die eine Abbildungsoptik (9) mit einer ersten Fokusebene (20) und einen Objekttisch (11) zum Bewegen eines abzubildenden Objektes (3) relativ zur ersten Fokusebene (20) aufweist, wobei die Autofokusvorrichtung (1) a) ein Bildaufnahmemodul (9) mit einer zweiten Fokusebene, deren Lage relativ zur ersten Fokusebene (20) bekannt ist, b) ein Beleuchtungsmodul (BM) zum Abbilden eines Fokussierbildes entlang eines Beleuchtungsstrahlenganges in eine Fokussierbildebene derart, daß, wenn das Objekt in einer Sollposition mit einem vorbestimmten Abstand zur zweiten Fokusebene positioniert ist, der Beleuchtungsstrahlengang aufgrund Reflexion am Objekt gefaltet ist und das in der Fokussierbildebene liegende Fokussierbild die zweite Fokusebene schneidet oder in dieser liegt, und c) ein Steuermodul umfaßt, das zum Fokussieren der Abbildungsvorrichtung (9) den Objekttisch (11) so ansteuert, daß das Objekt (3) in der Sollposition positioniert ist, aus einem Signal des Bildaufnahmemoduls, das das Bildaufnahmemodul anhand seiner Aufnahme des Fokussierbildes, wenn das Objekt in der Sollposition positioniert ist, erzeugt, die Abweichung der Objektposition von der Sollposition ableitet und basierend auf der abgeleiteten Abweichung, dem vorbestimmten Abstand und der relativen Lage der ersten und zweiten Fokusebene den Objekttisch so ansteuert, daß das Objekt in der ersten Fokusebene positioniert ist.
摘要翻译：提供了一种用于成像装置具有用于移动物体的成像光学系统（9），具有第一焦平面（20）和载物台（11）的自动聚焦装置（3）相对于所述第一焦平面（20），其中，所述自动聚焦装置将被成像（1 ）a）具有第二焦平面，其位置（相对于所述第一焦平面20）的图像采集模块（9）是已知的，b）一种照明模块（BM），用于在聚焦图像，使得沿着照明光束路径成像的聚焦图像时，对象在目标位置被定位在从所述照明光束路径的第二焦点平面的预定距离被折叠由于在物体的聚焦躺在聚焦图像中的相交的第二焦平面反射和或位于其中，以及c）包括控制模块（9用于聚焦在成像装置），以便控制所述物体台（11），在这样的物品（3） llposition被定位时，从图像拾取模块的信号与参照其列入当对象被定位在期望的位置聚焦的生成图像拾取模块，导出从目标位置的对象位置的偏差，并基于所导出的偏差，预定距离和在第一和第二焦平面的相对位置以驱动对象表，使该对象被定位在所述第一焦平面。

7. 发明申请

WO2011012265A1 DETERMINATION OF THE RELATIVE POSITION OF TWO STRUCTURES 审中-公开
标题翻译：确定两个结构的相对位置
公开(公告)号：WO2011012265A1
公开(公告)日：2011-02-03
申请号：PCT/EP2010/004517
申请日：2010-07-23
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , ARNZ, Michael , SEIDEL, Dirk
发明人： ARNZ, Michael , SEIDEL, Dirk
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/00
CPC分类号： G03F7/70633 , G03F7/70625
摘要： A method is provided for determining the position of a first structure (8a) relative to a second structure (8b) or a part thereof, said method having the steps of: a) providing a first picture (Fl) having a multiplicity of pixels and which contains the first structure, b) providing a second picture (F2) having a multiplicity of pixels and which contains the second structure, c) forming an optimization function with the displacement of the two pictures relative to one another as parameter, the optimization function overlying the two pictures and masking the overlay such that in a determination of an extreme value of the optimization function a contribution is made only by the region of the overlay that corresponds to the second structure or the part thereof, d) ascertaining the extreme value of the optimization function and determining the optimal value of the displacement based on the extreme value of the optimization function, and e) determining the position of the first structure relative to the second structure or a part thereof with the optimal displacement value ascertained in step d).
摘要翻译：提供一种用于确定第一结构（8a）相对于第二结构（8b）或其一部分的位置的方法，所述方法具有以下步骤：a）提供具有多个像素的第一图像（F1）和其包含第一结构，b）提供具有多个像素并且包含第二结构的第二图像（F2），c）形成具有两个图像相对于彼此的位移的优化函数作为参数，优化函数覆盖两个图片并掩盖覆盖层，使得在确定优化函数的极值时，仅通过对应于第二结构或其部分的覆盖区域进行贡献，d）确定最优值优化函数，并根据优化函数的极值确定位移的最优值，以及e）确定第一结构关系的位置具有在步骤d）中确定的最佳位移值的第二结构或其一部分。

8. 发明申请

WO2010063418A1 METHOD AND DEVICE FOR MEASURING THE RELATIVE LOCAL POSITION ERROR OF ONE OF THE SECTIONS OF AN OBJECT THAT IS EXPOSED SECTION BY SECTION 审中-公开
标题翻译：用于测量部分暴露部分的部分之一的相对本地位置错误的方法和装置
公开(公告)号：WO2010063418A1
公开(公告)日：2010-06-10
申请号：PCT/EP2009/008483
申请日：2009-11-28
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , ARNZ, Michael , BEYER, Dirk , HARNISCH, Wolfgang , SCHERÜBL, Thomas
发明人： ARNZ, Michael , BEYER, Dirk , HARNISCH, Wolfgang , SCHERÜBL, Thomas
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/00 , H01J37/317 , H01J37/304
CPC分类号： G03F7/70633 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/84 , G03F7/70616 , H01J37/3174
摘要： A method for measuring the relative local position error of one of the sections of an object that is exposed section by section, in particular of a lithography mask or of a wafer, is provided, each exposed section having a plurality of measurement marks, wherein a) a region of the object which is larger than the one section is imaged in magnified fashion and is detected as an image, b) position errors of the measurement marks contained in the detected image are determined on the basis of the detected image, c) corrected position errors are derived by position error components which are caused by the magnified imaging and detection being extracted from the determined position errors of the measurement marks, d) the relative local position error of the one section is derived on the basis of the corrected position errors of the measurement marks.
摘要翻译：提供了一种用于测量逐段暴露的物体的一个部分，特别是光刻掩模或晶片的相对局部位置误差的方法，每个暴露部分具有多个测量标记，其中）以放大方式成像大于该部分的对象的区域，并且被检测为图像，b）基于检测到的图像确定检测图像中包含的测量标记的位置误差，c）校正位置误差是通过由放大的成像和检测引起的位置误差分量从确定的测量标记的位置误差中提取导出的，d）基于校正位置导出一个部分的相对局部位置误差测量标记的误差。

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