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1. 发明申请

WO2006008949A1 水分発生用反応炉とこれを用いた水分発生供給装置审中-公开
标题翻译：用于产生水分和水分产生的反应器和使用它的进料装置
公开(公告)号：WO2006008949A1
公开(公告)日：2006-01-26
申请号：PCT/JP2005/012329
申请日：2005-07-04
申请人：株式会社フジキン , 成相敏朗 , 川田幸司 , 平尾圭志 , 皆見幸男 , 森本明弘 , 池田信一
发明人：成相敏朗 , 川田幸司 , 平尾圭志 , 皆見幸男 , 森本明弘 , 池田信一
IPC分类号： C01B5/00
CPC分类号： B01J12/007 , B01J2219/00078 , B01J2219/00087 , B01J2219/00096 , B01J2219/00135 , C01B5/00 , F28D2021/0029 , F28F3/02 , H01L21/67017
摘要：　水分発生反応炉において、反応炉本体の放熱特性を高めることにより、限られた体積容量の水分発生反応炉でもって水分発生量を安全に倍増できるようにしたものである。　具体的には、反応炉本体内へ供給した水素と酸素を白金コーティング触媒層に接触させてその反応性を活性化させることにより、水素と酸素を非燃焼の状態下で反応させるようにした水分発生反応炉に於いて、冷却器を、出口側炉本体部材の外表面へ固定する中央にヒータ挿入孔を穿設した放熱体基板と、当該放熱体基板の前記ヒータ挿入孔以外の部分に垂直状に並行して立設した複数の放熱体とから成る出口側冷却器により形成すると共に、反応炉本体を加熱するためのヒータの一部を出口側冷却器のヒータ挿入孔を挿通せしめて出口側炉本体部材の外表面へ固定する。
摘要翻译：具有有限体积容量的反应器，用于产生水分，其能够通过增加反应器主体的热辐射特性和使用该反应器的进料装置来安全地加倍产生的水分量。更具体地，在反应器中，供给到反应器主体中的氢气和氧气与铂涂覆的催化剂层接触以使其活性，使得氢气和氧气在非燃烧状态下彼此反应。冷却器由具有散热体基板的出口侧冷却器形成，该散热体基板的中心具有加热器插入孔，该加热器插入孔固定在出口侧炉体部件的外表面上，并且多个散热体垂直地安装在除了加热器插入孔之外的散热体基板彼此平行。用于加热反应器主体的加热器的一部分插入出口侧冷却器的加热器插入孔中并固定到出口侧炉体部件的外表面。

2. 发明申请

WO2005071299A1 真空断熱バルブ审中-公开
标题翻译：真空热绝缘阀
公开(公告)号：WO2005071299A1
公开(公告)日：2005-08-04
申请号：PCT/JP2005/000265
申请日：2005-01-13
申请人：株式会社フジキン , 大見忠弘 , 皆見幸男 , 坪田憲士 , 篠原努 , 山路道雄 , 池田信一 , 森本明弘 , 川田幸司 , 成相敏朗
发明人：大見忠弘 , 皆見幸男 , 坪田憲士 , 篠原努 , 山路道雄 , 池田信一 , 森本明弘 , 川田幸司 , 成相敏朗
IPC分类号： F16K51/00
CPC分类号： F16K51/02 , Y10T137/6606 , Y10T137/7043 , Y10T137/7062
摘要：　この発明は、ガスの供給系やガスの排気系の中において高温状態で使用することができ、しかも優れた断熱性能によって大幅な小型、コンパクト化を可能とした真空断熱バルブを提供するものである。　バルブ本体とアクチエータとを備えたバルブと、当該バルブを格納する真空断熱箱とから形成した真空断熱バルブに於いて、前記真空断熱箱Ｓを、側面に筒状の真空断熱配管受部Ｊを備え且つ上面を開放した角形の下部真空ジャケットＳ 5 と、当該下部真空ジャケットＳ 5 へ上方より気密に嵌合され且つ下面を開放した角形の上部真空ジャケットＳ 4 とから形成する。
摘要翻译：一种真空隔热阀，可在气体供应系统和气体放电系统的高温条件下使用，由于阀的绝热性能优异，可大大减小尺寸，并且紧凑。一种真空隔热阀，由具有阀体和致动器的阀构成，并由接纳该阀的真空绝热箱构成。真空保温箱（S）由矩形的下部真空套（S5）构成，其中，它的侧面是管状的真空绝热管道接收部分（J），其上表面打开，并且由矩形上部真空套 S4），其从上方气密地配合到下真空套（S5）并且其下表面打开。

3. 发明申请

WO2004036637A1 回転式シリコンウエハ洗浄装置审中-公开
标题翻译：旋转式硅水清洗装置
公开(公告)号：WO2004036637A1
公开(公告)日：2004-04-29
申请号：PCT/JP2003/011667
申请日：2003-09-11
申请人：株式会社フジキン , 株式会社プレテック , 大見忠弘 , 白井泰雪 , 藤田巧 , 皆見幸男 , 池田信一 , 森本明弘 , 川田幸司
发明人：大見忠弘 , 白井泰雪 , 藤田巧 , 皆見幸男 , 池田信一 , 森本明弘 , 川田幸司
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67034 , H01L21/02052
摘要： A rotary silicon wafer cleaning apparatus capable of enhancing the stability of silicon wafer through perfecting of the hydrogen termination for silicon wafer having undergone cleaning operation with the use of chemicals and pure water. The rotary silicon wafer cleaning apparatus comprises a silicon wafer drying equipment, the silicon wafer drying equipment composed of a mixed gas heating unit for heating a mixed gas consisting of a hydrogen gas, the hydrogen gas containing gaseous hydrogen in an amount of 0.05 vol.% or more, and an inert gas and a hydrogen radical generating unit provided with a platinum coating film capable of forming hydrogen radicals at portion in contact with the heated mixed gas, wherein a mixed gas containing hydrogen radicals generated by the hydrogen radical generating unit is jetted on a rotating silicon wafer after cleaning operation so that the drying and hydrogen termination treatment of the external surface of silicon wafer are simultaneously carried out.
摘要翻译：一种旋转硅晶片清洁装置，其能够通过使用化学品和纯水完成已进行清洗操作的硅晶片的氢终端，从而提高硅晶片的稳定性。旋转硅晶片清洁装置包括硅晶片干燥设备，硅晶片干燥设备由用于加热由氢气组成的混合气体的混合气体加热单元，含有0.05体积％的气态氢气的氢气，以上的惰性气体和氢游离基发生单元，其具有能够在与加热的混合气体接触的部分形成氢自由基的铂涂膜，喷射含有由氢根产生单元产生的氢自由基的混合气体在清洁操作之后的旋转硅晶片上，同时进行硅晶片的外表面的干燥和氢终止处理。

4. 发明申请

WO2004035209A1 水分発生用反応炉の白金コーティング触媒層の形成方法审中-公开
标题翻译：用于生成水气的反应炉中形成铂涂层催化剂层的方法
公开(公告)号：WO2004035209A1
公开(公告)日：2004-04-29
申请号：PCT/JP2003/013146
申请日：2003-10-14
申请人：株式会社フジキン , 大見忠弘 , 池田信一 , 森本明弘 , 北野真史 , 皆見幸男 , 川田幸司
发明人：大見忠弘 , 池田信一 , 森本明弘 , 北野真史 , 皆見幸男 , 川田幸司
IPC分类号： B01J37/02
CPC分类号： B01J12/007 , B01J21/04 , B01J23/42 , B01J37/0225 , B01J37/0226 , B01J37/08 , C01B5/00
摘要：　水分発生用反応炉の反応用空間の内壁面に、均一な厚みで母材に対する固着力が高く、しかも白金皮膜の保護機能の高いバリヤー皮膜を安価に且つ簡単に形成できるようにする。　水素と酸素を高温燃焼をさせずに反応させて水分を発生させる水分発生用反応炉に於いて、水分発生用反応炉をアルミニウム含有合金を用いて形成し、当該水分発生用反応炉の内壁面にアルミニウムの選択酸化処理を施して酸化アルミニウム（Ａｌ２　Ｏ３　）を主体とするバリヤー皮膜を形成し、その後当該バリヤー皮膜の上部に白金皮膜を積層固着して白金コーティング触媒層を形成する。
摘要翻译：一种用于在反应炉中形成铂涂层催化剂层的方法，其用于通过使氢和氧在高温下不使其燃烧而产生水气，而不会在高温下燃烧而形成水，所述方法包括通过使用含铝的方法制造用于产生水煤气的反应炉合金，对反应炉内壁的表面进行铝的选择性氧化处理，形成以氧化铝（Al2O3）为主要成分的阻隔涂膜，然后将铂涂膜层合并粘合在阻挡层上涂膜，从而形成铂涂层催化剂层。该方法允许形成阻挡涂层，其具有均匀的厚度和对基材的高粘附性，并且对反应炉的反应空间的内壁表面上的铂涂膜显示出高保护功能，用于产生水煤气，成本低廉。

5. 发明申请

WO2004072519A1 真空排気系用バルブ审中-公开
标题翻译：真空排气系统阀
公开(公告)号：WO2004072519A1
公开(公告)日：2004-08-26
申请号：PCT/JP2004/001352
申请日：2004-02-09
申请人：株式会社フジキン , 大見忠弘 , 池田信一 , 山路道雄 , 北野真史 , 森本明弘
发明人：大見忠弘 , 池田信一 , 山路道雄 , 北野真史 , 森本明弘
IPC分类号： F16K7/12
CPC分类号： F16K7/14 , F16K27/003 , F16K51/02
摘要：　真空排気系の設備の小型化とこれによるコスト低減並びに真空排気時間の短縮のための真空排気系の配管の小口径化に対応し、ガスの分解に起因する解離生成物の堆積による内部の腐食や詰まり、シートリーク等を防止できるようにしたバルブを提供するものである。　具体的には、アルミ不働態を真空排気系に使用されるバルブ等の配管部品に使用して、ベーキングの際の温度上昇によるガスの分解を抑制することにより、真空排気系の小口径化に適した部品、特にガスの分解により生ずる生成物の堆積により腐食や詰まり、シートリーク等が生じないようにする。
摘要翻译：根据真空排放系统中的管道直径的减小的阀，减小了实现真空排放系统的装置的小型化并且导致降低的成本并缩短了真空排放的时间。在阀中，可以防止由气体分解产生的解离产物的积聚导致内部腐蚀，堵塞，阀座泄漏等。具体来说，被动铝被用于管道部件，例如适用于真空排放系统的阀门，以便控制在烘烤过程中温度升高引起的气体分解，使得适合减小真空放电中直径尺寸的部件系统。防止由气体分解引起的腐蚀，堵塞，阀座泄漏等。

6. 发明申请

WO2004074722A1 真空排気系用のダイヤフラム弁审中-公开
标题翻译：真空灭火系统用隔膜阀
公开(公告)号：WO2004074722A1
公开(公告)日：2004-09-02
申请号：PCT/JP2004/001346
申请日：2004-02-09
申请人：株式会社フジキン , 大見忠弘 , 池田信一 , 山路道雄 , 北野真史 , 森本明弘
发明人：大見忠弘 , 池田信一 , 山路道雄 , 北野真史 , 森本明弘
IPC分类号： F16K7/12
CPC分类号： F16K7/16 , F16K51/02
摘要：　半導体製造装置に適用される真空排気系用のダイヤフラム弁に於いて、ガスの熱分解に依り生じた生成物の堆積付着に依る部材の腐食や生成物に依る詰まりやシートリークの発生を防止し、延いては、真空排気系の設備の小型化とこれに依るコスト低減、更には真空排気時間の短縮の為の真空排気系の配管の小口径化に対応できる様にする。　具体的には、流入路６と流出路７とこれらの間に形成された弁座８とを備えたボディ２と、ボディ２に設けられて弁座８に当離座可能なダイヤフラム３と、ボディ２に設けられてダイヤフラム３を弁座８に当離座させる駆動手段４とを備えたダイヤフラム弁１に於いて、前記ボディ２とダイヤフラム３の流体接触部分２５に所定厚さの合成樹脂被膜５をコーティングする。
摘要翻译：一种适用于半导体制造系统的真空排气系统的隔膜阀。防止由于气体的热分解产生的产品的沉积/粘附引起的部件的腐蚀，产品堵塞和阀座泄漏。为了减少真空排气时间，该隔膜阀导致真空抽空系统设备的规模减小，成本降低，真空排气系统的管道直径减小。具体地说，隔膜阀（1）包括具有入口通道（6），出口通道（7）和设置在通道之间的阀座（8）的主体（2），隔膜（3）设置成主体（2）并且可以与阀座（8）分离并与其接触;以及驱动装置（4），其设置在主体（2）上并且适于将隔膜（3）与阀座（8）并使隔膜（3）与其接触。主体（2）的部分（25）和隔膜（3）的与流体接触的部分（25）都涂覆有预定厚度的合成树脂涂层（5）。

7. 发明申请

WO2006035547A1 ガス加熱方法およびガス加熱用配管部材审中-公开
标题翻译：气体加热方法和气体加热管道成员
公开(公告)号：WO2006035547A1
公开(公告)日：2006-04-06
申请号：PCT/JP2005/014097
申请日：2005-08-02
申请人：株式会社フジキン , 池田信一 , 森本明弘 , 安本直史 , 山路道雄 , 谷川毅 , 薬師神忠幸 , 堂屋英宏
发明人：池田信一 , 森本明弘 , 安本直史 , 山路道雄 , 谷川毅 , 薬師神忠幸 , 堂屋英宏
IPC分类号： F24H3/04 , F24H7/02 , F28F1/40 , F28F1/42 , F16L53/00
CPC分类号： F28F13/12 , F16L53/35 , F24H3/0405 , F28F1/40
摘要：　パイプなどの配管部材本体内の気体を加熱するに際して、加熱効率を向上させることができる加熱方法およびこのような加熱方法を容易に行うことを可能とするガス加熱用配管部材を提供する。　被加熱ガスが通される配管部材本体1の内部に、被加熱ガスが通過可能な保熱材4を密接して挿入するとともに、配管部材本体1を外部から加熱手段2により加熱する。
摘要翻译：一种用于提高加热管中管道构件主体中的气体时的加热效率的加热方法，以及用于容易地采用这种加热方法的气体加热配管构件。能够将待加热气体通过的隔热材料（4）通过彼此紧密接触而插入到待加热气体的管道构件主体（1）中。管道构件主体（1）由加热装置（2）从外部加热。

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