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1. 发明申请

WO2005055296A1 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法、並びに光学部品审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法，装置制造方法和光学部件
公开(公告)号：WO2005055296A1
公开(公告)日：2005-06-16
申请号：PCT/JP2004/018435
申请日：2004-12-03
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之 , 高岩宏明 , 蛭川茂 , 星加隆一 , 石沢均
发明人：長坂博之 , 高岩宏明 , 蛭川茂 , 星加隆一 , 石沢均
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7075
摘要：　露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと液体１とを介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射して、基板Ｐを露光するものであって、基板Ｐを保持するための基板テーブルＰＴを備え、基板テーブルＰＴに、撥液性の平坦面３０Ａを有するプレート部材３０を交換可能に設けて、液体が残留することを防止し、良好な露光精度を維持できる。
摘要翻译：曝光装置（EX）是通过投影光学系统（PL）和液体（1）将曝光光（EL）照射到基板（P）上而使基板（P）曝光的装置。曝光装置（EX）具有用于保持基板（P）的基板台（PT）。具有疏液平面（30A）的板构件（30）可更换地安装在基板台（PT）上，防止液体残留，保持良好的曝光精度。

2. 发明申请

WO2006030848A1 非晶質酸化珪素バインダを有するＭｇＦ２光学薄膜、及びそれを備える光学素子、並びにそのＭｇＦ２光学薄膜の製造方法审中-公开
标题翻译：含有非晶硅氧化物粘合剂的MgF 2光学薄膜，具有该光学器件的光学器件以及用于生产这种MgF 2光学薄膜的方法
公开(公告)号：WO2006030848A1
公开(公告)日：2006-03-23
申请号：PCT/JP2005/017015
申请日：2005-09-15
申请人：株式会社ニコン , 石沢均 , 新坂俊輔 , 村田剛
发明人：石沢均 , 新坂俊輔 , 村田剛
IPC分类号： G02B1/11 , C03C17/22 , C03C17/25 , C01F5/28
CPC分类号： G02B1/116 , C03C17/007 , C03C2217/45 , C03C2217/475 , C03C2218/113 , G02B1/111 , G02B1/113 , G02B1/118 , G02B1/14 , G02B2207/107 , G02B2207/109 , Y10T428/2495 , Y10T428/258
摘要：　ＭｇＦ２光学薄膜１００は、基材１０の光学面に形成される。ＭｇＦ２光学薄膜は、ＭｇＦ２微粒子１２と、ＭｇＦ２微粒子の表面及びＭｇＦ２微粒子間に存在する非晶質酸化珪素系バインダ１３とを備える。非晶質酸化珪素系バインダ１３により光学薄膜１００は、機械的強度及び基材１０との付着力が高く、耐環境性に優れ、より低い屈折率を有することができる。
摘要翻译：一个MgF

3. 发明申请

WO2009075361A1 Ｃａ－Ｌａ－Ｆ系透光性セラミックスの製造方法、Ｃａ－Ｌａ－Ｆ系透光性セラミックス、光学部材、光学系、及びセラミックス形成用組成物审中-公开
标题翻译：用于生产基于CA-LA-F的轻透明陶瓷的方法，基于CA-LA-F的光透明陶瓷，光学构件，光学系统和用于陶瓷形成的组合物
公开(公告)号：WO2009075361A1
公开(公告)日：2009-06-18
申请号：PCT/JP2008/072696
申请日：2008-12-12
申请人：株式会社ニコン , 石沢均
发明人：石沢均
IPC分类号： C04B35/553 , C01F11/22 , C01F17/00 , C04B35/50 , C30B29/12 , G02B1/02
CPC分类号： C04B35/553 , B82Y30/00 , C04B35/6263 , C04B35/62635 , C04B35/6264 , C04B35/645 , C04B35/6455 , C04B2235/3208 , C04B2235/3225 , C04B2235/3227 , C04B2235/449 , C04B2235/5252 , C04B2235/5436 , C04B2235/5445 , C04B2235/5454 , C04B2235/549 , C04B2235/661 , C04B2235/761 , C04B2235/9653 , C04B2235/9661 , G02B1/02
摘要：　ＣａＦ２微粒子と、該ＣａＦ２微粒子とは別に作製されたＬａＦ３微粒子とを混合して微粒子混合物を調整し、前記微粒子混合物を焼結し、透明化することで透光性セラミックスを製造する、Ｃａ－Ｌａ－Ｆ系透光性セラミックスの製造方法。
摘要翻译：本发明提供了一种Ca-La-F系透明陶瓷的制造方法，其特征在于，将CaF 2的微细粒子与由CaF 2的微粒分开制备的LaF 3的微粒子混合，制作微粒子的混合物，混合物使混合物透明。

4. 发明申请

WO2009113544A1 蛍光膜、蛍光膜の成膜方法、誘電体多層膜、光学素子、光学系、撮像ユニット、光学特性計測装置、光学特性測定方法、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法审中-公开
标题翻译：荧光膜，其成膜方法，多层电介质膜，光学元件，光学系统，成像单元，用于测量光学特性的仪器，测量光学特性的方法，曝光装置，曝光MET
公开(公告)号：WO2009113544A1
公开(公告)日：2009-09-17
申请号：PCT/JP2009/054552
申请日：2009-03-10
申请人：株式会社ニコン , 江面嘉信 , 石沢均
发明人：江面嘉信 , 石沢均
IPC分类号： C09K11/61 , C09K11/00 , C09K11/85 , G01J1/02 , G02B6/06 , H01L21/027
CPC分类号： G01J1/58 , C09K11/7748 , C09K11/7772 , C09K11/779 , G01J1/04 , G01J1/0425 , G01M11/0242 , G01M11/0264 , G01N21/6456 , G02B6/08 , G03F7/70341 , G03F7/706 , G03F7/7085
摘要：　紫外線を透過可能なフッ化物からなる母材と、該母材にドープされた賦活材とを含み、前記賦活材は遷移元素又は希土類元素を含み、前記母材中で前記紫外線が照射されることで蛍光を発することを特徴とする蛍光膜および、該蛍光膜を有する誘電体多層膜、および該蛍光膜を利用した光学素子、撮像装置、光学特性計測装置、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法。
摘要翻译：提供了包括基材的荧光膜，其包含UV透过性氟化物，以及掺杂有该基材的活化剂。荧光膜的特征在于，活化剂含有过渡元素或稀土元素，并且当基材中的活化剂暴露于紫外光时产生荧光。还提供了具有荧光膜的多层电介质膜，以及使用荧光膜的光学元件，成像装置，光学特性测量仪器，曝光装置，曝光方法和装置制造方法。

5. 发明申请

WO2005020298A1 光学素子及び露光装置审中-公开
标题翻译：光学元件和曝光装置
公开(公告)号：WO2005020298A1
公开(公告)日：2005-03-03
申请号：PCT/JP2004/012296
申请日：2004-08-26
申请人：株式会社ニコン , 白井健 , 國分崇生 , 石沢均 , 村上敦信
发明人：白井健 , 國分崇生 , 石沢均 , 村上敦信
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341 , G02B1/105 , G02B1/14 , G03F7/70875 , G03F7/70958 , G03F7/70983
摘要：　露光ビームでマスクを照明し、投影光学系を介して前記マスクのパターンを基板上に転写するための露光装置であって、前記基板の表面と前記投影光学系との間に所定の液体を介在させた前記露光装置に使用される光学素子において、　前記投影光学系の前記基板側の透過光学素子の表面に第１の溶解防止部材を備えている光学素子。
摘要翻译：一种光学元件，其用于通过投影光学系统将掩模图案通过曝光光束照射所述掩模并且在所述基板的所述表面和所述投影光学元件之间插入预定液体的曝光装置系统。光学元件在投影光学系统的基板侧上的透射光学元件的表面上具有防溶解部件。

6. 发明申请

WO2008062817A1 光学部材及びその製造方法审中-公开
标题翻译：光学部件及其制造方法
公开(公告)号：WO2008062817A1
公开(公告)日：2008-05-29
申请号：PCT/JP2007/072514
申请日：2007-11-21
申请人：株式会社ニコン , 石沢均 , 山広知彦 , 松葉泰人
发明人：石沢均 , 山広知彦 , 松葉泰人
IPC分类号： G02B1/11 , G02B3/00
CPC分类号： G02B7/027 , G02B1/11 , Y10T428/239
摘要：　レンズ周囲と当接してレンズ（１１）を保持するように取り付けられ且つレンズ（１１）と一体化して使用される保持部材（１２）を、レンズ（１１）に取り付けた後、レンズ（１１）の表面にスピンコート法により光学薄膜（１３）を形成せしめて光学部材（１）を得る、光学部材の製造方法。
摘要翻译：保持构件（12）通过抵靠透镜周边而保持透镜（11），并且通过与透镜（11）一体化使用。在将保持构件安装到透镜（11）之后，通过旋涂法在透镜（11）的表面上形成光学薄膜（13），得到光学构件（1）。

7. 发明申请

WO2008001675A1 光学多層薄膜、光学素子、及び光学多層薄膜の製造方法审中-公开
标题翻译：光学薄膜薄膜，光学元件和制造光学薄膜薄膜的方法
公开(公告)号：WO2008001675A1
公开(公告)日：2008-01-03
申请号：PCT/JP2007/062518
申请日：2007-06-21
申请人：株式会社ニコン , 石沢均 , 新坂俊輔
发明人：石沢均 , 新坂俊輔
IPC分类号： G02B1/11 , B32B7/02 , B32B9/00
CPC分类号： G02B1/115 , G02B1/11 , G02B2207/107
摘要：　光学基材（１０）の光学面（１１）に積層され、光学基材（１０）より小さい屈折率を有する最外層（１３）と、光学基材（１０）と最外層（１３）との間に配置され、屈折率が最外層（１３）より高い所定範囲で調整可能とされた少なくとも一層の任意屈折率層（１４）とを備えた光学多層薄膜であり、最外層（１３）が光学基材（１０）より小さい屈折率を有する低屈折率材料からなる低屈折率微粒子（１５）と第１のバインダ（１６）とから湿式成膜法により形成されてなり、任意屈折率層（１４）が低屈折率材料より大きい屈折率を有する高屈折率材料からなる高屈折率微粒子（１８）と、高屈折率材料と異なる屈折率を有する第２のバインダ（１９）とから湿式成膜法により形成されている。
摘要翻译：光学多层薄膜设置有层叠在光学基材（10）的光学平面（11）上并具有比光学基材（10）的折射率小的折射率的最外层（13）。和具有任意折射率的至少一层（14），其布置在所述光学基材（10）和所述最外层（13）之间，并且具有在比所述光学基材（10）的折射率高的规定范围内可调整的折射率外层（13）。最外层（13）由折射率小于光学基材（10）折射率的低折射率材料构成的低折射率微粒（15）和第一粘合剂（16）由湿成膜方法。具有自由折射率的层（14）由折射率大于低折射率材料的折射率材料构成的高折射率颗粒（18）形成，第二粘合剂（19）具有折射率与高折射率材料的折射率不同，通过湿式成膜法。

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