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1. 发明申请

WO2005055296A1 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法、並びに光学部品审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法，装置制造方法和光学部件
公开(公告)号：WO2005055296A1
公开(公告)日：2005-06-16
申请号：PCT/JP2004/018435
申请日：2004-12-03
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之 , 高岩宏明 , 蛭川茂 , 星加隆一 , 石沢均
发明人：長坂博之 , 高岩宏明 , 蛭川茂 , 星加隆一 , 石沢均
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7075
摘要：　露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと液体１とを介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射して、基板Ｐを露光するものであって、基板Ｐを保持するための基板テーブルＰＴを備え、基板テーブルＰＴに、撥液性の平坦面３０Ａを有するプレート部材３０を交換可能に設けて、液体が残留することを防止し、良好な露光精度を維持できる。
摘要翻译：曝光装置（EX）是通过投影光学系统（PL）和液体（1）将曝光光（EL）照射到基板（P）上而使基板（P）曝光的装置。曝光装置（EX）具有用于保持基板（P）的基板台（PT）。具有疏液平面（30A）的板构件（30）可更换地安装在基板台（PT）上，防止液体残留，保持良好的曝光精度。

2. 发明申请

WO2004112108A1 露光方法、基板ステージ、露光装置、及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光方法，基板阶段，曝光装置和制造装置的方法
公开(公告)号：WO2004112108A1
公开(公告)日：2004-12-23
申请号：PCT/JP2004/008578
申请日：2004-06-11
申请人：株式会社ニコン , 大和壮一 , 馬込伸貴 , 蛭川茂 , 工藤芳彦 , 井上次郎 , 河野博高 , 根井正洋 , 今井基勝 , 長坂博之 , 白石健一 , 西井康文 , 高岩宏明
发明人：大和壮一 , 馬込伸貴 , 蛭川茂 , 工藤芳彦 , 井上次郎 , 河野博高 , 根井正洋 , 今井基勝 , 長坂博之 , 白石健一 , 西井康文 , 高岩宏明
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/58 , G03F7/2041 , G03F7/707 , G03F7/70716
摘要：投影光学系PLと液体1とを介してパターンの像を基板P上に投影することによって基板Pを露光する際、基板Pの側面PB、裏面PCを撥液処理する。このような構成により基板のエッジ領域を液浸露光する場合に良好に液浸領域を形成し、液体の基板ステージ外部への流出を抑えた状態で露光できる露光方法を提供する。
摘要翻译：公开了一种曝光方法，其中当基板（P）的曝光通过将图案图像投影到基板（P）上进行曝光时，基板（P）的侧表面（PB）和背面（PC）基板（P）通过投影光学系统（PL）和液体（1）。因此，在基板的边缘部进行浸渍曝光的情况下，能够充分地形成浸渍区域并进行曝光，同时防止液体从基板台流出。

3. 发明申请

WO2006030908A1 基板保持装置、露光装置、及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：基板保持装置，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：WO2006030908A1
公开(公告)日：2006-03-23
申请号：PCT/JP2005/017173
申请日：2005-09-16
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之 , 渋田慎 , 中野勝志 , 吉田雄一 , 高岩宏明
发明人：長坂博之 , 渋田慎 , 中野勝志 , 吉田雄一 , 高岩宏明
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/67
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/707 , H01L21/6715 , H01L21/6838 , H01L21/68735 , H01L21/6875 , Y10T29/49002
摘要：　基板の裏面側への液体の浸入を防止できる基板保持装置を提供する。基板保持装置（ＰＨ）は、基材（ＰＨＢ）と、基材（ＰＨＢ）に形成され、基板（Ｐ）を保持する第１保持部（ＰＨ１）と、基材（ＰＨＢ）に形成され、第１保持部（ＰＨ１）で保持された処理基板（Ｐ）の周囲を囲むようにプレート部材（Ｔ）を保持する第２保持部（ＰＨ２）とを備えている。第２保持部（ＰＨ２）は、プレート部材（Ｔ）の裏面（Ｔｂ）側に第２空間（３２）が形成されるようにプレート部材（Ｔ）を保持している。プレート部材（Ｔ）の裏面（Ｔｂ）には、第１保持部（ＰＨ１）で保持された基板（Ｐ）と第２保持部（ＰＨ２）で保持されたプレート部材（Ｔ）との間のギャップ（Ａ）から浸入した液体（ＬＱ）を吸収する吸収部材（１００）が配置されている。
摘要翻译：能够防止液体进入基板的背面的基板保持装置。基板保持装置（PH）设置有基材（PHB），在基材（PHB）上形成的用于保持基板（P）的第一保持部（PH1），以及形成在基板用于通过围绕由第一保持部（PH1）保持的处理基板（P）的周围来保持板构件（T）的基材（PHB）。第二保持部（PH2）保持板构件（T），以在板构件（T）的后平面（Tb）侧形成第二空间（32）。在板状构件（T）的背面（Tb）上设置吸收构件（100），用于吸收从由第一保持部（T）保持的基板（P）之间的间隙（A）进入的液体（LQ） PH1）和由第二保持部（PH2）保持的板构件（T）。

4. 发明申请

WO2005076321A1 露光装置及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置及其制造方法
公开(公告)号：WO2005076321A1
公开(公告)日：2005-08-18
申请号：PCT/JP2005/001225
申请日：2005-01-28
申请人：株式会社ニコン , 高岩宏明 , 堀内貴史
发明人：高岩宏明 , 堀内貴史
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/42 , G03F7/7085 , G03F7/70916
摘要：　投影光学系と液体とを介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置において、前記投影光学系の先端よりも下方に配置された物体上に液体が有るか否かを検出する検出装置を備える露光装置。また、投影光学系とその像面側に配置された物体との間に形成された液浸領域に対して検出光を射出する射出部と、前記検出光に対して所定位置に配置された受光部とを有し、前記受光部の受光結果に基づいて前記液浸領域の大きさ及び形状のうち少なくとも一方を求める検出装置も開示する。検出装置を使って、投影光学系の先端よりも下方に配置された物体上における液体の有無や液浸領域の状態、あるいは液体の形状や接触角を検出することで、その検出結果に基づいて高い露光精度及び計測精度を維持するための最適な処置を施す。
摘要翻译：本发明提供一种曝光装置，用于通过投影光学系统和液体将基板上的曝光光照射到基板上，曝光装置具有检测装置，用于检测液体是否存在于位于下方的物体的下方投影光学系统。还提供一种检测装置，其具有发射部分，用于将检测光发射到形成在投影光学系统和放置在系统的图像表面侧上的物体之间的液浸区域，并且具有放置在相对于检测光，并且基于光接收部分的光接收的结果获得液浸区域的尺寸或形状中的至少一个。检测装置检测位于投影光学系统的前端下方的物体上是否存在液体，或者检测液体的形状和接触角，并且基于检测到的结果，进行最佳处理以保持高曝光精度和测量精度。

5. 发明申请

WO2004053952A1 露光装置及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置和制造装置的方法
公开(公告)号：WO2004053952A1
公开(公告)日：2004-06-24
申请号：PCT/JP2003/015587
申请日：2003-12-05
申请人：株式会社ニコン , 馬込伸貴 , 高岩宏明 , 荒井大
发明人：馬込伸貴 , 高岩宏明 , 荒井大
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70991 , G03F7/70341 , G03F7/7075 , Y10S430/146
摘要：　投影光学系と基板との間に液体を満たして露光する際、基板に付着した液体に起因するデバイスの劣化を抑えることができる露光装置を提供する。デバイス製造システムＳＹＳは、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間を液体５０で満たし、投影光学系ＰＬと液体５０とを介してパターンの像を基板Ｐ上に投影する露光装置本体ＥＸと、露光装置本体ＥＸと基板Ｐの露光後の処理を行うコータ・デベロッパ本体Ｃ／Ｄとのインターフェース部ＩＦと、基板Ｐの露光後、インターフェース部ＩＦを介して基板Ｐがコータ・デベロッパ本体Ｃ／Ｄへ搬出される前に、基板Ｐに付着した液体５０を除去する液体除去装置１００とを備えている。
摘要翻译：一种曝光装置，其中在用液体填充投影光学系统和基板之间的空间的同时进行曝光，能够抑制由基板上的粘附液体引起的装置的劣化。装置制造系统（SYS）包括曝光装置主单元（EX），接口部分（IF）和液体移除单元（100）。在曝光装置主单元（EX）中，投影光学系统（PL）和基板（P）之间的空间填充有液体（50），图案的图像通过投影光学系统（PL）和液体（50）。界面部分（IF）布置在曝光装置主单元（EX）和曝光后处理基板（P））的涂布机/显影剂主单元（C / D）之间。在将暴露的基板（P）经由界面部分（IF）传送到涂布机/显影剂主体（C / D）之前，液体去除单元（100）去除附着到基板（P）上的液体（50）。

6. 发明申请

WO2005059977A1 ステージ装置、露光装置、及び露光方法审中-公开
标题翻译：阶段装置，曝光装置和曝光方法
公开(公告)号：WO2005059977A1
公开(公告)日：2005-06-30
申请号：PCT/JP2004/018788
申请日：2004-12-16
申请人：株式会社ニコン , 高岩宏明 , 馬込伸貴
发明人：高岩宏明 , 馬込伸貴
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70716
摘要：【課題】　このステージ装置ＰＳＴは、基板Ｐの裏面ＰＣを保持するホルダＰＨと、ホルダＰＨを支持して移動するステージ５２とを有し、ホルダＰＨが基板Ｐの外周よりも内側で基板Ｐの裏面ＰＣを保持する保持部３３、３４を有する。さらに、このステージ装置ＰＳＴは、ルダＰＨとは別に設けられ、少なくとも基板Ｐの裏面ＰＣと対向する位置に撥液性を有する撥液部材３０を有する。その結果、投影光学系と基板との間を液体で満たして露光処理する場合においても、基板とホルダとの間に液体が浸入することが防止される。
摘要翻译：舞台装置（PST）具有用于保持衬底（P）的后表面（PC）的保持器（PH）和在支撑保持器（PH））的同时移动的平台（52）。保持器（PH）具有用于在基板（P）的外周的内侧保持基板（P）的背面（PC）的保持部（33,34）。此外，舞台装置（PST）具有具有排液能力的液体排斥构件（30），所述排液构件（30）至少与所述保持器（PH）的背面（PC）相对的位置与所述保持器（PH）分开设置，底物（P）。结果，即使当放置在投影光学系统和基板之间的液体进行曝光处理时，也防止液体进入基板和保持器之间。

7. 发明申请

WO2005022616A1 露光装置及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置和装置的制造方法
公开(公告)号：WO2005022616A1
公开(公告)日：2005-03-10
申请号：PCT/JP2004/012795
申请日：2004-08-27
申请人：株式会社ニコン , 原英明 , 高岩宏明
发明人：原英明 , 高岩宏明
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70916
摘要：露光装置EXは、投影光学系PLと基板Pとの間を液体1で満たし、投影光学系PLと液体1とを介して基板P上にパターンの像を投影することによって基板Pを露光するものあって、投影光学系PLの像面付近に配置され、液体1が付着している基準部材7や移動鏡55に対して断続的に気体を吹き付けてその液体を除去する液体除去機構40を備えている。このような構成により、投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供することができる。
摘要翻译：在曝光装置（EX）中，将液体（1）放置在投影光学系统（PL）和基板（P）之间，并且，装置（EX）通过将图案的图像投影到基板通过光学投影系统（PL）和液体（1）的衬底（P）。该设备具有设置在投影光学系统（PL）的图像表面附近的液体去除机构（40），并且间歇地将气体吹送到基准部件（7）和液体（1）所在的移动反射镜（55）粘附，去除液体。在通过投影光学系统和液体在基板上投射图案并暴露基板时，上述结构使得可以去除不需要的液体并且在基板上形成期望的器件图案。

8. 发明申请

WO2005022615A1 液体回収装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：液体回收装置，曝光装置，曝光方法及装置生产方法
公开(公告)号：WO2005022615A1
公开(公告)日：2005-03-10
申请号：PCT/JP2004/012787
申请日：2004-08-27
申请人：株式会社ニコン , 荒井大 , 原英明 , 高岩宏明
发明人：荒井大 , 原英明 , 高岩宏明
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/2041 , G03F7/70533 , G03F7/70866 , G03F7/70933 , G03F7/70991
摘要：この露光装置は、投影光学系と基板との間を液体で満たし、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影することによって基板を露光する。この露光装置は、商用電源から供給される電力によって駆動する駆動部を有する液体回収機構と、商用電源とは別の無停電電源とを備え、商用電源の停電時に、駆動部に対する電力の供給が無停電電源に切り替わる。
摘要翻译：曝光装置通过使用投影光学系统和填充投影光学系统和基板之间的间隙的液体将图案的图像投影在基板上来曝光基板。曝光装置具有液体回收机构，其具有由商用电源提供的电力驱动的驱动部分和与商用电源分离的不间断电源。当商用电源发生故障时，到驱动部的电源切换到不间断电源。

9. 发明申请

WO2006068233A1 磁気案内装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイスの製造方法审中-公开
标题翻译：磁性指导装置，舞台装置，曝光装置及装置制造方法
公开(公告)号：WO2006068233A1
公开(公告)日：2006-06-29
申请号：PCT/JP2005/023620
申请日：2005-12-22
申请人：株式会社ニコン , 小野一也 , 谷村尚 , 高岩宏明
发明人：小野一也 , 谷村尚 , 高岩宏明
IPC分类号： H02K41/02 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/68
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/70816 , H01L21/682 , H02K7/09 , H02K41/03 , H02K2201/18
摘要：　第一方向に沿って設けられた案内面（１１１）を有する案内部材（１１０）と、案内面（１１１）から離間した状態で案内面（１１１）に対向する対向面（１２１）を有する移動体（１２０）と、を備え、案内面（１１１）と対向面（１２１）との間に磁気吸引力を作用させて、移動体（１２０）を、第一方向に直交し且つ案内面（１１１）と平行な第二方向への移動を規制しつつ、第一方向に沿って移動させるための磁気案内装置（１００）にあって、案内面（１１１）には第一方向に沿って第一の溝部（１１２）が形成され、対向面（１２１）には第一溝部（１１２）と対向するように第一方向に沿って第二の溝部（１２２）が形成される。
摘要翻译：磁性引导装置（100）具有引导构件（110），引导构件（110）具有沿着第一方向设置的引导平面（111），和面向引导平面（111）的面向平面（121）平面（111）。允许磁性吸引力在引导平面（111）和面对平面（121）之间操作，并且在控制移动到与第一方向正交并平行于引导平面（111）的第二方向上的移动主体（120）沿第一方向移动。在引导平面（111）上，沿着第一方向形成有第一槽部（112），并且在面对面（121）上形成有沿第一方向形成的第二槽部（122）槽部（112）。

10. 发明申请

WO2007145165A1 ステージ装置、露光装置及びデバイスの製造方法审中-公开
标题翻译：阶段装置，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：WO2007145165A1
公开(公告)日：2007-12-21
申请号：PCT/JP2007/061721
申请日：2007-06-11
申请人：株式会社ニコン , 蘆田憲一 , 高岩宏明
发明人：蘆田憲一 , 高岩宏明
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70716
摘要：　ステージ装置（ＷＳＴ）は、ベース部（６３）と、ベース部（６３）に対して移動可能な第一移動部材（６２）と、物体（Ｗ）を保持すると共に第一移動部材（６２）に対して移動可能な第二移動部材（６１）と、物体Ｗに照射されるエネルギビーム（ＥＬ）の特性を計測する計測装置（１００，１２０）とを備える。計測装置（１００，１２０）の少なくとも一部が第一移動部材（６２）に設置される。
摘要翻译：舞台装置（WST）设置有基部（63）; 第一移动构件（62），其可以相对移动到所述基部（63）; 第二移动构件（61），其保持被检体（W）并能够相对移动到所述第一移动构件（62）; 以及用于测量施加在被检体（W）上的能量束（EL）的特性的测量装置（100,200）。至少一部分测量装置（100,120）布置在第一移动构件（62）上。

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