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1. 发明申请

WO2008126475A1 新規な含フッ素化合物、含フッ素重合体、およびその製造方法审中-公开
标题翻译：新颖的含氟化合物，含氟聚合物及其制备方法
公开(公告)号：WO2008126475A1
公开(公告)日：2008-10-23
申请号：PCT/JP2008/052896
申请日：2008-02-20
申请人：旭硝子株式会社 , 村田浩一 , 代田直子 , 横小路修 , 武部洋子
发明人：村田浩一 , 代田直子 , 横小路修 , 武部洋子
IPC分类号： C08F36/20 , C07C51/09 , C07C51/38 , C07C57/52 , C07C67/04 , C07C67/343 , C07C69/65
CPC分类号： C07C57/32 , C07C69/65 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , C07D307/20 , C08F14/18 , C08F36/20 , C08F214/18 , Y10S430/146 , C08F2/00
摘要：　新規な含フッ素化合物、含フッ素重合体、およびその製造方法を提供する。　式ＣＦ２＝ＣＦＣＦ２Ｃ（Ｘ）（Ｃ（Ｏ）ＯＺ）（ＣＨ２）ｎＣＲ＝ＣＨＲで表される化合物（ただし、Ｘは水素原子、シアノ基または式－Ｃ（Ｏ）ＯＺで表される基を、Ｚは水素原子または炭素数１～２０の１価有機基を、ｎは０、１または２を、Ｒは水素原子または炭素数１～２０の１価有機基を示す。）、その製造方法、および該化合物を重合させて得られた含フッ素重合体。
摘要翻译：公开了新的含氟化合物，含氟聚合物和含氟化合物的制造方法。具体公开的是由下式表示的化合物：CF 2 R 2 = CFCF 2 C（X）（C（O）OZ）（CH 2）2 >其中CR = CHR（其中X表示氢原子，氰基或表示为-C（O）OZ的基团; Z表示氢原子或具有1-20个碳原子的一价有机基团碳原子; n表示0,1或2; R表示氢原子或具有1-20个碳原子的一价有机基团）。还公开了制备这种化合物的方法和通过聚合这种化合物而获得的含氟聚合物。

2. 发明申请

WO2008120743A1 レジスト組成物、レジスト保護膜組成物およびレジストパターンの形成方法审中-公开
标题翻译：耐蚀组合物，耐蚀保护膜组合物和形成耐蚀图案的方法
公开(公告)号：WO2008120743A1
公开(公告)日：2008-10-09
申请号：PCT/JP2008/056170
申请日：2008-03-28
申请人：旭硝子株式会社 , 代田直子 , 武部洋子 , 村田浩一 , 横小路修
发明人：代田直子 , 武部洋子 , 村田浩一 , 横小路修
IPC分类号： C08F36/20 , G03F7/039 , G03F7/11 , G03F7/38
CPC分类号： C08F36/20 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397
摘要：　レジスト組成物を提供する。　式ＣＦ２＝ＣＦＣＦ２Ｃ（ＸＡ）（Ｃ（Ｏ）ＯＺＡ）（ＣＨ２）ｎａＣＲＡ＝ＣＨＲＡで表される化合物の重合により形成された繰り返し単位（Ａ）を有する重合体（ＰＡ）を含むレジスト組成物（ただし、ＸＡは水素原子、シアノ基または式－Ｃ（Ｏ）ＯＺＡで表される基を示し、ＺＡは水素原子または炭素数１～２０の１価有機基を示し、ｎａは０、１または２を示し、ＲＡは水素原子または炭素数１～２０の１価有機基であって、２個のＲＡは同一であってもよく異なっていてもよい。）。
摘要翻译：公开了抗蚀剂组合物。具体公开的是含有具有重复单元（A）的聚合物（PA）的抗蚀剂组合物，该重复单元通过聚合由下式表示的化合物形成：CF 2 2 = CFCF 2 C（X ^{A ）（C（O）OZ ^{A ）（CH _{2 ）_{NA CR ^{A = CHR ^{A 。（式中，X A表示氢原子，氰基或下式表示的基团：-C（O）OZ A; Z < A 表示氢原子或具有1-20个碳原子的一价有机基团; n a表示0,1或2; R A表示氢原子或具有1个碳原子的一价有机基团 -20个碳原子，两个R a可以彼此相同或不同。）}}}}}}

3. 发明申请

WO2008032716A1 リソグラフィー用レジスト材料およびレジストパターンの形成方法审中-公开
标题翻译：用于形成电阻图案的电阻材料和方法
公开(公告)号：WO2008032716A1
公开(公告)日：2008-03-20
申请号：PCT/JP2007/067680
申请日：2007-09-11
申请人：旭硝子株式会社 , 武部洋子 , 代田直子 , 横小路修
发明人：武部洋子 , 代田直子 , 横小路修
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0046 , G03F7/11 , G03F7/2041
摘要：　リソグラフィー用レジスト材料およびレジストパターンの形成方法の提供。　下記化合物（ａ）の重合により形成された繰り返し単位（Ａ）を含む重合体を含むリソグラフィー用レジスト材料。ただし、Ｗは重合性の１価有機基を、ＴはＨ、Ｆ、炭素数１～６のアルキル基または炭素数１～６のフルオロアルキル基を、Ｑは式中の炭素原子と共同して含フッ素単環式炭化水素基を形成する炭素数３～１１のフルオロアルキレン基を、示す。ＴまたはＱ中の炭素原子－炭素原子間には、－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）－または－Ｃ（Ｏ）Ｏ－が挿入されていてもよい。
摘要翻译：公开了用于光刻的抗蚀剂材料。还公开了形成抗蚀剂图案的方法。用于光刻的抗蚀剂材料包括具有通过化合物（a）的聚合形成的重复单元（A）的聚合物[在该式中，W表示可聚合的一价有机基团; T表示H，F，碳原子数1〜6的烷基或碳原子数1〜6的氟烷基。 Q表示碳原子数3〜11的氟代亚烷基，与式（1）中的碳原子一起形成氟化单环烃基，条件是-O - ， - C（O） - 或-C（O） O-可以插入在T或Q中的（碳原子） - （碳原子）键之间。（a）

4. 发明申请

WO2008007594A1 高度にフッ素化されたノルボルナン構造を有する含フッ素化合物、含フッ素重合体、および製造方法审中-公开
标题翻译：具有高荧光的NORBORNANE结构的含氟化合物，含氟聚合物及其生产方法
公开(公告)号：WO2008007594A1
公开(公告)日：2008-01-17
申请号：PCT/JP2007/063401
申请日：2007-07-04
申请人：旭硝子株式会社 , 松川泰久 , 白川大祐 , 室谷英介 , 代田直子 , 武部洋子
发明人：松川泰久 , 白川大祐 , 室谷英介 , 代田直子 , 武部洋子
IPC分类号： C07C49/467 , C07C67/14 , C07C69/653 , C08F20/22
CPC分类号： C07C49/477 , C07C29/143 , C07C29/147 , C07C31/44 , C07C35/52 , C07C45/54 , C07C61/40 , C07C67/14 , C07C69/653 , C07C69/753 , C07C2602/42 , C08F220/24
摘要：　高度にフッ素化されたノルボルナン構造を有する新規な重合性の含フッ素化合物および該化合物から得られる重合体を提供する。また、これらの製造方法および該製造に有用な新規な中間体を提供する。　化合物（１１）、化合物（１２）等の新規な化合物（１）、およびその重合体。該化合物（１）の製造中間体等として有用である化合物（２１）（２２）等の化合物（２）、および化合物（３１）（３２Ｍ）等の化合物（３）およびこれらの製造方法。ただし、ＺＡ～ＺＥは－ＣＨ（－ＯＣ（Ｏ）Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２）－、－ＣＦ２－等を、ＷＡとＷＢはＦ等を、ＹＡ～ＹＥは－ＣＨ（－ＯＨ）－、－ＣＦ（－ＣＨ２ＯＨ）等を、ＸＡ～ＸＥは－Ｃ（Ｏ）－、－ＣＦ２－等を、示す。
摘要翻译：公开了具有高氟化降冰片烷结构的新型可聚合的含氟化合物和由这种化合物获得的聚合物。还公开了它们的生产方法和用于生产的新型中间体。具体公开了化合物（11）和化合物（12）等新化合物（1）和化合物（1）的聚合物。还具体公开了化合物（2），例如化合物（21）和（22）以及化合物（3），例如化合物（31）和（32M），其可用作化合物（1）的生产中间体及其制备方法。在这方面，Z“A”分别表示-CH - （ - OC（O）C（CH 3 CH 3）= CH _{2个） - ， - CF 2 - 等; W＆lt; SUP＆gt;和W＆lt; B＆gt;分别代表F等; Y分别表示-CH（-OH） - ， - CF（-CH 2 OH）等; 而X-A-X-E分别表示-C（O） - ， - CF 2 - 等。}

5. 发明申请

WO2008041476A1 レジスト保護膜形成組成物およびレジストパターンの形成方法审中-公开
标题翻译：防腐膜形成组合物和形成耐腐蚀图案的过程
公开(公告)号：WO2008041476A1
公开(公告)日：2008-04-10
申请号：PCT/JP2007/068100
申请日：2007-09-18
申请人：旭硝子株式会社 , 武部洋子 , 代田直子 , 横小路修
发明人：武部洋子 , 代田直子 , 横小路修
IPC分类号： G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/11
摘要：　レジスト保護膜形成組成物およびレジストパターンの形成方法を提供する。　酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する重合体であり、含フッ素重合体（Ｆ）よりフッ素含有量が低いレジスト重合体（Ｒ）を含む感光性レジスト層の表面に塗布されて用いられるレジスト保護膜形成組成物であって、含フッ素重合体（Ｆ）を含むアルカリ溶解性のレジスト保護膜用材料と、ハイドロフルオロカーボン系溶媒およびハイドロフルオロエーテル系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種のフッ素系溶媒（Ｓ）を含む溶媒とを含有する、レジスト保護膜形成組成物。
摘要翻译：本发明提供用于形成抗蚀剂保护膜的组合物和形成抗蚀剂图案的方法。用于形成抗蚀剂保护膜的组合物，其包含用于抗蚀保护膜的含氟聚合物（F）和碱溶性材料和含有至少一种选自氢氟烃溶剂的至少一种含氟溶剂（S）的溶剂，和氢氟醚溶剂，并且其应用于含有抗蚀剂聚合物（R）的光致抗蚀剂层的表面，该抗蚀剂聚合物（R）可以通过酸的作用增强其在碱中的溶解度，并且具有低于含氟聚合物（F）。

6. 发明申请

WO2007122977A1 イマージョンリソグラフィー用レジスト保護膜材料审中-公开
标题翻译：耐蚀保护膜材料的渗透力学研究
公开(公告)号：WO2007122977A1
公开(公告)日：2007-11-01
申请号：PCT/JP2007/057314
申请日：2007-03-30
申请人：旭硝子株式会社 , 武部洋子 , 王舒鐘 , 横小路修 , 代田直子 , 松川泰久 , 白川大祐
发明人：武部洋子 , 王舒鐘 , 横小路修 , 代田直子 , 松川泰久 , 白川大祐
IPC分类号： G03F7/11 , C08F20/24 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/2041 , C08F214/18 , C08F220/24 , G03F7/11
摘要：　イマージョンリソグラフィー用レジスト保護膜材料を提供する。　含フッ素橋かけ環構造を有する重合性化合物（ｆｍ）の重合により形成された繰り返し単位（ＦＵ）を含む重合体（Ｆ）を含む、アルカリ溶解性のイマージョンリソグラフィー用レジスト保護膜材料。たとえば、繰り返し単位（ＦＵ）は、下記化合物（ｆ１）～（ｆ４）からなる群から選ばれる化合物（ｆ）の重合により形成された繰り返し単位である（ＲＦはＨ、Ｆ、炭素数１～３のアルキル基または炭素数１～３のフルオロアルキル基を、ＸＦはＦ、ＯＨまたはＣＨ２ＯＨを、示す。）。
摘要翻译：本发明提供了用于浸没式光刻的抗蚀剂保护膜的材料，更具体地说，是用于浸渍光刻的抗蚀剂保护膜的碱溶性材料，其含有包含重复单元（F' / SUP>），其通过具有含氟桥连环结构的聚合性化合物（f

7. 发明申请

WO2007119804A1 液浸露光用レジスト組成物审中-公开
标题翻译：用于液体暴露的耐腐蚀组合物
公开(公告)号：WO2007119804A1
公开(公告)日：2007-10-25
申请号：PCT/JP2007/058119
申请日：2007-04-12
申请人：旭硝子株式会社 , 代田直子 , 武部洋子 , 横小路修
发明人：代田直子 , 武部洋子 , 横小路修
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/38 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , G03F7/2041
摘要：　液浸露光用レジスト組成物を提供する。　式ＣＦ２＝ＣＦ－Ｑ－ＣＲ＝ＣＨ２で表される化合物の環化重合により形成された繰り返し単位を含む重合体であって該繰り返し単位を全繰り返し単位に対して１０モル％以上含む重合体（Ａ）と、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する重合体（Ｂ）とを含む液浸露光用レジスト組成物。式中の記号は、たとえば、Ｒは水素原子を、Ｑは－ＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）（ＯＨ）ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（Ｃ（ＣＦ３）２（ＯＨ））ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（Ｃ（Ｏ）ＯＨ）ＣＨ２－、－ＣＦ２ＣＨ（Ｃ（Ｏ）ＯＨ）ＣＨ２－または－ＣＦ２Ｃ（Ｃ（Ｏ）ＯＨ）２ＣＨ２－を、示す。
摘要翻译：公开了一种用于液浸曝光的抗蚀剂组合物。抗蚀剂组合物包括：聚合物（A），其具有通过下式表示的化合物的环化形成的重复单元：CF 2 = CF-Q-CR = CH 2 2 / >，其中所述重复单元的含量相对于所有重复单元的总量为10摩尔％以上; 和通过酸的作用可以提高其碱溶性的聚合物（B）。在上式中，R表示氢原子; 和Q表示-CF 2 C（CF 3）（OH）CH 2 - ， - CH 2 CH 2 （C（CF 3）2）（OH））CH 2 - ， - CH 2 CH（C（ O）OH）CH 2 - ， - CF 2 CH（C（O）OH）CH 2 - ， - CF 2 C（C（O）OH）2 CH 2 - 等。

8. 发明申请

WO2007119803A1 イマージョンリソグラフィー用レジスト材料审中-公开
标题翻译：耐蚀性材料
公开(公告)号：WO2007119803A1
公开(公告)日：2007-10-25
申请号：PCT/JP2007/058118
申请日：2007-04-12
申请人：旭硝子株式会社 , 代田直子 , 王舒鐘 , 横小路修 , 武部洋子 , 松川泰久 , 白川大祐
发明人：代田直子 , 王舒鐘 , 横小路修 , 武部洋子 , 松川泰久 , 白川大祐
IPC分类号： C08F20/22 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0046 , C08F220/24 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要：　イマージョンリソグラフィー用レジスト材料を提供する。　含フッ素橋かけ環構造を有する重合性化合物（ｆｍ）の重合により形成された繰り返し単位（ＦＵ）を含む重合体（Ｆ）を含み、かつ、酸の作用によりアルカリ溶解性の増大する、イマージョンリソグラフィー用レジスト材料。たとえば、重合性化合物（ｆｍ）は、下式（ｆ１）、下式（ｆ２）、下式（ｆ３）および下式（ｆ４）で表される化合物からなる群から選ばれる一種以上の化合物（ｆ）の重合により形成された繰り返し単位である（ＲＦは－Ｈ、－Ｆ、炭素数１～３のアルキル基または炭素数１～３のフルオロアルキル基を、ＸＦは－Ｆ、－ＯＨまたは－ＣＨ２ＯＨを、示す。）。
摘要翻译：公开了用于浸没式光刻的抗蚀剂材料。抗蚀剂材料包括通过具有含氟桥连环结构并具有重复单元的聚合性化合物（f）的聚合而制备的聚合物（F） >）。抗蚀剂材料可以通过酸的作用增加其碱溶解度。例如，可聚合化合物（f）是选自由式（f1），（f2），（f3）和（f4）表示的化合物中的至少一种化合物（f））[其中R F表示-H，-F，具有1至3个碳原子的烷基或具有1至3个碳原子的氟代烷基; 并且X-F代表-F，-OH或-CH 2 OH。

9. 发明申请

WO2009104748A1 被露光基板用撥水化剤組成物、レジストパターンの形成方法及び該形成方法により製造した電子デバイス、被露光基板の撥水化処理方法、被露光基板用撥水化剤セット及びそれを用いた被露光基板の撥水化処理方法审中-公开
标题翻译：用于要暴露的基材的水 - 组合物，形成耐蚀图案的方法，通过形成方法生产的电子设备，将待喷涂的基底上的水再循环的方法，用于基底的水 -
公开(公告)号：WO2009104748A1
公开(公告)日：2009-08-27
申请号：PCT/JP2009/053057
申请日：2009-02-20
申请人：株式会社ルネサステクノロジ , 旭硝子株式会社 , 石橋優太 , 石橋つぐみ , 寺井護 , 萩原琢也 , 横小路修 , 武部洋子
发明人：寺井護 , 萩原琢也 , 横小路修 , 武部洋子
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/09
CPC分类号： G03F7/16 , G03F7/11 , G03F7/2041
摘要：　液浸液による被露光基板裏面の汚染を抑制するとともに、被加工膜とその直上の有機膜との密着性を向上させて膜剥がれを抑制可能で、作業性に優れた被露光基板用撥水化剤組成物、レジストパターンの形成方法及びその形成方法により製造した電子デバイス、被露光基板の撥水化処理方法、被露光基板用撥水化剤セット及びそれを用いた被露光基板の撥水化処理方法を提供する。少なくとも下記一般式（１）で示される有機ケイ素化合物と溶剤とを含む被露光基板用撥水化剤組成物を用いる。　ただしＲ１は炭素数１４～３０の１価の有機基、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ独立に炭素数１～１０の１価の有機基または加水分解性基であり、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４の少なくとも１つは加水分解性基である。
摘要翻译：提供一种用于曝光的基板的防水组合物，其抑制基板的背面被浸没液体污染，可以提高被处理膜与直接覆盖该膜的有机膜之间的粘合，以抑制膜剥离，并且具有优异的可加工性。还提供了：形成抗蚀剂图案的方法，通过形成方法制造的电子器件，赋予待暴露的基板的拒水性的方法，待曝光的基板的防水组件，以及将该组合物的防水性赋予待暴露的基材。用于曝光的基材的防水组合物包含由以下通式（1）表示的有机硅化合物和溶剂。在该式中，R 1是C 14-30单价有机基团，并且R 2，R 3和R 4各自独立地为C 1-10单价有机基团或可水解基团，条件是R 2，R 3和R 4中的至少一个为可水解组。

10. 发明申请

WO2006011427A1 含フッ素化合物、含フッ素ポリマー、レジスト組成物、およびレジスト保護膜組成物审中-公开
标题翻译：含氟化合物，含氟聚合物，耐腐蚀组合物和耐腐蚀保护膜组合物
公开(公告)号：WO2006011427A1
公开(公告)日：2006-02-02
申请号：PCT/JP2005/013507
申请日：2005-07-22
申请人：旭硝子株式会社 , 武部洋子 , 江田昌隆 , 横小路修 , 佐々木崇
发明人：武部洋子 , 江田昌隆 , 横小路修 , 佐々木崇
IPC分类号： C08F36/20 , C07C33/42 , C07C43/17 , G03F7/039 , G03F7/11
CPC分类号： C07C43/30 , C07C33/423 , C07C43/17 , C08F36/20 , C08F214/18 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/11 , Y10S430/115 , Y10S430/146
摘要：　官能基を有し、幅広い波長領域で高い透明性を有する含フッ素ポリマーならびに該含フッ素ポリマーからなるレジスト用組成物およびレジスト保護膜組成物の提供。　下記式（１）で表される含フッ素ジエンを環化重合してなるモノマー単位を有する含フッ素ポリマー。　ＣＦ 2 ＝ＣＦＣＦ 2 Ｃ（ＣＦ 3 ）（ＯＲ 1 ）－（ＣＨ 2 ） n ＣＲ 2 ＝ＣＨＲ 3 　・・・（１）（ただし、式（１）中、Ｒ 1 は、水素原子、炭素数２０以下のアルキル基、または（ＣＨ 2 ） a ＣＯＯＲ 4 （ａは０または１であり、Ｒ 4 は水素原子または炭素数２０以下のアルキル基）を表す。Ｒ 2 およびＲ 3 は、それぞれ独立に水素原子または炭素数１２以下のアルキル基を表す。ｎは０または２を表す。但し、ｎ＝０の場合、Ｒ 1 、Ｒ 2 およびＲ 3 のうち少なくとも１つは水素原子以外である。）
摘要翻译：公开了具有官能团并且在宽波长范围内高度透明的含氟聚合物。还公开了由这种含氟聚合物和抗蚀剂保护膜组合物组成的抗蚀剂组合物。具体公开了具有通过含氟二烯的成环聚合获得的由下式（1）表示的单体单元的含氟聚合物：CF 2 2 = CFCF 2 < / SUB> C（CF _{3 ）（OR ^{1 ） - （CH _{2 ）_{名词 CR ^{2 = CHR ^{3 。 [式（1）中，R 1表示氢原子，碳原子数为20以下的烷基或（CH 2）2） COOR 4（其中a为0或1，R 4表示氢原子或碳原子数为20以下的烷基），R 2， R 0和R 3独立地表示氢原子或碳原子数为12以下的烷基，n表示0或2.当n为0时，R 1 R 2，R 3和R 3不同于氢原子。]}}}}}}

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