基本信息:
- 专利标题： イマージョンリソグラフィー用レジスト材料
- 专利标题（英）：Resist material for immersion lithography
- 专利标题（中）：耐蚀性材料
- 申请号：PCT/JP2007/058118 申请日：2007-04-12
- 公开(公告)号：WO2007119803A1 公开(公告)日：2007-10-25
- 发明人： 代田 直子 , 王 舒鐘 , 横小路 修 , 武部 洋子 , 松川 泰久 , 白川 大祐
- 申请人： 旭硝子株式会社 , 代田 直子 , 王 舒鐘 , 横小路 修 , 武部 洋子 , 松川 泰久 , 白川 大祐
- 申请人地址： 〒1008405 東京都千代田区有楽町一丁目12番1号 Tokyo JP
- 专利权人： 旭硝子株式会社,代田 直子,王 舒鐘,横小路 修,武部 洋子,松川 泰久,白川 大祐
- 当前专利权人： 旭硝子株式会社,代田 直子,王 舒鐘,横小路 修,武部 洋子,松川 泰久,白川 大祐
- 当前专利权人地址： 〒1008405 東京都千代田区有楽町一丁目１２番１号 Tokyo JP
- 代理机构： 泉名 謙治 et al.
- 优先权： JP2006-110971 20060413; JP2006-132407 20060511; JP2006-176881 20060627; JP2006-207392 20060731
- 主分类号： C08F20/22
- IPC分类号： C08F20/22 ; G03F7/004 ; G03F7/039 ; H01L21/027
摘要：
イマージョンリソグラフィー用レジスト材料を提供する。 含フッ素橋かけ環構造を有する重合性化合物（ｆ ｍ ）の重合により形成された繰り返し単位（Ｆ Ｕ ）を含む重合体（Ｆ）を含み、かつ、酸の作用によりアルカリ溶解性の増大する、イマージョンリソグラフィー用レジスト材料。たとえば、重合性化合物（ｆ ｍ ）は、下式（ｆ１）、下式（ｆ２）、下式（ｆ３）および下式（ｆ４）で表される化合物からなる群から選ばれる一種以上の化合物（ｆ）の重合により形成された繰り返し単位である（Ｒ Ｆ は－Ｈ、－Ｆ、炭素数１～３のアルキル基または炭素数１～３のフルオロアルキル基を、Ｘ Ｆ は－Ｆ、－ＯＨまたは－ＣＨ ２ ＯＨを、示す。）。
摘要（中）：
公开了用于浸没式光刻的抗蚀剂材料。 抗蚀剂材料包括通过具有含氟桥连环结构并具有重复单元的聚合性化合物（f）的聚合而制备的聚合物（F） >）。 抗蚀剂材料可以通过酸的作用增加其碱溶解度。 例如，可聚合化合物（f）是选自由式（f1），（f2），（f3）和（f4）表示的化合物中的至少一种化合物（f） ）[其中R F表示-H，-F，具有1至3个碳原子的烷基或具有1至3个碳原子的氟代烷基; 并且X-F代表-F，-OH或-CH 2 OH。
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C08 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 |
| ----C08F | 仅用碳—碳不饱和键反应得到的高分子化合物 |
| ------C08F20/00 | 具有1个或更多的不饱和脂族基化合物的均聚物或共聚物，每个不饱和脂族基只有1个碳—碳双键，并且只有1个是以羧基或它的盐、酐、酯、酰胺、酰亚胺或腈为终端 |
| --------C08F20/02 | .具有少于10个碳原子的一元羧酸；它的衍生物 |
| ----------C08F20/10 | ..酯 |
| ------------C08F20/22 | ...含卤素的酯 |