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1. 发明申请

WO2009007087A1 OPTICAL ELEMENT AND METHOD OF CALIBRATING A MEASURING APPARATUS COMPRISING A WAVE SHAPING STRUCTURE 审中-公开
标题翻译：光学元件和校准包含波形结构的测量装置的方法
公开(公告)号：WO2009007087A1
公开(公告)日：2009-01-15
申请号：PCT/EP2008/005547
申请日：2008-07-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HETZLER, Jochen , SCHILLKE, Frank , SCHULTE, Stefan , FREIMANN, Rolf , DÖRBAND, Bernd
发明人： HETZLER, Jochen , SCHILLKE, Frank , SCHULTE, Stefan , FREIMANN, Rolf , DÖRBAND, Bernd
IPC分类号： B24B13/06
CPC分类号： G01B9/021 , G01B9/02039 , G01B11/2441 , G01M11/025 , G01M11/0271 , Y10T29/49771
摘要： An optical element has an optical surface, which optical surface is adapted to a non-spherical target shape, such that a long wave variation of the actual shape of the optical surface with respect to the target shape is limited to a maximum value of 0,2 nm, wherein the long wave variation includes only oscillations having a spatial wavelength equal to or larger than a minimum spatial wavelength of 10 mm.
摘要翻译：光学元件具有光学表面，该光学表面适于非球形目标形状，使得光学表面的实际形状相对于目标形状的长波变化被限制为最大值0， 2nm，其中长波变化仅包括具有等于或大于10mm的最小空间波长的空间波长的振荡。

2. 发明申请

WO2005114101A8 METHOD OF MANUFACTURING AN OPTICAL ELEMENT 审中-公开
标题翻译：制造光学元件的方法
公开(公告)号：WO2005114101A8
公开(公告)日：2006-02-09
申请号：PCT/EP2004005194
申请日：2004-05-14
申请人： ZEISS CARL SMT AG , ARNOLD RALF , DOERBAND BERND , SCHILLKE FRANK , BEDER SUSANNE
发明人： ARNOLD RALF , DOERBAND BERND , SCHILLKE FRANK , BEDER SUSANNE
IPC分类号： G01B11/24 , B24B13/015 , B24B49/12
CPC分类号： G01B11/2441
摘要： A method of manufacturing an optical element (5) includes testing the optical element (5) by using an interferometer optics (1) generating a beam (13) of measuring light illuminating only a sub-aperture of the tested optical element (5). The interferometer optics (1) comprises a hologram. Results of the sub-aperture measurement are stitched together to obtain a measuring result with respect to the full surface of the optical element (5). Further, a method of calibrating the interferometer optics (1) includes performing an interferometric measurement using a calibrating optics having a hologram covering only a sub-aperture of the full cross section of the beam (13) of measuring light generated by the interferometer optics (1) and stitching together the sub-aperture measurements to obtain a result indicative for the full cross section of the interferometer optics (1).
摘要翻译：制造光学元件（5）的方法包括通过使用产生仅照射被测光学元件（5）的子孔径的光的光束（13）的干涉仪光学元件（1）来测试光学元件（5）。干涉仪光学器件（1）包括全息图。将子孔径测量的结果缝合在一起以获得关于光学元件（5）的整个表面的测量结果。此外，校准干涉仪光学器件（1）的方法包括使用校准光学器件执行干涉测量，所述校准光学器件具有仅覆盖光束（13）的全横截面的子孔径的测量由干涉仪光学器件产生的光的全息图（ 1）并且将子孔径测量结合在一起以获得指示干涉仪光学器件（1）的全部横截面的结果。

3. 发明申请

WO2009007087A9 OPTICAL ELEMENT AND METHOD OF CALIBRATING A MEASURING APPARATUS COMPRISING A WAVE SHAPING STRUCTURE 审中-公开
公开(公告)号：WO2009007087A9
公开(公告)日：2009-01-15
申请号：PCT/EP2008/005547
申请日：2008-07-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HETZLER, Jochen , SCHILLKE, Frank , SCHULTE, Stefan , FREIMANN, Rolf , DÖRBAND, Bernd
发明人： HETZLER, Jochen , SCHILLKE, Frank , SCHULTE, Stefan , FREIMANN, Rolf , DÖRBAND, Bernd
IPC分类号： B24B13/06
摘要： An optical element has an optical surface, which optical surface is adapted to a non-spherical target shape, such that a long wave variation of the actual shape of the optical surface with respect to the target shape is limited to a maximum value of 0,2 nm, wherein the long wave variation includes only oscillations having a spatial wavelength equal to or larger than a minimum spatial wavelength of 10 mm.

4. 发明申请

WO2008012091A3 METHOD AND APPARATUS FOR DETERMINING A DEVIATION OF AN ACTUAL SHAPE FROM A DESIRED SHAPE OF AN OPTICAL SURFACE 审中-公开
标题翻译：用于从光学表面的目标确定实际形状的偏差的方法和装置
公开(公告)号：WO2008012091A3
公开(公告)日：2008-03-13
申请号：PCT/EP2007006639
申请日：2007-07-26
申请人： ZEISS CARL SMT AG , SCHILLKE FRANK , FREIMANN ROLF , DREHER MATTHIAS
发明人： SCHILLKE FRANK , FREIMANN ROLF , DREHER MATTHIAS
IPC分类号： G01B11/24 , G01M11/02
CPC分类号： G01B11/2441 , G01B9/02039
摘要： A method for determining a deviation of an actual shape from a desired shape of an optical surface (12; 103) comprises the following steps: provision of an incoming electromagnetic measurement wave (20; 113), provision of two diffractive structures (47, 49; 145, 146, 141, 143) which are in each case designed to reshape the wavefront of an incoming wave, calibration of one of the two diffractive structures (47, 49; 145, 146, 141, 143) by irraditiation of the incoming measurement wave (20; 113) onto the at least one diffractive structure(47, 49; 145, 146, 141, 143) to be calibrated, and determination of a calibration deviation of the actual wavefront from a desired wavefront of the measurement wave (20; 113) after its interaction with the at least one diffractive structure (47; 49; 145, 146, 141, 143) to be calibrated, arrangement of the two diffractive structures (47; 49; 145, 146, 141, 143) in the beam path of the incoming measurement wave (20; 113) such that individual rays of the measurement wave radiate through the two diffractive structures (47; 49; 145, 146, 141, 143), and reshaping of the incoming measurement wave (20; 113) by means of the two diffractive structures (47; 49; 145, 146, 141, 143) into a matched measurement wave (64; 114) whose wavefront is matched to the desired shape of the optical surface (12; 103), arrangement of the optical surface (12; 103) in the beam path of the matched measurement wave (64, 114) such that the matched measurement wave (64; 114) interacts with the optical surface (12; 103), and measurement of the wavefront of the matched measurement wave (64; 114) after its interaction with the optical surface (12; 103).
摘要翻译：一种用于从光学表面（12; 103）的所希望的形状确定实际形状的偏差的方法包括以下步骤：提供一个进入的电磁测量轴（20; 113），提供两个衍射结构（47，49; 145，146，141， 143），其每个被设计为变换入射波的波前，校准所述两个衍射结构中的一个（47，49;通过照射进来的测量轴（20 145,146，141，143）;在所述至少一个到113）校准衍射结构（47，49; 145，146，141，143），并且确定来自目标波前的测量轴（20; 113）的实际波前的校准偏差与所述至少一个相互作用后要被校准的衍射结构（47; 49; 145 ，146,141,143），以这种方式将两个衍射结构（47,49,145,146,141,143）布置在进入测量轴（20,113）的光束路径中测量轴的两个衍射结构（47; 49; 由射线145，146，141，143）;以及形成输入测量轴（20;由所述两个衍射结构（47装置113）; 49; 145，146，141，143）成匹配测量轴（64; 114），该波前于光学表面的所需形状（12; 103）被适配为将所述光学表面（12; 103）在适于测量轴（64，114）的光束路径中，以使适于测量轴（64; 114）与所述光学表面（12 根据其与所述光学表面（12; 103）的相互作用来测量所述调整后的测量波（64; 114）的波前。

5. 发明申请

WO2008012091A2 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM BESTIMMEN EINER ABWEICHUNG EINER TATSÄCHLICHEN FORM VON EINER SOLLFORM EINER OPTISCHEN OBERFLÄCHE 审中-公开
标题翻译：用于确定一个实际形式的偏差的方法和装置应该形成的光学表面
公开(公告)号：WO2008012091A2
公开(公告)日：2008-01-31
申请号：PCT/EP2007/006639
申请日：2007-07-26
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHILLKE, Frank , FREIMANN, Rolf , DREHER, Matthias
发明人： SCHILLKE, Frank , FREIMANN, Rolf , DREHER, Matthias
IPC分类号： G01M11/02 , G01B11/24
CPC分类号： G01B11/2441 , G01B9/02039
摘要： Ein Verfahren zum Bestimmen einer Abweichung einer tatsächlichen Form von einer Sollform einer optischen Oberfläche (12; 103) umfasst folgende Schritte: Bereitstellen einer eingehenden elektromagnetischen Messwelle (20; 113), Bereitstellen zweier diffraktiver Strukturen (47, 49; 145, 146, 141, 143), die jeweils darauf ausgelegt sind, die Wellenfront einer eintreffenden Welle umzuformen, Kalibrieren eines der beiden diffraktiven Strukturen (47, 49; 145, 146, 141, 143) durch Einstrahlen der eingehenden Messwelle (20; 113) auf die mindestens eine zu kalibrierende diffraktive Struktur (47, 49; 145, 146, 141, 143) und Bestimmen einer Kalibrierabweichung der tatsächlichen Wellenfront von einer Sollwellenfront der Messwelle (20; 113) nach deren Interaktion mit der mindestens einen zu kalibrierenden diffraktiven Struktur (47; 49; 145, 146, 141, 143), Anordnen der beiden diffraktiven Strukturen (47; 49; 145, 146, 141, 143) derart im Strahlengang der eingehenden Messwelle (20; 113), dass einzelne Strahlen der Messwelle beide diffraktive Strukturen (47; 49; 145, 146, 141, 143) durchstrahlen, und Umformen der eingehenden Messwelle (20; 113) mittels der beiden diffraktiven Strukturen (47; 49; 145, 146, 141, 143) in eine angepasste Messwelle (64; 114), deren Wellenfront an die Sollform der optischen Oberfläche (12; 103) angepasst ist, Anordnen der optischen Oberfläche (12; 103) im Strahlengang der angepassten Messwelle (64, 114), so dass die angepasste Messwelle (64; 114) mit der optischen Oberfläche (12; 103) in Interaktion tritt, sowie Vermessen der Wellenfront der angepassten Messwelle (64; 114) nach deren Interaktion mit der optischen Oberfläche (12; 103).
摘要翻译：一种用于从光学表面（12; 103）的所希望的形状确定实际形状的偏差的方法包括以下步骤：提供一个进入的电磁测量轴（20; 113），提供两个衍射结构（47，49; 145，146，141， 143），其每个被设计为变换入射波的波前，校准所述两个衍射结构中的一个（47，49;通过照射进来的测量轴（20 145,146，141，143）;在所述至少一个到113）校准衍射结构（47，49; 145，146，141，143），并且确定来自目标波前的测量轴（20; 113）的实际波前的校准偏差与所述至少一个相互作用后要被校准的衍射结构（47; 49; 145 ，146，141，143），布置两个衍射结构（47; 49; 145，146，141，143）中输入的测量轴（20的辐射通路; 113），该einz 测量轴两个衍射结构（47埃尔讷射线; 49; 由射线145，146，141，143）;以及形成输入测量轴（20;由所述两个衍射结构（47装置113）; 49; 145，146，141，143）成匹配测量轴（64; 114），该波前于光学表面的所需形状（12; 103）被适配为将所述光学表面（12; 103）在适于测量轴（64，114）的光束路径中，以使适于测量轴（64; 114）与所述光学表面（12 ; 103）相互作用，并测量适于测量轴（64的波前;根据它们与所述光学表面（12相互作用）114; 103）。

6. 发明申请

WO2005114101A1 METHOD OF MANUFACTURING AN OPTICAL ELEMENT 审中-公开
标题翻译：制造光学元件的方法
公开(公告)号：WO2005114101A1
公开(公告)日：2005-12-01
申请号：PCT/EP2004/005194
申请日：2004-05-14
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ARNOLD, Ralf , DÖRBAND, Bernd , SCHILLKE, Frank , BEDER, Susanne
发明人： ARNOLD, Ralf , DÖRBAND, Bernd , SCHILLKE, Frank , BEDER, Susanne
IPC分类号： G01B11/24
CPC分类号： G01B11/2441
摘要： A method of manufacturing an optical element (5) includes testing the optical element (5) by using an interferometer optics (1) generating a beam (13) of measuring light illuminating only a sub-aperture of the tested optical element (5). The interferometer optics (1) comprises a hologram. Results of the sub-aperture measurement are stitched together to obtain a measuring result with respect to the full surface of the optical element (5). Further, a method of calibrating the interferometer optics (1) includes performing an interferometric measurement using a calibrating optics having a hologram covering only a sub-aperture of the full cross section of the beam (13) of measuring light generated by the interferometer optics (1) and stitching together the sub-aperture measurements to obtain a result indicative for the full cross section of the interferometer optics (1).
摘要翻译：制造光学元件（5）的方法包括通过使用产生仅照射被测光学元件（5）的子孔径的光的光束（13）的干涉仪光学元件（1）来测试光学元件（5）。干涉仪光学器件（1）包括全息图。将子孔径测量的结果缝合在一起以获得关于光学元件（5）的整个表面的测量结果。此外，校准干涉仪光学器件（1）的方法包括使用校准光学器件执行干涉测量，所述校准光学器件具有仅覆盖光束（13）的全横截面的子孔径的测量由干涉仪光学器件产生的光的全息图（ 1）并且将子孔径测量结合在一起以获得指示干涉仪光学器件（1）的全部横截面的结果。

7. 发明申请

WO2004046641A1 VERFAHREN ZUM KALIBRIEREN EINES INTERFEROMETERS, VERFAHREN ZUM QUALIFIZIEREN EINES OBJEKTS UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES OBJEKTS 审中-公开
标题翻译：程序用于校准干涉，方法符合条件的对象及其制造方法的对象
公开(公告)号：WO2004046641A1
公开(公告)日：2004-06-03
申请号：PCT/EP2002/013091
申请日：2002-11-21
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FREIMANN, Rolf , DÖRBAND, Bernd , SCHILLKE, Frank , BEIERSDÖRFER, Susanne , SCHULTE, Stefan
发明人： FREIMANN, Rolf , DÖRBAND, Bernd , SCHILLKE, Frank , BEIERSDÖRFER, Susanne , SCHULTE, Stefan
IPC分类号： G01B9/02
CPC分类号： G01B9/02072 , G01B9/02039 , G01M11/005
摘要： Es wird ein Verfahren zum Kalibrieren eines Interferometers mit einem Kompensationssystem zur Vermessung einer asphärischen Oberfläche vorgeschlagen, welches umfasst: Bereitstellen des Interferometers (1) mit dem Kompensationssystem (25). Anordnen einer Referenzoptik-Baugruppe (29), welche einen Spiegel (37) mit einer vorbestimmten Spiegelfläche und ein von der Spiegelfläche (37) separates vorbestimmtes Diffraktionsmuster (39) Überlagern der zurücklaufenden Wellenfronten nach deren Durchlaufen des Kompensationssystems (25) mit einer Referenzwellenfront zu einem Interferenzmuster, und Bestimmen von optischen Eigenschaften des Interferometers (1) und des Kompensationssystems (25) aus dem Interferenzmuster.
摘要翻译：建议用的补偿系统，用于测量非球面表面，用于校准的干涉仪的方法，包括：提供所述干涉仪（1）到补偿系统（25）。布置参比光学装置组件（29），其包括具有预定反射镜表面和从反射镜表面（37）的反射镜（37）分开的预定的衍射图案（39）通过所述补偿系统（25）与参考波阵面到叠加其通过后返回的波前干涉图案，以及确定干涉仪（1）和从所述干涉图案的补偿系统（25）的光学特性。

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