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1. 发明申请

WO2012159968A3 ILLUMINATION OPTICAL UNIT 审中-公开
公开(公告)号：WO2012159968A3
公开(公告)日：2012-11-29
申请号：PCT/EP2012/059173
申请日：2012-05-16
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ENDRES, Martin
发明人： ENDRES, Martin
IPC分类号： G21K1/06 , G03F7/20
摘要： An illumination optical unit (4) for an EUV projection exposure apparatus has a diaphragm (23) comprising a radiation-transmissive region having a discrete symmetry group. The form of the diaphragm (23) is adapted to the form of the facets of a pupil facet mirror (18) or to the form of the radiation source (3). The diaphragm (23) is preferably arranged in the region of an intermediate focal plane.

2. 发明申请

WO2010149487A2 IMAGING OPTICAL SYSTEM FOR IMAGING AN OBJECT FIELD IN AN IMAGE FIELD AND ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM FOR ILLUMINATING AN OBJECT FIELD 审中-公开
标题翻译：用于在物体场中成像的成像光学系统和用于照射对象场的照明光学系统
公开(公告)号：WO2010149487A2
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：PCT/EP2010/057971
申请日：2010-06-08
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , MANN, Hans-Jürgen , ZELLNER, Johannes , DODOC, Aurelian , PRETORIUS, Marco , MENKE, Christoph , ULRICH, Wilhelm , ENDRES, Martin
发明人： MANN, Hans-Jürgen , ZELLNER, Johannes , DODOC, Aurelian , PRETORIUS, Marco , MENKE, Christoph , ULRICH, Wilhelm , ENDRES, Martin
IPC分类号： G02B17/06
CPC分类号： G02B17/0663 , G02B27/0905 , G03F7/70233
摘要： An imaging optical system has a plurality of mirrors, which image an object field (9) in an object plane (11) into an image field (13) in an image plane (14). A reflection face of at least one of the mirrors is configured as a free form face which cannot be described by a rotationally symmetrical function. The object field has an aspect ratio (x/y), which is greater than 1, a ratio of a minimal and a maximal transverse dimension of the object field being smaller than 0.9. In a further aspect, the object field (9) and/or the image field (13) deviate from a mirror-symmetrical field form. An illumination optical system (10) for illuminating the object field (9) has components guiding illumination light (3) which are designed to illuminate a correspondingly formed object field (9). The result is an imaging optical system, an illumination optical system and a projection exposure system equipped therewith, with which increased demands on the correction of imaging errors are taken into account over the field imaged by the imaging optical system.
摘要翻译：成像光学系统具有多个反射镜，其将物平面（11）中的物场（9）成像为图像平面（14）中的图像场（13）。至少一个反射镜的反射面构成为不能用旋转对称的功能描述的自由表面。对象字段的长宽比（x / y）大于1，对象字段的最小和最大横向维度的比值小于0.9。在另一方面，对象字段（9）和/或图像字段（13）偏离镜像对称字段形式。用于照明物场（9）的照明光学系统（10）具有引导照明光（3）的部件，其被设计成照射相应形成的物体场（9）。结果是成像光学系统，照明光学系统和配备有其的投影曝光系统，在成像光学系统成像的场上考虑对成像误差的校正的增加的需求。

3. 发明申请

WO2010037453A9 FIELD FACET MIRROR FOR USE IN AN ILLUMINATION OPTICS OF A PROJECTION EXPOSURE APPRATUS FOR EUV MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：用于EUV微影摄影的投影曝光照明的照明光学用途的场面反射镜
公开(公告)号：WO2010037453A9
公开(公告)日：2010-07-01
申请号：PCT/EP2009006290
申请日：2009-08-31
申请人： ZEISS CARL SMT AG , STAICU ADRIAN , ENDRES MARTIN
发明人： STAICU ADRIAN , ENDRES MARTIN
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/08
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/0875 , G02B5/0891 , G02B5/09 , G02B19/0023 , G02B19/0047 , G02B19/0095 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70108 , Y10T29/49826
摘要： A field facet mirror serves for use in an illumination optics of a projection exposure apparatus for EUV microlithography for transmitting a structure of an object arranged in an object field into an image field. The field facet mirror (6) has a plurality of field facets (18X) with reflection surfaces (22). The arrangement of the field facets (18X) next to one another spans a base plane (xy). Projections of the reflection surfaces (22) of at least two of the field facets (18X) onto the base plane (x, y) differ with respect to at least one of the following parameters: size, shape, orientation. A field facet mirror results, in which the ensuring of a uniform object field illumination with a simultaneously high EUV throughput meets high requirements.
摘要翻译：场分面镜用于用于EUV微光刻的投影曝光设备的照明光学系统，用于将布置在物场中的物体的结构传输到像场中。场分面镜（6）具有多个具有反射面（22）的场面（18X）。场面（18X）彼此相邻的布置跨越基面（xy）。至少两个场小平面（18X）到基平面（x，y）上的反射表面（22）的投影相对于以下参数中的至少一个而不同：尺寸，形状，取向。现场分面镜的结果，其中确保均匀的物场照明同时具有高EUV吞吐量，满足高要求。

4. 发明申请

WO2009100856A1 FACET MIRROR FOR USE IN A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：用于微型计算机投影曝光装置的FACET MIRROR
公开(公告)号：WO2009100856A1
公开(公告)日：2009-08-20
申请号：PCT/EP2009/000825
申请日：2009-02-06
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DINGER, Udo , ENDRES, Martin , WERBER, Armin , MÜHLBERGER, Norbert , BACH, Florian
发明人： DINGER, Udo , ENDRES, Martin , WERBER, Armin , MÜHLBERGER, Norbert , BACH, Florian
IPC分类号： G02B5/09 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/09 , G02B26/06 , G02B26/0816 , G02B26/0833 , G02B27/0927 , G03F7/70075 , G03F7/70116
摘要： A facet mirror is to be used as a bundle-guiding optical component in a projection exposure apparatus for microlithography. The facet mirror has a plurality of separate mirrors (21). For individual deflection of incident illumination light, these separate mirrors (21) are in each case connected to an actuator in such a way that they are separately tiltable about at least one tilt axis (x, y). A control device, which is connected to the actuators, is configured in such a way that a given grouping of the separate mirrors (21) can be grouped into separate mirror groups (19) comprising in each case at least two separate mirrors (21). The result is a facet mirror which, when installed in the projection exposure apparatus, increases the variability for setting various illumination geometries of an object field to be illuminated by the projection exposure apparatus. Various embodiments of separate mirrors for forming the facet mirrors are described.
摘要翻译：在用于微光刻的投影曝光装置中，将使用小平面镜作为束引导光学部件。小平面镜具有多个独立的反射镜（21）。对于入射照明光的单独偏转，这些分离的反射镜（21）在每种情况下都连接到致动器，使得它们可以围绕至少一个倾斜轴（x，y）分开倾斜。连接到致动器的控制装置被配置成使得分立的反射镜（21）的给定分组可以分组成分离的反射镜组（19），每个反射镜组（19）在每种情况下包括至少两个分离的反射镜（21）。其结果是，当安装在投影曝光装置中时，增加了用于设置由投影曝光装置照亮的对象场的各种照明几何形状的可变性的刻面镜。描述了用于形成小平面反射镜的分立反射镜的各种实施例。

5. 发明申请

WO2012076454A1 ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM FOR PROJECTION LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：用于投影光刻的照明光学系统
公开(公告)号：WO2012076454A1
公开(公告)日：2012-06-14
申请号：PCT/EP2011/071714
申请日：2011-12-05
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , OSSMANN, Jens , ENDRES, Martin , STÜTZLE, Ralf
发明人： OSSMANN, Jens , ENDRES, Martin , STÜTZLE, Ralf
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70141 , G03F7/70058
摘要： An illumination optical system for projection lithography has an optical assembly for guiding illumination light to an object field (19) to be illuminated in an object plane (17). The illumination optical system divides a bundle of the illumination light into a plurality of part bundles, which are allocated to various illumination directions of the object field illumination. The illumination optical system is configured in such a way that at least some of the part bundles are superimposed on one another in a first superimposition plane (31) according to a first superimposition specification and in a second superimposition plane (16), which is spaced apart from the first superimposition plane (31), according to a second superimposition specification. The result is an illumination optical system, in which an influencing and/or a monitoring of an illumination intensity distribution over the object field is made possible, as far as possible without influencing an illumination angle distribution.
摘要翻译：用于投影光刻的照明光学系统具有用于将照明光引导到在物平面（17）中被照明的物场（19）的光学组件。照明光学系统将一束照明光分成分配给物场照明的各种照明方向的多个部分束。照明光学系统被配置成使得至少一些部分束根据第一叠加指示在第一叠加平面（31）中彼此重叠，并且在第二叠加平面（16）中被间隔开除了第一叠加平面（31）之外，根据第二重叠规格。结果是在不影响照明角度分布的情况下尽可能地使对物场的照明强度分布的影响和/或监视成为可能的照明光学系统。

6. 发明申请

WO2011073039A3 IMAGING OPTICS 审中-公开
标题翻译：成像光学
公开(公告)号：WO2011073039A3
公开(公告)日：2011-09-29
申请号：PCT/EP2010068782
申请日：2010-12-03
申请人： ZEISS CARL SMT GMBH , MANN HANS-JUERGEN , ENDRES MARTIN , SHAFER DAVID , WARM BERNDT , HERKOMMER ALOIS
发明人： MANN HANS-JUERGEN , ENDRES MARTIN , SHAFER DAVID , WARM BERNDT , HERKOMMER ALOIS
IPC分类号： G02B17/06 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B17/0652 , G03F7/702 , G03F7/70275
摘要： An imaging optics (16) for lithographic projection exposure for guiding a bundle of imaging light (3) with a wavelength shorter than 193 nm by means of a plurality of mirrors (M1 to M6) for beam-splitter-free imaging of a reflective object (12) in an object field (4) in an object plane (5) into an image field (17) in an image plane (18), an object field point having a central ray angle (a) which is smaller than 3°. At least one of the mirrors (M1 to M6) is a near-field mirror. The result is an imaging optics which allows for high-quality imaging of a reflective object.
摘要翻译：一种用于光刻投影曝光的成像光学器件（16），用于借助多个反射镜（M1至M6）引导波长短于193nm的成像光束（3），用于反射物体的无分束器成像（5）中的物场（4）中的像场（12）转换成像平面（18）中的像场（17），具有小于3°的中心光线角度（a）的物场点。至少一个反射镜（M1至M6）是近场反射镜。其结果是成像光学器件可以对反射物体进行高质量成像。

7. 发明申请

WO2010099807A1 BELEUCHTUNGSOPTIK SOWIE OPTISCHE SYSTEME FÜR DIE MIKROLITHOGRAPHIE 审中-公开
标题翻译：照明的光学元件和微光刻光学系统
公开(公告)号：WO2010099807A1
公开(公告)日：2010-09-10
申请号：PCT/EP2009/001622
申请日：2009-03-06
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ENDRES, Martin
发明人： ENDRES, Martin
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G03F7/70066 , G03F7/70075 , G03F7/70108 , G03F7/70191
摘要： Eine Beleuchtungsoptik für die Mikrolithographie dient zur Ausleuchtung eines Objektfeldes (12). Die Beleuchtungsoptik hat eine erste Übertragungsoptik zur Führung von Beleuchtungslicht (3), ausgehend von einer Lichtquelle. Der ersten Übertragungsoptik nachgeordnet ist ein Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegel (7) mit einer Vielzahl von Beleuchtungsvorgabe-Facetten (25). Der Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegel (7) erzeugt eine vorgegebene Ausleuchtung des Objektfeldes (12) über eine ausleuchtbare Berandungsform des Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegels (7) und individuelle Kippwinkel der Beleuchtungsvorgabe-Facetten (25). Eine Anordnung der ersten Übertragungsoptik und des Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegels (7) ist derart, dass eine telezentrische Beleuchtung des Objektfeldes (12) resultiert. Ein optisches System gemäß einem weiteren Aspekt hat zwischen dem Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegel und dem Objektfeld eine Eintrittspupillenebene einer Projektionsoptik, die zusammen mit der Beleuchtungsoptik zu einem optischen System für die Mikrolithographie gehört. Eine Anordnung der ersten Übertragungsoptik und des Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegels ist bei diesem weiteren Aspekt derart, dass eine an die Eintrittspupille der Projektionsoptik angepasste Beleuchtung des Objektfeldes resultiert. Bei weiteren Aspekten innerhalb eines optischen Systems mit einer Projektionsoptik und einer Beleuchtungsoptik liegen im Verhältnis zu einer Baulänge der Projektionsoptik ein großer Objekt-Bild-Versatz bzw. ein großer Zwischenfokus-Bild-Versatz vor. Es resultieren Beleuchtungsoptiken und optische Systeme, die besonderen Effizienzanforderungen hinsichtlich der Nutzung des Beleuchtungslichts genügen.
摘要翻译：用于微光刻的照明光学系统，用于照明物场（12）。该照明光学部件具有用于引导照明光（3），从光源出发的第一传输光学系统。第一传输光纤的下游是具有多个照明预置刻面（25）的照明默认分面镜（7）。照明默认分面镜（7）通过所述照明目标面镜（7）和所述照明默认面的各个倾斜角度（25）的光激励边界形状产生的物场（12）的预定的照明。和照明默认分面镜（7）所述第一中继光学器件的布置是这样的物视场的远心照明（12）的结果。根据另一个方面的光学系统具有照明默认分面镜和所述物场的投影光学系统，它与照明光学系统的用于微光刻的光学系统一起所属的入射光瞳平面之间。所述第一中继光学器件和照明默认分面镜的布置在这个另外的方面，其适合于物场结果的投影光学装置照明的入射光瞳是这样。在具有投影光学系统和照明光学系统的光学系统内的进一步的方面是一大对象图像偏移或相对于一个大的中间焦点像位移到投射光学部件的整体长度。这导致照明光学器件以及满足关于使用的照明光的特定性能要求的光学系统。

8. 发明申请

WO2009115180A1 PROJECTION OBJECTIVE FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：投影目标的微观算法
公开(公告)号：WO2009115180A1
公开(公告)日：2009-09-24
申请号：PCT/EP2009/001448
申请日：2009-02-28
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ZELLNER, Johannes , MANN, Hans-Jürgen , ENDRES, Martin
发明人： ZELLNER, Johannes , MANN, Hans-Jürgen , ENDRES, Martin
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70316 , G02B17/0663 , G03F7/702 , G03F7/70233
摘要： A projection objective (7) for microlithography is used for imaging an object field (4) in an object plane (5) into an image field (8) in an image plane (9). The projection objective (7) comprises at least six mirrors (M1 to M6) of which at least one mirror has a freeform reflecting surface. According to one aspect of the invention, the ratio between an overall length (T) of the projection objective (7) and an object image shift (d OIS ) is smaller than 12. According to another aspect of the invention, the image plane (9) is the first field plane of the projection objective (7) downstream of the object plane (5). According to another aspect of the invention, the projection objective has a plurality of mirrors (M1 to M6), wherein the ratio between an overall length (T) and an object image shift (d OIS ) is smaller than 2.
摘要翻译：用于微光刻的投影物镜（7）用于将物平面（5）中的物场（4）成像为图像平面（9）中的图像场（8）。投影物镜（7）包括至少六个反射镜（M1至M6），其中至少一个反射镜具有自由形反射表面。根据本发明的一个方面，投影物镜（7）的总长（T）与物体像偏移（dOIS）之间的比率小于12.根据本发明的另一方面，图像平面（9 ）是物平面（5）下游的投影物镜（7）的第一场平面。根据本发明的另一方面，投影物镜具有多个反射镜（M1至M6），其中总长度（T）和物体图像偏移（dOIS）之间的比率小于2。

9. 发明申请

WO2008149178A1 CATOPTRIC ILLUMINATION SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY TOOL 审中-公开
标题翻译：用于微型工具的电子照明系统
公开(公告)号：WO2008149178A1
公开(公告)日：2008-12-11
申请号：PCT/IB2007/003547
申请日：2007-06-07
申请人： CARL ZEISS SMT AG , OSSMANN, Jens , ENDRES, Martin , STUETZLE, Ralf
发明人： OSSMANN, Jens , ENDRES, Martin , STUETZLE, Ralf
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G03F7/70075 , G03F7/70083
摘要： In general, in one aspect, the invention features a system that includes an illumination system of a microlithography tool, the illumination system including a first component (400) having a plurality of elements (401). During operation of the system, the elements direct radiation from a source along an optical path to an arc-shaped object field at an object plane of a projection objective, and at least one of the elements (410) has a curved shape that is different from the arc-shape of the object field.
摘要翻译：通常，一方面，本发明的特征在于包括微光刻工具的照明系统的系统，所述照明系统包括具有多个元件（401）的第一部件（400）。在系统的操作期间，元件将来自源的光源沿着光路引导到投影物镜的物平面处的弧形物场，并且至少一个元件（410）具有不同的弯曲形状从对象字段的弧形。

10. 发明申请

WO2012159968A2 ILLUMINATION OPTICAL UNIT 审中-公开
标题翻译：照明光学单元
公开(公告)号：WO2012159968A2
公开(公告)日：2012-11-29
申请号：PCT/EP2012059173
申请日：2012-05-16
申请人： ZEISS CARL SMT GMBH , ENDRES MARTIN
发明人： ENDRES MARTIN
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70075 , G03F7/70033 , G03F7/70158 , G03F7/70175 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G21K1/02
摘要： An illumination optical unit (4) for an EUV projection exposure apparatus has a diaphragm (23) comprising a radiation-transmissive region having a discrete symmetry group. The form of the diaphragm (23) is adapted to the form of the facets of a pupil facet mirror (18) or to the form of the radiation source (3). The diaphragm (23) is preferably arranged in the region of an intermediate focal plane.
摘要翻译：用于EUV投影曝光装置的照明光学单元（4）具有包括具有离散对称组的辐射透射区域的光阑（23）。隔膜（23）的形式适于瞳孔面反射镜（18）的小面或辐射源（3）的形式。隔膜（23）优选地布置在中间焦平面的区域中。

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