专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2010149487A2 IMAGING OPTICAL SYSTEM FOR IMAGING AN OBJECT FIELD IN AN IMAGE FIELD AND ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM FOR ILLUMINATING AN OBJECT FIELD 审中-公开
标题翻译：用于在物体场中成像的成像光学系统和用于照射对象场的照明光学系统
公开(公告)号：WO2010149487A2
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：PCT/EP2010/057971
申请日：2010-06-08
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , MANN, Hans-Jürgen , ZELLNER, Johannes , DODOC, Aurelian , PRETORIUS, Marco , MENKE, Christoph , ULRICH, Wilhelm , ENDRES, Martin
发明人： MANN, Hans-Jürgen , ZELLNER, Johannes , DODOC, Aurelian , PRETORIUS, Marco , MENKE, Christoph , ULRICH, Wilhelm , ENDRES, Martin
IPC分类号： G02B17/06
CPC分类号： G02B17/0663 , G02B27/0905 , G03F7/70233
摘要： An imaging optical system has a plurality of mirrors, which image an object field (9) in an object plane (11) into an image field (13) in an image plane (14). A reflection face of at least one of the mirrors is configured as a free form face which cannot be described by a rotationally symmetrical function. The object field has an aspect ratio (x/y), which is greater than 1, a ratio of a minimal and a maximal transverse dimension of the object field being smaller than 0.9. In a further aspect, the object field (9) and/or the image field (13) deviate from a mirror-symmetrical field form. An illumination optical system (10) for illuminating the object field (9) has components guiding illumination light (3) which are designed to illuminate a correspondingly formed object field (9). The result is an imaging optical system, an illumination optical system and a projection exposure system equipped therewith, with which increased demands on the correction of imaging errors are taken into account over the field imaged by the imaging optical system.
摘要翻译：成像光学系统具有多个反射镜，其将物平面（11）中的物场（9）成像为图像平面（14）中的图像场（13）。至少一个反射镜的反射面构成为不能用旋转对称的功能描述的自由表面。对象字段的长宽比（x / y）大于1，对象字段的最小和最大横向维度的比值小于0.9。在另一方面，对象字段（9）和/或图像字段（13）偏离镜像对称字段形式。用于照明物场（9）的照明光学系统（10）具有引导照明光（3）的部件，其被设计成照射相应形成的物体场（9）。结果是成像光学系统，照明光学系统和配备有其的投影曝光系统，在成像光学系统成像的场上考虑对成像误差的校正的增加的需求。

2. 发明申请

WO2010115500A1 IMAGING OPTICS AND PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION FOR MICROLITHOGRAPHY WITH AN IMAGING OPTICS OF THIS TYPE 审中-公开
标题翻译：使用这种类型的成像光学的成像光学和投影曝光安装
公开(公告)号：WO2010115500A1
公开(公告)日：2010-10-14
申请号：PCT/EP2010/001512
申请日：2010-03-11
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MANN, Hans-Jürgen , ZELLNER, Johannes , DODOC, Aurelian , ZAHLTEN, Claus , MENKE, Christoph , PRETORIUS, Marco , ULRICH, Wilhelm , ROSTALSKI, Hans-Jürgen
发明人： MANN, Hans-Jürgen , ZELLNER, Johannes , DODOC, Aurelian , ZAHLTEN, Claus , MENKE, Christoph , PRETORIUS, Marco , ULRICH, Wilhelm , ROSTALSKI, Hans-Jürgen
IPC分类号： G02B17/06 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B17/0663 , G02B17/0888
摘要： An imaging optics (36) has a plurality of mirrors (M1 to M6), which image an object field (4) in an object plane (5) in an image field (8) in an image plane (9). A first mirror (M1) is arranged in the imaging beam path of imaging light after the object field (4) and a last mirror (M6) is arranged in the imaging beam path before the image field (8). In the unfolded imaging beam path, an impingement point of a chief ray (16), which belongs to a central object field point, on a useful face (23) of each of the mirrors (M1 to M6), which is configured to guide the imaging light (3), has a mirror spacing (Z M ) from the image plane (9). The mirror spacing (Z M1 ) of the first mirror (Ml) is greater than the mirror spacing (Z M6 ) of the last mirror (M6). The mirror spacing (z M3 ) of a fourth to last mirror (M3) is greater than the mirror spacing (z M1 ) of the first mirror (M1). In a further aspect of the invention, a reflection surface of at least one of the mirrors (M1 to M6) of the imaging optics (36) is configured as a static free form surface which cannot be described by a rotationally symmetrical function. This differs from an aspherical surface best adapted thereto, which can be described by a rotationally symmetrical function in that a normal (FNB) to a free form surface element (20) of a used region (23) of the free form surface, which is configured to guide the imaging light (3), adopts an angle (α) of a maximum of 70 μrad with a normal (FN) to a corresponding asphere surface element (22) of the aspherical surface (21). With the two aspects, a handleable combination of small imaging errors, manageable production and good throuhput for the imaging light results.
摘要翻译：成像光学器件（36）具有多个反射镜（M1至M6），其对图像平面（9）中的图像场（8）中的物体平面（5）中的物体场（4）进行成像。在物场（4）的成像光束路径中布置第一反射镜（M1），并且在图像场（8）之前的成像光束路径中布置最后一个反射镜（M6）。在展开成像光束路径中，属于中心物体场点的主射线（16）的撞击点位于每个反射镜（M1至M6）的有用面（23）上，其被配置为引导成像光（3）具有与图像平面（9）的反射镜间隔（ZM）。第一反射镜（M1）的反射镜间距（ZM1）大于最后一个反射镜（M6）的反射镜间距（ZM6）。第四至最后一个反射镜（M3）的反射镜间距（zM3）大于第一反射镜（M1）的反射镜间隔（zM1）。在本发明的另一方面，成像光学器件（36）的至少一个反射镜（M1至M6）的反射表面被构造为无法通过旋转对称功能描述的静态自由形式表面。这与最适合于其的非球面不同，其可以通过旋转对称的功能来描述，其中自由形式表面的使用区域（23）的自由形式表面元件（20）的法线（FNB）是被配置为引导成像光（3），将正常（FN）的最大值为70μrad的角度（a）与非球面（21）的对应的非球面表面元件（22）进行比较。通过这两个方面，可以组合小的成像错误，可管理的生产和成像光的良好输出结果。

3. 发明申请

WO2010112328A1 IMAGING OPTICS AND PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION FOR MICROLITHOGRAPHY WITH AN IMAGING OPTICS OF THIS TYPE 审中-公开
标题翻译：使用这种类型的成像光学的成像光学和投影曝光安装
公开(公告)号：WO2010112328A1
公开(公告)日：2010-10-07
申请号：PCT/EP2010/053341
申请日：2010-03-16
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ZELLNER, Johannes , DODOC, Aurelian , PRETORIUS, Marco , MENKE, Christoph , ULRICH, Wilhelm , MANN, Hans-Jürgen
发明人： ZELLNER, Johannes , DODOC, Aurelian , PRETORIUS, Marco , MENKE, Christoph , ULRICH, Wilhelm , MANN, Hans-Jürgen
IPC分类号： G02B17/06 , G03F7/20
CPC分类号： G02B17/0657 , G03F7/70233
摘要： An imaging optics (7) has a plurality of mirrors (M1 to M6), which image an object field (4) in an object plane (5) in an image field (8) in an image plane (9). A pupil plane (17) is arranged in the imaging beam path between the object field (4) and the image field (8). A stop (20) is arranged in the pupil plane (17). The pupil plane (17) is tilted, in other words adopts an angle (α) with respect to the object plane (5), which is greater than 0.1°. An imaging optics results, with which a handleable combination of small imaging errors, manageable production and good throughput for the imaging light is achieved.
摘要翻译：成像光学器件（7）具有多个反射镜（M1至M6），其对图像平面（9）中的图像场（8）中的物体平面（5）中的物体场（4）进行成像。在物场（4）和图像场（8）之间的成像光束路径中布置瞳平面（17）。在光瞳平面（17）中设置有一个止动件（20）。瞳平面（17）倾斜，换句话说，相对于物平面（5）采取大于0.1°的角度（a）。可以获得成像光学元件，实现了成像光的小成像误差，可管理生产和良好生产量的可处理组合。

4. 发明申请

WO2007031271A1 MICROLITHOGRAPHY PROJECTION OPTICAL SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING A DEVICE AND METHOD TO DESIGN AN OPTICAL SURFACE 审中-公开
标题翻译：微型投影光学系统，制造设备的方法和设计光学表面的方法
公开(公告)号：WO2007031271A1
公开(公告)日：2007-03-22
申请号：PCT/EP2006/008869
申请日：2006-09-12
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MANN, Hans-Juergen , ULRICH, Wilhelm , PRETORIUS, Marco
发明人： MANN, Hans-Juergen , ULRICH, Wilhelm , PRETORIUS, Marco
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B13/0065 , G02B13/16 , G02B17/0621 , G02B17/0663 , G02B17/08 , G02B17/0804 , G02B21/04 , G03F7/70308
摘要： In general, in one aspect, the invention features a microlithography projection optical system (101) that includes a plurality of elements (310-360) arranged to image radiation from an object plane (103) to an image plane (102), at least one of the elements being a reflective element that has a rotationally asymmetric surface positioned in a path of the radiation. The rotationally asymmetric surface deviates from a rotationally symmetric surface by about 10 nm or more and the optical system is a microlithography projection optical system.
摘要翻译：通常，在一个方面，本发明的特征在于一种微光刻投影光学系统（101），其包括布置成将来自物平面（103）到图像平面（102）的辐射成像的多个元件（310-360），至少元件之一是具有位于辐射路径中的旋转非对称表面的反射元件。旋转对称表面偏离旋转对称表面约10nm或更大，并且光学系统是微光刻投影光学系统。

5. 发明申请

WO2009018875A1 HMD-VORRICHTUNG 审中-公开
标题翻译： HMD设备
公开(公告)号：WO2009018875A1
公开(公告)日：2009-02-12
申请号：PCT/EP2008/005056
申请日：2008-06-23
申请人： CARL ZEISS AG , PRETORIUS, Marco
发明人： PRETORIUS, Marco
IPC分类号： G02B27/01
CPC分类号： G02B27/0172 , G02B2027/011 , G02B2027/0174
摘要： Es wird bereitgestellt eine HMD-Vorrichtung mit einem Bildmodul (2) zum Erzeugen eines Bildes, einer dem Bildmodul (2) nachgeordneten und mindestens einer Linse (7, 8, 10) aufweisenden Relay-Optik (3), die das erzeugte Bild verzerrt als reelles gekrümmtes Zwischenbild in eine Zwischenbildfläche (5) abbildet, und einem der Zwischenbildfläche (5) nachgeordneten reflektiven Umlenkelement (4), das das reelle Zwischenbild als virtuelles Bild so abbildet, daß es ein die HMD-Vorrichtung tragender Benutzer wahrnehmen kann, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens zwei Flächen (F1, F2, F4) der Linse(n) (7, 8) der Relay-Optik (3) als nicht-rotationssymmetrisch gekrümmte Flächen ausgebildet sind, die maximal eine Spiegelsymmetrieebene aufweisen, und daß, das Umlenkelement (4) eine Reflexionsfläche (RF1 ) aufweist, die als nicht- rotationssymmetrisch gekrümmte Fläche mit maximal einer Spiegelsymmetrieebene derart ausgebildet ist, daß die durch die Relay-Optik (3) bedingte Vorverzerrung des Zwischenbildes bei Reflexion an der Reflexionsfläche (RF1) kompensiert wird.
摘要翻译：提供了一种HMD设备与图像模块（2）用于形成图像，布置在图像模块的下游（2）和至少一个透镜（7，8，10），其包括中继光学器件（3），该扭曲为产生的图像在中间图像表面（5）映射真实弯曲的中间图像，中间图像表面中的一个（5）的反射偏转元件的下游，（4），其作为虚像的真正中间图像，以便映射，它可以感知穿着HMD设备用户，其特征在于至少两个面上的透镜（ES）的（F1，F2，F4）（7,8）中继光学器件（3）的被形成为具有最大对称性的一个反射镜平面的非旋转对称的曲面，并且所述偏转元件（4 ）具有反射表面（RF1），其与形成这种最大镜面对称的一个平面的设置为非旋转对称曲面（通过中继光学系统3）相关的预失真当在反射面（RF1）反射所述中间图像进行补偿。

6. 发明申请

WO2013004687A1 ABBILDENDE OPTIK SOWIE OPTISCHES SYSTEM MIT EINER DERARTIGEN ABBILDENDEN OPTIK 审中-公开
标题翻译：图像结束光学和光学系统与这样的成像光学器件
公开(公告)号：WO2013004687A1
公开(公告)日：2013-01-10
申请号：PCT/EP2012/062895
申请日：2012-07-03
申请人： CARL ZEISS AG , SESSELBERG, Markus , BUCHHEISTER, Jan , PRETORIUS, Marco
发明人： SESSELBERG, Markus , BUCHHEISTER, Jan , PRETORIUS, Marco
IPC分类号： G02B13/18 , G02B27/00 , A61B3/12 , A61B3/13
CPC分类号： G02B27/0018 , A61B3/12 , A61B3/13 , G02B13/18
摘要： Ein Kamerasystem (1) hat eine abbildende Optik (2) zur Abbildung eines Objektfeldes (3) in ein Bildfeld (5). Die abbildende Optik (2) hat mindestens ein Variations-Optikmodul (19) mit mindestens zwei refraktiven optischen Variations-Komponenten (20, 21). Letztere sind zur gezielten Veränderung von Abbildungseigenschaften gegeneinander verlagerbar ausgeführt. Die Variations-Komponenten (20, 21) führen gleichzeitig einen Beleuchtungsstrahlengang (13) zur Beleuchtung des Objektfeldes (3) und einen Abbildungsstrahlengang (14). Eintrittsflächen (25) und Austrittsflächen (26) der Variations-Komponenten (20,21) sind im Strahlengang (13, 14) so orientiert, dass an diesen optischen Flächen (25, 26) reflektiertes Beleuchtungslicht (8) nicht in den Abbildungsstrahlengang (14) reflektiert ist. Mindestens eine der optischen Flächen (25, 26) ist als Freiformfläche ausgeführt. Es resultiert ein Kamerasystem, dessen abbildende Optik einerseits eine gezielte Veränderung von Abbildungseigenschaften ermöglicht und andererseits frei von unerwünschten Auflichtreflexen ist.
摘要翻译：一种照相机系统（1）具有摄像光学系统（2）用于成像物场（3）插入的像场（5）。成像光学系统（2）具有至少一个变体的光模块（19）的至少两个折射光学变化分量（20，21）。后者相对于彼此移位以成像特性的靶向修饰执行。的变化分量（20，21）在同一时间运行用于照明所述物场（3）和成像光束路径（14）的照明光束路径（13）。的变化分量（20,21）的入口面（25）和出射面（26）是在定向，使得在这些光学表面（25，26）反射的照明光（8）不是在成像光束路径中的光束路径（13，14）（14 ）被反射。至少一个所述光学面（25，26）被实施为一个自由曲面。这导致的照相机系统，在一方面的成像光学系统使成像特性和另一方面靶向修饰，自由无用Auflichtreflexen的。

7. 发明申请

WO2012089581A3 ABBILDUNGSSYSTEM UND ABBILDUNGSVERFAHREN 审中-公开
公开(公告)号：WO2012089581A3
公开(公告)日：2012-07-05
申请号：PCT/EP2011/073584
申请日：2011-12-21
申请人： CARL ZEISS AG , CARL ZEISS MEDITEC AG , PRETORIUS, Marco , SEESSELBERG, Markus , HOEGELE, Artur , NIETEN, Christoph , GEISSLER, Enrico
发明人： PRETORIUS, Marco , SEESSELBERG, Markus , HOEGELE, Artur , NIETEN, Christoph , GEISSLER, Enrico
IPC分类号： G02B21/00 , G02B21/22 , G02B27/00 , G02B21/36
摘要： Es wird bereitgestellt ein Abbildungssystem mit einer Abbildungsoptik (2) zum Abbilden eines Objektes (4) in eine Bildebene, wobei die Abbildungsoptik (2) für eine höhere Schärfentiefe eine optische Komponente (7) enthält, deren Brechkraft änderbar ist und deren optische Wirkung dabei rotationssymmetrisch bleibt.

8. 发明申请

WO2008141686A1 SPIEGELOPTIK UND ABBILDUNGSVERFAHREN ZUM SEITENRICHTIGEN UND AUFRECHTEN ABBILDEN EINES OBJEKTES IN EIN BILDFELD 审中-公开
标题翻译：反射镜光学和图方法正确，SIDE UPRIGHT成像的对象相框
公开(公告)号：WO2008141686A1
公开(公告)日：2008-11-27
申请号：PCT/EP2008/001850
申请日：2008-03-07
申请人： CARL ZEISS AG , PRETORIUS, Marco
发明人： PRETORIUS, Marco
IPC分类号： G02B17/06
CPC分类号： G02B17/0642 , G02B17/086
摘要： Es wird bereitgestellt eine Spiegeloptik zum seitenrichtigen und aufrechten Abbilden eines Objektes in ein Bildfeld (2), mit einer ungeraden Anzahl, die größer oder gleich drei ist, von Spiegeln (3, 4, 5, 11, 12, 13), die in einer Meridionalebene, die durch die Mittelpunkte des Bildfeldes (2) und der Eintrittspupille (6) der Spiegeloptik (1) geht, zyklisch angeordnet sind und deren Brechkräfte derart gewählt sind, daß das abzubildende Objekt in der Meridionalebene ohne Zwischenabbildung in das Bildfeld (2) und im senkrecht zur Meridionalebene verlaufenden Sagittalschnitt mit einer Zwischenabbildung in das Bildfeld (2) abgebildet wird, um die seitenrichtige und aufrechte Abbildung des Objekts zu bewirken.
摘要翻译：提供了一种反射镜光学系统，用于横向正确和直立在一个奇数大于或等于三，反射镜（3，4，5，11，12，13）成像在像场（2）的对象子午平面穿过图像场的中心的点（2）和入射光瞳（6）的反射镜光学系统（1）的通过，被循环地排列和它们的光焦度被选择成使得所述对象在子午平面被成像而没有中间图像到图像场（2）和被映射到垂直于子午面矢状切面与中间图像到图像场（2），以实现该对象的侧向正确和直立图像。

9. 发明申请

WO2013120800A1 WELLENFRONTMANIPULATOR UND OPTISCHES GERÄT 审中-公开
标题翻译：波前手和光学设备
公开(公告)号：WO2013120800A1
公开(公告)日：2013-08-22
申请号：PCT/EP2013/052673
申请日：2013-02-11
申请人： CARL ZEISS AG , PRETORIUS, Marco
发明人： PRETORIUS, Marco
IPC分类号： G02B3/14
CPC分类号： G02B27/0025 , G02B15/17 , G02B27/0075
摘要： Es wird ein Wellenfrontmanipulator mit wenigstens einer ersten optischen Komponente (1) und einer zweiten optischen Komponente (3) zur Verfügung gestellt. Die optischen Komponenten (1, 3) sind entlang einer optischen Achse (OA) hintereinander angeordnet, wobei die erste optische Komponente (1) und die zweite optische Komponente (3) jeweils in einer Bewegungsrichtung senkrecht zur optischen Achse (OA) relativ zueinander bewegbar angeordnet sind. Außerdem weisen die erste optische Komponente (1) und die zweite optische Komponente (3) jeweils mindestens eine refraktive Freiformfläche (5, 7) auf. Zwischen der ersten optische Komponente (1) und der zweiten optische Komponente (3) befindet sich ein die beiden Komponenten (1, 3) kontaktierendes Immersionsmedium.
摘要翻译：提供了一种波前操纵器与至少一个第一光学部件（1）和第二光学组件（3）。光学部件（1,3）沿光轴（OA）一个布置在另一个，后面，其中所述第一光学元件（1）和第二光学部件（3）各自在运动的垂直于光轴（OA）相对于彼此可移动地的方向是。此外，第一光学元件（1）和第二光学部件（3）各自具有至少一个折射自由形式表面（5，7）。所述第一光学部件（1）之间，并且所述第二光学组件（3）是，在两个部件（1,3）-contacting浸入介质。

10. 发明申请

WO2009156130A1 PROJEKTIONSSYSTEM 审中-公开
标题翻译：投影系统
公开(公告)号：WO2009156130A1
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：PCT/EP2009/004531
申请日：2009-06-23
申请人： CARL ZEISS AG , GEISSLER, Enrico , NIETEN, Christoph , RUDOLPH, Günter , PRETORIUS, Marco
发明人： GEISSLER, Enrico , NIETEN, Christoph , RUDOLPH, Günter , PRETORIUS, Marco
IPC分类号： G03B21/20 , H04N5/74 , H04N9/31
CPC分类号： G03B21/28 , G03B21/008 , H04N9/3126
摘要： Es wird bereitgestellt ein Projektionssystem mit einer ersten Kippspiegelmatrix (3), einer zweiten Kippspiegelmatrix (5) und einer Abbildungsoptik (4), die die erste Kippspiegelmatrix (3) auf die zweite Kippspiegelmatrix (5) abbildet, wobei jede Kippspiegelmatrix (3, 5) jeweils mehrere Kippspiegel aufweist, deren Kippachsen in einer Modulatorfläche liegen, bei dem die Abbildungsoptik eine erste Linse sowie einen Abbildungsspiegel umfaßt und daß der Abbildungsspiegel eine Aperturblende der Abbildungsoptik (4) bildet, wobei die Apertublende mit der Normalen der Modulatorfläche der ersten Kippspiegelmatrix (3) ohne etwaige Strahlengangfaltungen einen Winkel von ungleich 90° einschließt.
摘要翻译：提供了一种包括第一倾斜反射镜（3），第二倾斜反射镜的投影系统（5）和成像光学器件（4），该图像中的第一倾斜反射镜（3）向第二倾斜反射镜（5），每个倾斜反射镜（3,5）每一个都具有多个倾斜镜，所述倾斜轴都位于一个调制器表面，其中，所述成像光学器件包括第一透镜和成像镜，并且，所述成像镜，所述成像光学器件（4）的孔径光阑，其中，所述Apertublende与垂直于第一倾斜反射镜的调制器（3）表面没有任何褶皱的光束路径包围不等于90°的角度。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式