会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 1. 发明申请
    • 基板処理方法
    • 基板处理方法
    • WO2011007580A1
    • 2011-01-20
    • PCT/JP2010/004617
    • 2010-07-15
    • 株式会社アルバック中村真也藤井佳詞長嶋英人
    • 中村真也藤井佳詞長嶋英人
    • C23C14/00C23C14/56C23C16/44H01L21/285
    • C23C14/0641C23C14/0036C23C14/56C23C14/568
    •  処理室の状態を回復させる回復処理の時間が処理室で行われる所定処理の時間よりも長い場合でもスループットを向上させることが可能な基板処理方法を提供する。 2つの成膜室C、Dに基板を交互に搬送し、成膜室C、Dにて基板に対して同一の成膜処理を並行して行い、成膜室Cでの処理枚数が規定枚数(11枚)に達すると、成膜室Cでダミースパッタ処理を開始すると共に、ダミースパッタ処理が終了するまでの間、成膜室Dに第1ロットの23枚目~25枚目を搬送して成膜処理を行う。成膜室Cでのダミースパッタ処理が終了すると、成膜室Dでダミースパッタ処理を開始すると共に、ダミースパッタ処理が終了するまでの間、成膜室Cに第2ロットの1枚目~3枚目を搬送して成膜処理を行う。成膜室Dでのダミースパッタ処理が終了すると、交互の搬送を再開する。
    • 公开了一种基板处理方法,即使在恢复处理室的状态所需的恢复处理时间比在处理室中执行预定处理所需的时间长的情况下,也可以提高吞吐量。 基板交替地传送到两个成膜室(C,D),同时对成膜室(C,D)中的基板进行相同的成膜处理。 当成膜室(C)中的处理基板的数量达到预定数量(即,11)时,在成膜室(C)中开始虚拟溅射处理,同时,通过 将第一批次的第23至25个基底转移到成膜室(D),直到完成虚拟溅射处理。 当在成膜室(C)中完成虚拟溅射处理时,在成膜室(D)中开始虚拟溅射处理,同时通过将第一至第三基板 第二批到成膜室(C),直到虚拟溅射处理完成。 当在成膜室(D)中完成虚拟溅射处理时,重新开始替代转印。
    • 5. 发明申请
    • 処理装置の作動監視システム
    • 用于处理设备的动作监控系统
    • WO2010010688A1
    • 2010-01-28
    • PCT/JP2009/003413
    • 2009-07-21
    • 株式会社アルバック藤井佳詞
    • 藤井佳詞
    • H01L21/677
    • H01L21/67288H01L21/67253H01L21/67742
    •  処理対象物に対し所定の処理を施す処理室内で所定の処理環境を形成するために設けられている可動部品と、各可動部品の作動を制御する制御手段(5)とを備えた処理装置において、簡単に処理装置を構成する可動部品の経時変化を含む異常を判断することができるようにする。前記可動部品の作動に伴い発生する振動の波形を検出する振動検知手段(7)を設ける。可動部品のいずれかを作動すべく制御手段(5)からの制御が行われた場合、制御に応じたイベントデータと、そのときに作動している全可動部品の振動の波形とを取得する。イベントデータに応じた制御が選択される毎に、または前記イベントデータと同種の他のイベントデータに応じた振動の波形が取得されている場合に、前記波形の変化を監視し、当該波形が所定の範囲を超えて変化していると、処理装置の異常を判断する。
    • 公开了一种处理装置,其包括可移动部件,其设置为在待处理物体经受预定处理的处理室中建立预定的处理环境;以及控制装置(5),用于控制各个可动 部件,其中可以容易地判断包含构成处理装置的可移动部件的老化的异常。 处理装置还包括用于检测根据可移动部件的动作发生的振动波形的振动检测装置(7)。 如果使来自控制装置(5)的控制操作任何可移动部件,则获取对应于当时所有可动部件的控制和振动波形的事件数据。 每当选择对应于事件数据的控制时,或者根据与上述事件数据相同的其他事件数据获取振动的波形时,监视波形的变化,判断 如果波形在预定范围内变化,则处理装置。