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1. 发明申请

WO2013175600A1 荷電粒子ビーム輸送系及び粒子線治療装置审中-公开
标题翻译：充电颗粒束运输系统和颗粒束处理装置
公开(公告)号：WO2013175600A1
公开(公告)日：2013-11-28
申请号：PCT/JP2012/063268
申请日：2012-05-24
申请人：三菱電機株式会社 , 菅原賢悟 , 小田原周平 , 吉田克久
发明人：菅原　賢悟 , 小田原　周平 , 吉田　克久
IPC分类号： H05H13/04 , A61N5/10
CPC分类号： H05H7/04 , A61N5/1042 , A61N5/1079 , A61N5/1081 , A61N2005/1087 , H05H7/001 , H05H11/00 , H05H13/04 , H05H2007/002 , H05H2007/046 , H05H2007/048 , H05H2277/11
摘要：　加速器から遅い取り出しで出射したときに発生するエミッタンスの違いを荷電粒子ビーム輸送系で吸収し、アイソセンタで回転依存性の少ないビームサイズを実現することを目的とする。　本発明の荷電粒子ビーム輸送系(59)は、その固定輸送部(61)が、回転ガントリのガントリ回転軸（15）の周りを回転する回転偏向部(60)の入口における荷電粒子ビーム(31)の位相空間分布の位相が、第１の位相進み及び第２の位相進みの平均値に基づいた演算を基に決定された位相となるようにしたことを特徴とする。第１の位相進みは、ガントリ角度がガントリ基準角度である場合に、位相空間分布における位相が回転偏向部（60）の入口からアイソセンタ（IC）まで進む変化分であり、第２の位相進みは、ガントリ角度がガントリ基準角度から９０°回転した角度である場合の上記変化分である。
摘要翻译：本发明的目的是吸收从加速器的输出缓慢提取而产生的发射率的差异，并且获得在等角点处具有很小旋转依赖性的光束尺寸。该带电粒子束传输系统（59）的特征在于具有固定传送单元（61），该固定传送单元（61）具有基于基于第一相位提前的平均值和相位相位的第二相位前进的计算而确定的相位在旋转台架的旋转轴线（15）旋转的旋转偏转器（60）的入口处的带电粒子束（31）的空间分布。当台架角度是台架参考角度时，当相位空间分布中的相位从旋转偏转器（60）的入口前进到等角点（IC）时，第一相位前进是差值，第二相位前进是当机架角度是从机架参考角度旋转90°的角度时的差异。

2. 发明申请

WO2013069379A1 粒子線治療システムおよびそのビーム位置補正方法审中-公开
标题翻译：粒子束治疗系统及其束位置校正方法
公开(公告)号：WO2013069379A1
公开(公告)日：2013-05-16
申请号：PCT/JP2012/074222
申请日：2012-09-21
申请人：三菱電機株式会社 , 花川和之 , 菅原賢悟 , 小田原周平 , 原田久 , 池田昌広 , 大谷利宏 , 本田泰三 , 吉田克久
发明人：花川　和之 , 菅原　賢悟 , 小田原　周平 , 原田　久 , 池田　昌広 , 大谷　利宏 , 本田　泰三 , 吉田　克久
IPC分类号： A61N5/10 , G21K5/04 , H05H7/04 , H05H13/04
CPC分类号： A61N5/1042 , A61N5/1043 , A61N5/1067 , A61N2005/1087 , H05H7/04 , H05H2007/048 , H05H2277/11
摘要：　本発明の粒子線治療システムは、荷電粒子ビームを加速する加速器系と、この加速器から出射された高エネルギービームを照射位置まで輸送するビーム輸送系とからなり、前記ビーム輸送系に少なくとも１個のステアリング電磁石とこれに対応する少なくとも１個のビーム位置モニタを備え、前記ビーム位置モニタは前記ステアリング電磁石に周期的に変動するビーム位置を補正する励磁電流を供給するようにしたものである。
摘要翻译：在粒子射线治疗装置
本发明包括一种促进剂体系用于加速的带电粒子束，射束输送系统用于输送具有高能量光束的照射位置从加速器发射的，所述包括对应于在射束输送系统中的至少一个转向磁体的至少一个光位置检测器，光束位置监视器是提供激励电流用于校正光束位置周期性地改变转向磁体它是由所获得的。

3. 发明申请

WO2007099640A1 電磁界分布計算方法、電磁界分布計算装置、および電磁界分布計算プログラム审中-公开
标题翻译：电磁场分布计算方法，电磁场分布计算装置和电磁场分布计算程序
公开(公告)号：WO2007099640A1
公开(公告)日：2007-09-07
申请号：PCT/JP2006/304134
申请日：2006-03-03
申请人：三菱電機株式会社 , 菅原賢悟 , 依田潔
发明人：菅原賢悟 , 依田潔
IPC分类号： G01R29/08
CPC分类号： G06F17/5018 , G06F17/5095 , G06F2217/16
摘要：　少ない計算機資質で大規模の電磁界分布が計算可能となる電磁界分布計算方法を提供することを目的とする。さらに、電磁界分布計算装置および電磁界分布計算プログラムを提供することを目的とする。　この発明の電磁界分布計算方法は、複数の要素に分割された金属構造体表面を複数の要素ブロックに分割すると共に、各要素間の共有辺に垂直な未知数電流を設定し、設定された複数の未知数電流を、各要素ブロックにのみ属する電流ブロックｎと、各要素ブロック間に流れる未知数電流を一つに纏めた電流ブロックｍとにブロック分割してブロック行列方程式を作成する。さらに上記ブロック行列方程式を解く際に、電流ブロックｎにのみ係わる項の計算にはブロック反復法を用い、電流ブロックｍに係わる項の計算には直接法を用い、得られた各電流ブロックの未知数電流値を基に、金属構造体周辺の電磁場分布を計算する。
摘要翻译：可以提供能够通过使用少量的计算资源进行大规模的电磁分布计算的电磁场分布计算方法。此外，可以提供电磁场分布计算装置和电磁场分布计算程序。电磁场计算方法将划分为多个元素的金属结构表面划分成多个元件块，将未知值的电流垂直于元件之间的公共侧设置，并且将未知值电流块划分为当前块n 仅属于各个元件块，并且将在各个元件块之间流动的未知值电流收集到一个中的当前块m，从而产生块矩阵方程。此外，当求解块矩阵方程时，使用块补偿方法来计算仅关于当前块n的项，并且直接方法用于计算与当前块m有关的项。根据获得的每个当前块的未知值电流，计算金属结构周围的电磁场分布。

4. 发明申请

WO2007043160A1 電磁界分布計算方法、電磁界分布計算装置、および磁界分布計算プログラム审中-公开
标题翻译：电磁场分配计算方法，电磁场分配计算装置和磁场分配计算程序
公开(公告)号：WO2007043160A1
公开(公告)日：2007-04-19
申请号：PCT/JP2005/018627
申请日：2005-10-07
申请人：三菱電機株式会社 , 菅原賢悟 , 依田潔
发明人：菅原賢悟 , 依田潔
IPC分类号： H01Q1/32
CPC分类号： G01R29/0892
摘要：　金属構造体が金属シート構造を含む場合にも高精度に電磁界解析が可能な電磁界分布計算方法、電磁界分布計算装置、及び電磁界分布計算プログラムを提供する。　この発明の電磁界分布計算方法では、金属構造体表面を金属要素に分割し、各金属要素上に流れるループ電流値を変数として設定するステップ、交番磁界発生源から送信された金属要素上での磁束密度を外部磁束密度として計算するステップ、外部磁束密度とループ電流値とを用いて、各金属要素における磁場の法線方向成分が０となる方程式を各金属要素に対して導出し、金属構造体が孔を含む場合、孔の外周を流れる電流値を変数として設定し孔に対しファラデーの法則を用いた方程式を導出し、これら方程式を連成させて連立方程式を構築するステップ、連立方程式を解いて前記各電流値を求めるステップ、及び得られた電流値を用いて金属構造体周辺の電磁界分布を計算するステップを施す。
摘要翻译：公开了即使金属结构体包括金属片结构，电磁场分布计算装置和电磁场分布计算程序，也能够分析高精度电磁场的电磁场分布计算方法。电磁场分布计算方法包括将金属结构体的表面划分为金属元素并将在每个金属元件中流动的回路电流的值设定为可变的步骤，计算每个金属元素上的磁通密度的步骤从作为外部磁通密度的交变磁场发生源发送的步骤，通过使用外部磁通密度和环路导出每个金属元素的每个金属元素的磁场的正常分量为零的方程的步骤电流值，如果金属结构体具有孔作为变量，设定围绕孔流动的电流的值，通过将法拉第定律应用于孔导出方程，通过耦合这些方程创建联立方程，通过以下方式确定电流值的步骤：求解联立方程，并计算金属周围的电磁场分布通过使用确定的电流值来进行体外培养。

5. 发明申请

WO2013121503A1 セプタム電磁石および粒子線治療装置审中-公开
标题翻译： SEPTUM电子束和粒子束治疗装置
公开(公告)号：WO2013121503A1
公开(公告)日：2013-08-22
申请号：PCT/JP2012/053240
申请日：2012-02-13
申请人：三菱電機株式会社 , 菅原賢悟 , 吉田克久 , 大谷利宏 , 益野真一 , 加島文彦
发明人：菅原　賢悟 , 吉田　克久 , 大谷　利宏 , 益野　真一 , 加島　文彦
IPC分类号： H05H7/04
CPC分类号： H05H7/04 , A61N5/1077 , A61N2005/1087 , H05H7/08 , H05H7/10 , H05H2007/046 , H05H2007/087
摘要：弧状をなし、外周側に開口して周方向に延伸する空隙部(1s)を有し、軸方向における略中央部で分割可能に構成されたヨーク(1)と、空隙部(1s)内の径方向における外側に設置され、周方向における一方向に電流が流れるセプタムコイル(3)と、セプタムコイル(3)と所定の間隔をあけて対向するように空隙部(1s)内の径方向における内側に設置され、セプタムコイル(3)と逆向きの電流が流れるリターンコイル(4)と、セプタムコイル(3)とリターンコイル(4)との間に設置される真空ダクト(2)と、を備え、セプタムコイル(3)は、ヨーク(1)の分割に対応して第１の部分(3u)と第２の部分(3d)に分離可能に形成されているとともに、セプタムコイル(3)と真空ダクト(2)との間には、セプタムコイル(3)の第１の部分(3u)と第２の部分(3d)に対応する部分(5u,5d)で互いに周方向における逆向きの電流が流れる補助コイル(5)が設けられているように構成した。
摘要翻译：隔膜电磁铁具有：圆弧状的轭（1），具有向外周侧开口并沿圆周方向延伸的间隙部（1s），并且构造成在其大致中心处可分开轴向; 隔膜线圈（3），其在所述间隙部（1s）内沿径向的外侧安装，并且电流沿圆周方向在一个方向上流动; 在所述间隙部分（1s）内沿径向内侧安装的回流线圈（4），以与所述隔膜线圈（3）隔开预定的间隔相对，并且通过所述返回线圈到隔膜盘管（3）流动; 以及安装在隔膜线圈（3）和返回线圈（4）之间的真空管道（2），所述隔膜电磁体构造成使得所述隔膜线圈（3）形成为可分离成第一部分（3u）以及响应于所述磁轭（1）的分割的第二部分（3d）和辅助线圈（5），其中在周向上彼此相反的方向上的电流在对应于隔膜线圈（3）的第一部分（3u）和第二部分（3d）设置在隔膜线圈（3）和真空管道（2）之间。

6. 发明申请

WO2012120616A1 粒子線治療装置审中-公开
标题翻译：颗粒束治疗装置
公开(公告)号：WO2012120616A1
公开(公告)日：2012-09-13
申请号：PCT/JP2011/055236
申请日：2011-03-07
申请人：三菱電機株式会社 , 菅原賢悟 , 池田昌広 , 花川和之 , 本田泰三 , 原田久
发明人：菅原　賢悟 , 池田　昌広 , 花川　和之 , 本田　泰三 , 原田　久
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1077 , A61N5/1043 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087
摘要：　この発明は粒子線治療装置に使用される走査電磁石の残留磁化を短時間で適切に消磁可能にすることを目的とするものであり、加速器により加速され、走査電磁石１１及び１２で走査される粒子線１８を照射対象に照射する粒子線治療装置において、走査電磁石１１、１２を励磁する電源１３及び１４は、走査電磁石１１及び１２を消磁するためのパターン電流を出力するものである。パターン電流は、消磁パターン１７を読み込んで電源１３及び１４を制御する制御回路１５により制御される。
摘要翻译：本发明的目的是使得可以在短时间内适当地消除在粒子束治疗装置中使用的扫描电磁体的剩余磁化。本发明提供一种粒子束治疗装置，其中照射对象被被加速器加速并通过扫描电磁体（11,12）扫描的粒子束（18）照射，其中用于将电源（13,14）用于激励扫描电磁体（11,12）输出用于使扫描电磁体（11,12）退磁的图案电流。图案电流由读取去磁图案（17）并相应地控制电源（13,14）的控制电路（15）控制。

7. 发明申请

WO2012111125A1 粒子線治療装置审中-公开
标题翻译：颗粒束治疗系统
公开(公告)号：WO2012111125A1
公开(公告)日：2012-08-23
申请号：PCT/JP2011/053367
申请日：2011-02-17
申请人：三菱電機株式会社 , 岩田高明 , 菅原賢悟 , 原田久
发明人：岩田　高明 , 菅原　賢悟 , 原田　久
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61B5/48 , A61N5/1043 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087
摘要：　治療中に非常停止処理がされた場合でも、走査電磁石のヒステリシスの影響を排除し、中断した照射位置から高精度なビーム照射を再開することを目的とする。　走査電磁石（３）の励磁パターンが本照射の計画と同一である事前照射において位置モニタ（７）により測定された測定位置座標（Ｐｓ）及び荷電粒子ビーム（１）の目標照射位置座標（Ｐｉ）に基づいて走査電磁石（３）を制御する照射管理装置（３２）と、不測の事態が発生した際にビーム（１）の照射を停止するインターロック信号を生成するインターロック情報入力器（７８）と、を備える。照射管理装置（３２）は、ビーム（１）の照射を再開する場合に、ビーム（１）を照射しない状態で、停止ステップよりも前で、本照射の起点とは異なる開始ステップから、停止ステップまで空運転を実行し、停止ステップに対応した目標照射位置座標（Ｐｉ）からビーム（１）を照射する。
摘要翻译：本发明的目的是在紧急停止处理在治疗期间操作的情况下，能够从照射一次中断的照射位置重新开始高精度的束照射，同时减少扫描电磁铁。一种粒子束治疗系统，包括：照射管理单元，基于测量位置坐标（Ps）控制扫描电磁体（3），所述测量位置坐标（Ps）已经通过位置监视器（7）在其初步照射中测量作为主照射平面的扫描电磁体（3）的激励图案和带电粒子束（1）的目标照射位置坐标（Pi）; 以及联动数据输入单元（78），用于在不可预见的情况下产生用于停止光束（1）的照射的互锁信号。在重新开始光束（1）的照射之前，照射管理单元（32）在无负载条件下被驱动，即，不从开始步骤照射光束（1），所述开始步骤在停止步骤，与主照射的起始位置不同，到停止步骤。随后，从对应于停止步骤的目标照射位置坐标（Pi）照射光束（1）。

8. 发明申请

WO2009037782A1 電気車用電力変換装置审中-公开
标题翻译：电动车用电源转换装置
公开(公告)号：WO2009037782A1
公开(公告)日：2009-03-26
申请号：PCT/JP2007/068411
申请日：2007-09-21
申请人：三菱電機株式会社 , 伊藤大介 , 東聖 , 菅原賢悟 , 薮内正隆
发明人：伊藤大介 , 東聖 , 菅原賢悟 , 薮内正隆
IPC分类号： H02M7/48 , B60L9/24
CPC分类号： H02M5/45 , B60L9/24 , B60L2200/26 , B60L2270/147 , H01F2017/065 , H02M1/126 , H02M1/44 , H02M2001/0064
摘要：　電気車用電力変換装置において、コンバータ部およびインバータ部の内部に流れる共振電流を効果的に低減すること。交流電力を直流電力に変換するコンバータ部（２０）と、直流電力を所望の交流電力に変換して電気車を駆動する電動機（９０）に供給するインバータ部（６０）と、コンバータ部（２０）およびインバータ部（６０）を収容し、その一部が接地される箱体（８０）と、箱体（８０）の内部に配置され、コンバータ部（２０）とインバータ部（６０）との間に流れる共振電流を抑制するための磁性体コア（７０）と、を備える。
摘要翻译：在电动车辆的电力转换装置中，有效地减少在转换器单元和逆变器单元中流动的谐振电流。用于电动车辆的电力转换装置包括用于将交流电力转换为直流电力的转换器单元（20），用于将直流电力转换为预定交流电力并将电力供应给电动机的逆变器单元（60） 90），其中所述转换器单元（20）和所述逆变器单元（60）被容纳在其中并且其一部分接地的箱体（80）和布置在所述壳体中的磁芯（70）盒体（80），并且抑制在转换器单元（20）和逆变器单元（60）之间流动的谐振电流。

9. 发明申请

WO2014128932A1 粒子線治療装置审中-公开
标题翻译：颗粒治疗装置
公开(公告)号：WO2014128932A1
公开(公告)日：2014-08-28
申请号：PCT/JP2013/054568
申请日：2013-02-22
申请人：三菱電機株式会社 , 小田原周平 , 原田久 , 池田昌広 , 菅原賢悟
发明人：小田原　周平 , 原田　久 , 池田　昌広 , 菅原　賢悟
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1081 , A61N2005/1087 , H05H7/04 , H05H2007/008 , H05H2007/046 , H05H2007/048
摘要：回転軸(X R )周りに照射装置(4)を回転させて、被照射体に粒子線(B)を照射するように構成された回転ガントリー(10)を有する粒子線治療装置であって、回転ガントリー(10)には、回転軸(X R )に沿って供給された粒子線(B)を径方向に偏向して照射装置(4)に導く偏向経路(1c)と、偏向経路(1c)と切替自在で、供給された粒子線(B)を直進させる直進経路(1s)とを有する入口側偏向電磁石(1)が設けられており、入口側偏向電磁石(1)を挟んで回転軸(X R )方向の両側に配置した２つの位置センサ(5)を有する軌道修正装置(5,6)を備える。
摘要翻译：一种颗粒治疗装置，包括：旋转台架（10），被配置为围绕旋转轴线（XR）旋转照射装置（4）并用粒子束（B）照射对象。旋转台架（10）设置有具有偏转路径（1c）的入射侧偏转电磁体（1），沿着旋转轴线（XR）供给的粒子束（B）沿径向方向偏转，被引导到照射装置（4）和可以从偏转路径（1c）自由切换的直线路径（1s），反之亦然，并且允许所供应的粒子束（B）以直线方式行进。此外，粒子治疗装置具有在旋转轴（XR）的方向上具有位于入射侧偏转电磁体（1）的两侧的两个位置传感器（5）的轨迹校正装置（5,6）。

10. 发明申请

WO2014132391A1 高周波加速器の製造方法、高周波加速器、および円形加速器システム审中-公开
标题翻译：制造高频加速器，高频加速器和圆形加速器系统的方法
公开(公告)号：WO2014132391A1
公开(公告)日：2014-09-04
申请号：PCT/JP2013/055407
申请日：2013-02-28
申请人：三菱電機株式会社 , 菅原賢悟 , 花川和之 , 岸井保人 , 山本和男
发明人：菅原　賢悟 , 花川　和之 , 岸井　保人 , 山本　和男
IPC分类号： H05H9/00 , A61N5/10
CPC分类号： H05H7/08 , A61N5/10 , H01J9/42 , H01J9/44 , H05H7/02 , H05H7/22 , H05H9/041 , H05H9/045 , H05H9/047 , H05H13/04 , H05H2007/025 , H05H2007/082 , H05H2007/227
摘要：１段目の線形加速器（２）から出射される荷電粒子を入射して２段目の線形加速器（３）で加速する高周波加速器の製造方法において、２段目の線形加速器（３）における、各位相の入射荷電粒子に対する位相アクセプタンスに基づいて決定される前記全高周波電力の許容範囲のうちの最大許容範囲よりも広い全高周波電力の範囲において、２段目の線形加速器（３）から荷電粒子ビームが出射されるように、電力分配装置（７）の２段目の線形加速器（３）に供給する高周波電力の電力分配率Ｒの値と、１段目の線形加速器（２）の出口から２段目の線形加速器（３）の入口までのマッチングセクション（８）の長さＬと高周波電力の角周波数ωとの比Ｌ／ωの値と、を設定する工程を含むようにした。
摘要翻译：一种用于制造由第一级线性加速器（2）排出的带电粒子被第二级线性加速器（3）输入和加速的高频加速器的方法包括用于将电力分配比率（R）设置为高的步骤通过电力分配装置（7）提供给第二级线性加速器（3）的频率功率和来自第一级的出口的匹配部分（8）的长度（L）的比率（L /ω）的值线性加速器（2）到第二级线性加速器（3）的入口和用于高频功率的角频率（ω），使得在第二级线性加速器（3）中，来自第二级线性加速器加速器（3）以比基于输入的带电粒子的各相的相位接受确定的总高频功率的允许范围宽的总高频功率输出。

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