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    • 2. 发明申请
    • セプタム電磁石および粒子線治療装置
    • SEPTUM电子束和粒子束治疗装置
    • WO2013121503A1
    • 2013-08-22
    • PCT/JP2012/053240
    • 2012-02-13
    • 三菱電機株式会社菅原 賢悟吉田 克久大谷 利宏益野 真一加島 文彦
    • 菅原 賢悟吉田 克久大谷 利宏益野 真一加島 文彦
    • H05H7/04
    • H05H7/04A61N5/1077A61N2005/1087H05H7/08H05H7/10H05H2007/046H05H2007/087
    • 弧状をなし、外周側に開口して周方向に延伸する空隙部(1s)を有し、軸方向における略中央部で分割可能に構成されたヨーク(1)と、空隙部(1s)内の径方向における外側に設置され、周方向における一方向に電流が流れるセプタムコイル(3)と、セプタムコイル(3)と所定の間隔をあけて対向するように空隙部(1s)内の径方向における内側に設置され、セプタムコイル(3)と逆向きの電流が流れるリターンコイル(4)と、セプタムコイル(3)とリターンコイル(4)との間に設置される真空ダクト(2)と、を備え、セプタムコイル(3)は、ヨーク(1)の分割に対応して第1の部分(3u)と第2の部分(3d)に分離可能に形成されているとともに、セプタムコイル(3)と真空ダクト(2)との間には、セプタムコイル(3)の第1の部分(3u)と第2の部分(3d)に対応する部分(5u,5d)で互いに周方向における逆向きの電流が流れる補助コイル(5)が設けられているように構成した。
    • 隔膜电磁铁具有:圆弧状的轭(1),具有向外周侧开口并沿圆周方向延伸的间隙部(1s),并且构造成在其大致中心处可分开 轴向; 隔膜线圈(3),其在所述间隙部(1s)内沿径向的外侧安装,并且电流沿圆周方向在一个方向上流动; 在所述间隙部分(1s)内沿径向内侧安装的回流线圈(4),以与所述隔膜线圈(3)隔开预定的间隔相对,并且通过所述返回线圈 到隔膜盘管(3)流动; 以及安装在隔膜线圈(3)和返回线圈(4)之间的真空管道(2),所述隔膜电磁体构造成使得所述隔膜线圈(3)形成为可分离成第一部分(3u) 以及响应于所述磁轭(1)的分割的第二部分(3d)和辅助线圈(5),其中在周向上彼此相反的方向上的电流在对应于 隔膜线圈(3)的第一部分(3u)和第二部分(3d)设置在隔膜线圈(3)和真空管道(2)之间。
    • 4. 发明申请
    • 挿入光源
    • 插入光源
    • WO2017022669A1
    • 2017-02-09
    • PCT/JP2016/072352
    • 2016-07-29
    • 日立金属株式会社
    • 北村 英男荒川 雅美
    • H05H13/04H01F7/02H05H7/04
    • H05H7/04H01F7/0221H01F7/0278H05H7/08H05H13/04H05H2007/046H05H2007/087
    • キャンセルバネ機構で生じた反発力が精密なギャップ駆動に影響を与えないようにする。 ギャップを介して互いに向かい合う第1磁石列M1と第2磁石列M2と、磁石列が取り付け支持される磁石支持体1,2と、ギャップの大きさを変更するため、第1・第2磁石支持体1,2を垂直方向に駆動するためのギャップ駆動機構50と、ギャップ駆動機構50と磁石支持体1,2を連結するための駆動連動機構と、第1磁石列M1と第2磁石列間M2に作用する吸引力をキャンセルするキャンセルバネ機構40と、キャンセルバネ機構40と磁石支持体1,2とを連結するバネ連動機構と、ギャップ駆動機構50を支持する第1支持フレーム30と、キャンセルバネ機構40を支持する第2支持フレーム20と、載置面に載置される共通ベース10と、を備え、第1支持フレーム30と第2支持フレーム20は、それぞれ個別に共通ベース10に結合される挿入光源。
    • 本发明防止由补偿弹簧组件产生的排斥力影响精确的间隙驱动。 该插入光源设置有:跨越间隙彼此相对的第一磁体柱M1和第二磁体柱M2; 磁体支撑构件1和2,磁体柱附接到磁体支撑构件1和2,并且支撑磁体柱; 用于沿垂直方向驱动第一和第二磁体支撑构件1,2的间隙驱动机构50,以便改变间隙的尺寸; 用于连接间隙驱动机构50和磁体支撑构件1和2的驱动连杆机构; 补偿弹簧组件40,其补偿作用在第一磁体柱M1和第二磁体柱M2之间的吸引力; 将补偿弹簧组件40连接到磁体支撑构件1和2的弹簧连杆机构; 支撑间隙驱动机构50的第一支撑框架30; 支撑补偿弹簧组件40的第二支撑框架20; 以及安装在安装表面上的公共基座10。 第一支撑框架30和第二支撑框架20彼此分开地连接到公共基座10。