专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2012102644A1 СПОСОБ СОЗДАНИЯ МАСКИ НА ПОВЕРХНОСТИ ПОДЛОЖКИ 审中-公开
标题翻译：在基材表面上生产掩模的方法
公开(公告)号：WO2012102644A1
公开(公告)日：2012-08-02
申请号：PCT/RU2012/000024
申请日：2012-01-23
申请人： РУДОЙ, Игорь Георгиевич , КИТАЙ, Мойше Самуилович , СОРОКА, Аркадий Матвеевич
发明人： РУДОЙ, Игорь Георгиевич , КИТАЙ, Мойше Самуилович , СОРОКА, Аркадий Матвеевич
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01L21/0273 , G03F7/38
摘要： Изобретение относится к литографии, точнее к способам создания резистивной маски на поверхности подложки, в частности, полупроводниковой подложки. Техническим результатом изобретения является увеличение разрешения литографии с высокой производительностью, использующей технологию химического усиления. Технический результат достигается тем, что в способе создания маски на поверхности резиста, включающем нанесение на поверхность подложки слоя полимерного резиста, содержащего генератор кислоты, экспонирование резиста, термическую обработку экспонированного резиста и последующее проявление созданной в резисте структуры, в термическую обработку экспонированного резиста включают его нагрев по меньшей мере одним лазерным импульсом, длину волны излучения которого выбирают из условия, что коэффициент поглощения лазерного излучения резистом превосходит коэффициент поглощения лазерного излучения подложкой.
摘要翻译：本发明涉及光刻技术，更确切地说，涉及在衬底，特别是半导体衬底的表面上制造抗蚀剂掩模的方法。本发明的技术结果是使用化学放大技术提高了光刻的分辨率，同时提供高的生产率。技术结果的实现是在抗蚀剂表面的掩模制造方法中，将含有酸发生剂的聚合物抗蚀剂层施加到基板的表面，曝光抗蚀剂进行热处理，然后显影在抗蚀剂中产生的结构，曝光的抗蚀剂的热处理包括用至少一个激光脉冲加热抗蚀剂，其辐射波长根据吸收系数的条件来选择通过抗蚀剂的激光辐射的大小大于衬底对激光辐射的吸收系数。

2. 发明申请

WO2016148608A1 ИСТОЧНИК ШИРОКОПОЛОСНОГО ОПТИЧЕСКОГО ИЗЛУЧЕНИЯ С ВЫСОКОЙ ЯРКОСТЬЮ 审中-公开
标题翻译：宽光源的光源光源
公开(公告)号：WO2016148608A1
公开(公告)日：2016-09-22
申请号：PCT/RU2016/000135
申请日：2016-03-11
申请人： РУДОЙ, Игорь Георгиевич , СОЛОВЬЕВ, Николай Германович , СОРОКА, Аркадий Матвеевич , ЯКИМОВ, Михаил Юрьевич
发明人： РУДОЙ, Игорь Георгиевич , СОЛОВЬЕВ, Николай Германович , СОРОКА, Аркадий Матвеевич , ЯКИМОВ, Михаил Юрьевич
IPC分类号： H01J65/04 , H05H1/46 , H01J27/24
CPC分类号： H01J27/24 , H01J65/04 , H05H1/46
摘要： Изобретение относится к источникам широкополосного оптического излучения с высокой спектральной яркостью и представляет интерес для приложений в микроэлектронике, спектроскопии, фотохимии и других областях. Техническим результатом заявляемого технического решения является повышение спектральной яркости, уменьшение колебаний положения плазмы и стабилизация яркости ее излучения, а также увеличение ресурса источника. Технический результат достигается тем, что источник широкополосного излучения с высокой яркостью включает заполненную газовой средой высокого давления камеру, два облучающих камеру лазера с двумя системами фокусировки излучения с по существу совпадающей фокальной областью и углом между направлением излучения лазеров не менее 60°, причем по меньшей мере один лазер представляет собой импульсно-периодический лазер.
摘要翻译：本发明涉及具有高光谱亮度的宽带光辐射源，并且在微电子学，光谱学和光化学等领域中是有意义的。所要求保护的技术方案的技术结果是光谱亮度的增加，等离子体位置的波动的减小和等离子体辐射的亮度的稳定以及源的工作寿命的增加。该技术结果的实现是，目前具有高亮度的宽带辐射源包括填充有高压气体介质的室和照射室的两个激光器，并且具有两个基本上重叠的聚焦区域的辐射聚焦系统，在激光器的辐射方向之间至少60°的角度，其中至少一个激光器是重复脉冲的激光器。

3. 发明申请

WO2013112074A1 СПОСОБ ГЕНЕРАЦИИ ИЗЛУЧЕНИЯ НА РЕЗОНАНСНЫХ ПЕРЕХОДАХ АТОМОВ МЕТАЛЛОВ 审中-公开
标题翻译：在金属原子共振过程中产生辐射的方法
公开(公告)号：WO2013112074A1
公开(公告)日：2013-08-01
申请号：PCT/RU2013/000046
申请日：2013-01-22
申请人： РУДОЙ, Игорь Георгиевич , ДОЛГИХ, Виктор Александрович , МЕНАХИН, Леонард Павлович , НУСРАТТУЛИН, Ахат Зинурович , СОРОКА, Аркадий Матвеевич
发明人： РУДОЙ, Игорь Георгиевич , ДОЛГИХ, Виктор Александрович , МЕНАХИН, Леонард Павлович , НУСРАТТУЛИН, Ахат Зинурович , СОРОКА, Аркадий Матвеевич
IPC分类号： H01J61/72 , H05B41/24
CPC分类号： H05B41/30 , H01J61/20 , H01J61/70 , H01J61/72 , H05B41/24 , H05B41/28
摘要： Изобретение относится к способам генерации излучения на резонансных переходах атомов металлов в возбуждаемых дуговым электрическим разрядом смесях инертных газов с парами металлов. Техническим результатом заявляемого изобретения является повышение эффективности и ресурса источников излучения на резонансных переходах атомов металлов, возбуждаемых в дуговом разряде низкого давления. Технический результат достигается тем, что в способе генерации излучения на резонансных переходах атомов металлов в дуговом разряде низкого давления, включающем возбуждение знакопеременным продольным электрическим разрядом высокой частоты смесей инертных газов с парами металлов, возбуждение разряда проводится по существу прямоугольными импульсами тока со скважностью не более 2,0 и длительностью не более эффективного времени жизни резонансного состояния излучающего атома металла.
摘要翻译：本发明涉及在惰性气体与通过电弧放电激发的金属蒸汽的混合物中的金属原子的共振转变时产生辐射的方法。要求保护的发明的技术结果在于提高在低压电弧放电中被激发的金属原子的共振转变处的辐射源的效率和使用寿命。技术结果的实现在于，在用于在低压电弧放电中的金属原子的共振转变处产生辐射的方法中，包括使用具有高频率的交替极性纵向放电的惰性气体与金属蒸汽的混合物的激发，放电的激发本质上是使用占空比不大于2.0的方波电流脉冲，并且持续时间不大于金属辐射原子的共振状态的有效寿命。

4. 发明申请

WO2013009219A1 СПОСОБ СОЗДАНИЯ МАСКИ НА ПОВЕРХНОСТИ ПОДЛОЖКИ 审中-公开
标题翻译：在基材表面上生产掩模的方法
公开(公告)号：WO2013009219A1
公开(公告)日：2013-01-17
申请号：PCT/RU2012/000562
申请日：2012-07-11
申请人： РУДОЙ, Игорь Георгиевич , СОРОКА, Аркадий Матвеевич
发明人： РУДОЙ, Игорь Георгиевич , СОРОКА, Аркадий Матвеевич , КИТАЙ, Мойше Самуилович
IPC分类号： H01L21/027 , G03F1/20
CPC分类号： G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/38
摘要： Изобретение относится к литографии, точнее к способам создания резистивной маски на поверхности подложки, в частности, полупроводниковой подложки. Техническим результатом изобретения является повышение производительности литографии сверхвысокого разрешения, прежде всего ЭУФ-литографии. Технический результат достигается тем, что в способе создания маски на поверхности резиста, включающем нанесение на поверхность подложки слоя полимерного резиста, образованного из мономерных звеньев на базе органических молекул, экспонирование резиста, термическую обработку экспонированного резиста и последующее проявление созданной в резисте структуры, в состав не менее 50% мономерных звеньев включают по меньшей мере один атом фтора, а термическая обработка экспонированного резиста включает его нагрев по меньшей мере одним лазерным импульсом, длину волны излучения которого выбирают из условия, что коэффициент поглощения лазерного излучения резистом превосходит коэффициент поглощения лазерного излучения подложкой.
摘要翻译：本发明涉及光刻技术，更准确地说，涉及在衬底表面，特别是半导体衬底的表面上制造电阻掩模的方法。本发明的技术结果在于通过超高分辨率，主要是EUV光刻技术提高光刻的生产率。技术结果的实现是，在抗蚀剂表面上制造掩模的方法中，该方法包括将基于有机分子的单体单元形成的聚合物抗蚀剂层施加到基底表面上，使抗蚀剂对曝光的抗蚀剂进行热处理，然后显影形成在抗蚀剂中的结构，组合物中至少含有一个氟原子至少包含50％的单体单元，并且曝光的抗蚀剂的热处理包括使用至少从激光辐射的抗蚀剂的吸收系数相对于激光辐射超过基板的吸收系数的条件选择的一个激光脉冲。

5. 发明申请

WO2012057653A1 СПОСОБ ЛАЗЕРНОЙ ЛОКАЦИИ 审中-公开
标题翻译：激光定位方法
公开(公告)号：WO2012057653A1
公开(公告)日：2012-05-03
申请号：PCT/RU2011/000721
申请日：2011-09-22
申请人： ОТКРЫТОЕ АКЦИОНЕРНОЕ ОБЩЕСТВО "РАКЕТНО-КОСМИЧЕСКАЯ КОРПОРАЦИЯ "ЭНЕРГИЯ" ИМЕНИ С. П. КОРОЛЕВА , ЛОПОТА, Виталий Александрович , ЛЕГОСТАЕВ, Виктор Павлович , РУДОЙ, Игорь Георгиевич , СОРОКА, Аркадий Матвеевич , ЗЕЛЕНЩИКОВ, Антон Николаевич
发明人： ЛОПОТА, Виталий Александрович , ЛЕГОСТАЕВ, Виктор Павлович , РУДОЙ, Игорь Георгиевич , СОРОКА, Аркадий Матвеевич , ЗЕЛЕНЩИКОВ, Антон Николаевич
IPC分类号： G01S17/42 , H01S3/10
CPC分类号： G01S17/42
摘要： Способ лазерной локации заключается в том, что при определении положения объекта, включающем сканирование пространства последовательностью лазерных сигналов, генерируемых лазерным локатором, регистрацию рассеянных и/или отраженных объектом лазерных сигналов, определение расстояния до объекта по времени задержки между излученными и принятыми сигналами, а углового положения объекта по направлению соответствующего излученного сигнала, в качестве генерируемого лазерным локатором сигнала используют цуг из по меньшей мере двух импульсов с изменяемыми промежутком времени между импульсами и/или соотношением амплитуд импульсов в каждом цуге.
摘要翻译：激光定位方法的特征在于，当确定物体的位置时，其包括用激光定位器产生的激光信号序列扫描空间，记录被物体散射和/或反射的激光信号，确定距离基于对应的发射信号的方向，在发射信号和接收到的信号之间的延迟时间和物体的角位置之间，对脉冲之间具有可变时间间隔的至少两个脉冲串和/或可变的将各列中的脉冲幅度比作为由激光定位器产生的信号。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式