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71. 发明申请

WO2004095140A3 COLLECTORS IN TWO HEMISPHERES 审中-公开
标题翻译：两种收集器
公开(公告)号：WO2004095140A3
公开(公告)日：2005-05-19
申请号：PCT/US0340315
申请日：2003-12-15
申请人： INTEL CORP
发明人： GOLDSTEIN MICHAEL , SILVERMAN PETER
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70175
摘要： A system and method for collecting radiation, which may be used in a lithography illumination system. The system comprises a first surface (309) shaped to reflect radiation (310) in a first hemisphere (330) of a source (306) to illuminate in a second hemisphere (320) of the source; and a second surface (302) shaped to reflect radiation in the second hemisphere (320) of the source to an output plane (308).
摘要翻译：用于收集辐射的系统和方法，其可以用在光刻照明系统中。该系统包括成形为反射源（306）的第一半球（330）中的辐射（310）以在源的第二半球（320）中照亮的第一表面（309）以及第二表面（302），其被成形为将源的第二半球（320）中的辐射反射到输出平面（308）。

72. 发明申请

WO2005006414A1 集光光学系、光源ユニット、照明光学装置および露光装置审中-公开
标题翻译：聚焦光学系统，光源单元，照明光学设备和曝光设备
公开(公告)号：WO2005006414A1
公开(公告)日：2005-01-20
申请号：PCT/JP2004/010053
申请日：2004-07-14
申请人：株式会社ニコン , 村上勝彦
发明人：村上勝彦
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70175 , G03F7/70033
摘要：　ＥＵＶ光の光源ユニットであって、ＥＵＶ光を放出するプラズマ光源と、回転楕円面の反射面を有し、その第１の焦点に該プラズマ光源が置かれた集光ミラーと、球面の反射面を有し、球心が該プラズマ光源の位置とずらされているように配置された補助集光ミラーとを備えるEV光の光源ユニットを提供する。
摘要翻译：公开了一种EUV光源的光源单元，其包括发射EUV灯的等离子体光源，具有球形反射面的集光镜和具有球面反射面的辅助收集镜。集电镜被布置成使得等离子体光源位于集光镜的第一焦点上，而辅助聚光镜被布置成等离子体光源不在辅助收集镜的球面中心。

73. 发明申请

WO2004100236A1 照明光学系、投影露光装置、マイクロデバイスの製造方法、照明装置の製造方法、投影露光装置の調整方法、及び投影露光装置の製造方法审中-公开
标题翻译：照明光学系统，投影/曝光装置，微型装置制造方法，照明装置制造方法，投影/曝光装置调整方法和投影/曝光装置制造方法
公开(公告)号：WO2004100236A1
公开(公告)日：2004-11-18
申请号：PCT/JP2004/006416
申请日：2004-05-06
申请人：株式会社ニコン , 鈴木健司
发明人：鈴木健司
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： B82Y10/00 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70166 , G03F7/70175 , G03F7/702 , G21K1/06
摘要：本発明は、光学系の組み立て後に生じる僅かな照明ムラまでも低減することを目的とする。そのために、本発明の照明光学系は、極端紫外光を出射する光源（１１）、コリメータ（１２）、フライアイミラー（１３）、及びコンデンサ（１４）を順に配置し、そのコンデンサ（１４）の射出側における所定の照明領域をケーラー照明する照明光学系において、前記フライアイミラー（１３）を構成する複数の単位ミラーのうち少なくとも一つを、前記照明領域の照明ムラの一部又は全部を補正するための反射率ムラを有した補正ミラーとする。
摘要翻译：可以减少在组装光学系统之后产生的最轻微的照明不均匀性。为此，照明光学系统包括发射极紫外光的光源（11），准直器（12），飞眼镜（13）和电容器（14）。在电容器（14）的发射侧的预定照明区域经受Köhler照明。构成飞视镜（13）的单元反射镜中的至少一个是具有用于校正上述照明区域中的一部分或全部照明不规则性的反射率不均匀性的校正镜。

74. 发明申请

WO2004030423A1 Ｘ線発生装置及び露光装置审中-公开
标题翻译： X射线发生装置和曝光装置
公开(公告)号：WO2004030423A1
公开(公告)日：2004-04-08
申请号：PCT/JP2003/009398
申请日：2003-07-24
申请人：株式会社ニコン , 白石雅之
发明人：白石雅之
IPC分类号： H05G2/00
CPC分类号： H05G2/003 , G03F7/70175 , G03F7/70975 , H05G2/006 , H05G2/008
摘要：リキッドジェット型Ｘ線発生装置１の光源チャンバー１０内には、ノズル１１やミラー１５が配置されている。光源チャンバー１０の外壁部には、フランジ部材２０が設けられている。このフランジ部材２０には、ノズル１１の配管１３基端側が取り付けられており、同部材２０を取り外すことにより、ノズル１１を光源チャンバー１０外に取り出すことができる。リキッドジェット型Ｘ線発生装置１において、最も交換頻度の高い素子はノズル１１であるが、ノズル１１を交換する際にはフランジ部材２０を取り外すだけでよく、ノズル１１よりも交換頻度の低いミラー１５等を取り外す必要がない。
摘要翻译：一种液体射流X射线产生装置（1），其中喷嘴（11）和反射镜（15）设置在光源室（10）中，凸缘构件（20）安装在光源室（10），并且用于喷嘴（11）的管（13）的基端侧装配到凸缘构件（20），使得喷嘴（11）能够被移除到光源的外部通过去除构件（20），可以通过移除凸缘构件（20）来代替作为最经常更换的元件的喷嘴（11），并且反射镜（15）不如喷嘴更频繁地更换 11）不能删除。

75. 发明申请

WO2003092056A1 EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE FABRICATION METHOD USING THE SAME 审中-公开
标题翻译：曝光装置及其装置制造方法
公开(公告)号：WO2003092056A1
公开(公告)日：2003-11-06
申请号：PCT/JP2003/004644
申请日：2003-04-11
申请人： CANON KABUSHIKI KAISHA , HIURA, Mitsuru , TSUJI, Toshihiko
发明人： HIURA, Mitsuru , TSUJI, Toshihiko
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70916 , B82Y10/00 , G02B17/0663 , G03F7/70033 , G03F7/70175 , G03F7/70941 , H05G2/001
摘要： An exposure apparatus that irradiates excitation laser onto a target, and generates from generated plasma a light source for generating illumination light of an extreme ultraviolet region or an X-ray region includes an illumination optical system that uses the illumination light to illuminate a catoptric reticle that forms a pattern to be transferred, the illumination optical system including a first mirror closest to the light source, an ellipsoidal mirror for condensing the illumination light in front of the first mirror in the illumination optical system, and a projection optical system that reduces and projects the pattern reflected on the reticle onto an object to be exposed, wherein light where an optical-axis direction of the excitation laser proceeds beyond a position that generates the plasma by the excitation laser does not interfere with components in the exposure apparatus including the illumination and projection optical systems, and the ellipsoidal mirror.
摘要翻译：将激发激光照射到靶上并从产生的等离子体产生用于产生极紫外线区域或X射线区域的照明光的光源的曝光装置包括照明光学系统，该照明光学系统使用照明光照射反射掩模版，形成要转印的图案，所述照明光学系统包括最靠近所述光源的第一反射镜，用于将照明光学系统中的第一反射镜前方的照明光聚光的椭圆面镜和减少投影的投影光学系统在掩模版上反射到待曝光物体上的图案，其中激发激光器的光轴方向超过通过激发激光产生等离子体的位置的光不影响包括照明的曝光设备中的部件，投影光学系统和椭球镜。

76. 发明申请

WO2003040796A1 TILTING MIRROR 审中-公开
标题翻译：倾斜镜
公开(公告)号：WO2003040796A1
公开(公告)日：2003-05-15
申请号：PCT/EP2002/011773
申请日：2002-10-22
申请人： CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG , SINGER, Wolfgang , WEISS, Markus , SEIFERT, Andreas , MELZER, Frank , MANN, Heinz
发明人： SINGER, Wolfgang , WEISS, Markus , SEIFERT, Andreas , MELZER, Frank , MANN, Heinz
IPC分类号： G02B7/182
CPC分类号： G03F7/70075 , G02B5/09 , G02B7/1821 , G02B7/1824 , G02B26/0833 , G03F7/70141 , G03F7/70175 , G03F7/702
摘要： A tilting mirror, in particular as mirror facet (2) for a facet mirror (1) comprising a plurality of these tilting mirrors (2), is provided with a mirror surface (5) and a bearing device. The mirror surface (5) is constructed as the surface in a recess (4) in a spherical member (3), the spherical member (3) being mounted in the bearing device.
摘要翻译：倾斜镜，特别是作为包括多个这些倾斜镜（2）的小平面镜（1）的镜面（2），设置有镜面（5）和轴承装置。镜面（5）被构造为球形构件（3）中的凹部（4）中的表面，球形构件（3）安装在轴承装置中。

77. 发明申请

WO2018127565A2 GUIDING DEVICE AND ASSOCIATED SYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2018127565A2
公开(公告)日：2018-07-12
申请号：PCT/EP2018/050278
申请日：2018-01-05
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： LABETSKI, Dzmitry , BERENDSEN, Christianus, Wilhelmus, Johannes , DUARTE RODRIGES NUNES, Rui, Miguel , ERSHOV, Alexander, Igorevich , FEENSTRA, Kornelis, Frits , FOMENKOV, Igor, Vladimirovich , HUMMLER, Klaus, Martin , JOHNKADAKSHAM, Arun , KRAUSHAAR, Matthias , LAFORGE, Andrew, David , LANGLOIS, Marc, Guy , LOGINOV, Maksim , MA, Yue , MOJAB, Seyedmohammad , NADIR, Kerim , SHATALOV, Alexander , STEWART, John, Tom, , TEGENBOSCH, Henricus, Gerardus , XIA, Chunguang
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20
CPC分类号： H05G2/005 , G03F7/70033 , G03F7/70175 , G03F7/70916 , G03F7/70933 , H05G2/008
摘要： A radiation source including a chamber including a plasma formation region, a radiation collector arranged in the chamber, the radiation collector configured to collect radiation emitted at the plasma formation region and to direct the collected radiation to an intermediate focus region, a debris mitigation system configured to direct a first gas flow from the intermediate focus region towards the plasma formation region, and a guiding device arranged in the chamber such that the first gas flow is directed around the guiding device. A system and apparatus for reducing contamination of an inner vessel wall of an EUV vessel is provided. The system and apparatus include inner vessel wall supplies of gas that introduce gas via a plurality of nozzles away from the inner vessel wall. The system and apparatus also optionally include an asymmetric exhaust to exhaust gas from the EUV vessel while providing flow geometries that promote a direction of gas away from the inner vessel wall and an EUV collector within the EUV vessel.

78. 发明申请

WO2016131069A3 EUV LIGHT SOURCE WITH SPECTRAL PURITY FILTER AND POWER RECYCLING 审中-公开
标题翻译： EUV光源与光谱滤光片和功率回收
公开(公告)号：WO2016131069A3
公开(公告)日：2016-10-06
申请号：PCT/US2016034172
申请日：2016-05-25
申请人： JOHNSON KENNETH CARLISLE
发明人： JOHNSON KENNETH CARLISLE
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/122 , G02B5/18 , G02B5/20 , G21K1/06 , H01S3/08 , H05G2/00
CPC分类号： G02B5/1838 , G02B5/122 , G02B19/0095 , G03F7/70033 , G03F7/7015 , G03F7/70158 , G03F7/70175 , G03F7/70191 , G03F7/70575 , G21K1/062 , G21K1/067 , G21K2201/064 , H05G2/008
摘要： A plasma-generated EUV light source uses an EUV-diffracting collection mirror (103) to channel spectrally pure in-band radiation through an intermediate-focus aperture (105) and through EUV illumination optics. Out-of-band radiation (1102) is either undiffracted by the collection mirror or is diffractively scattered away from the aperture. The undiffracted portion, plus plasma-emitted radiation that does not intercept the collection mirror, can be efficiently recycled back to the plasma (102) via retroreflecting mirrors (1101;1103), cat's-eye reflectors, or corner-cube reflectors, to enhance generation of in-band EUV radiation by the plasma.
摘要翻译：等离子体产生的EUV光源使用EUV衍射收集镜（103）来通过中间焦点孔（105）并通过EUV照明光学器件来传输光谱纯的带内辐射。带外辐射（1102）由收集镜未衍射，或者衍射离散。通过后向反射镜（1101; 1103），猫眼反射器或角立方反射器可以有效地将非衍射部分加上不拦截收集镜的等离子体发射的辐射有效地再循环回等离子体（102），以增强通过等离子体产生带内EUV辐射。

79. 发明申请

WO2016098193A1 極端紫外光生成装置审中-公开
标题翻译：极光紫外线发光装置
公开(公告)号：WO2016098193A1
公开(公告)日：2016-06-23
申请号：PCT/JP2014/083393
申请日：2014-12-17
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：永井　伸治 , スマン　ゲオルグ , 西坂　敏博
IPC分类号： H01L21/027 , H05G2/00
CPC分类号： H05G2/008 , G03F7/70033 , G03F7/70175 , G03F7/70916
摘要：　ＥＵＶ光の出力の低下を抑制し得る。　極端紫外光生成装置は、内部のプラズマ生成領域２５に供給されたターゲットにレーザ光が照射されることで発生するプラズマから極端紫外光が生成されるチャンバ２と、前記チャンバ内で生成された前記極端紫外光を集光して前記チャンバ外に導出する集光ミラー２３と、前記集光ミラーの反射面及び前記プラズマ生成領域にエッチングガスを吹き出す第１エッチングガス供給部７と、前記チャンバ外に配置され、前記チャンバ内に磁場を形成する磁石９ａ，９ｂと、前記磁場の中心軸Ｏと交差する前記チャンバの内壁面に設けられ、前記チャンバ内にて発生した浮遊物質を取り込むポート８０と、前記ポートに連通し前記ポートから取り込まれた前記浮遊物質を前記チャンバ外に排出する排出経路８１と、前記チャンバ及び前記排出経路を前記磁石から分離して移動させる移動機構と、を備えてもよい。
摘要翻译：本发明可以防止EUV光的输出的降低。该极紫外线发生装置可以设置有：通过用激光照射供给到其内部的等离子体产生区域25的靶的等离子体产生远紫外光的室2; 收集反射镜23，其聚集在室内产生的极紫外光以引导到室外; 第一蚀刻气体供给单元7，其向集光反射镜的反射表面和等离子体产生区域吹出蚀刻气体; 磁体9a，9b，其设置在室外并在腔室中形成磁场; 端口80，其设置在室的内壁表面中，其与磁场的中心轴线O相交并且吸收在室中产生的悬浮物质; 排出路径81，其连接到端口并将从端口引入的浮动物质排出到室的外部; 以及通过将其与磁体分离而移动室和排出路径的移动机构。

80. 发明申请

WO2015086232A1 RADIATION SOURCE DEVICE, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
标题翻译：辐射源设备，光刻设备和器件制造方法
公开(公告)号：WO2015086232A1
公开(公告)日：2015-06-18
申请号：PCT/EP2014/073992
申请日：2014-11-07
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： DE JONG, Arjen, Teake , VELTMAN, Robertus, Wilhelmus , JILISEN, Reinier, Theodorus, Martinus
IPC分类号： G03F7/20 , H05G2/00
CPC分类号： G03F7/70033 , G03F7/70058 , G03F7/70175 , G03F7/70916 , G03F7/70933 , H05G2/005 , H05G2/008
摘要： A radiation source, e.g. for EUV for use in a lithographic apparatus, generates radiation by illuminating droplets of fuel with first radiation to form a plasma and collects second radiation omitted by the plasma using a collector (CO). The collector has an aperture and the fuel passes along a vertical trajectory through that aperture before being irradiated by the first radiation. In an embodiment the first radiation is directed along a beam, the final part of which is coincident with the final part of the trajectory of the fuel droplets. In an embodiment a gas flow is arranged coincident with the fuel trajectory and/or the beam of first radiation.
摘要翻译：辐射源，例如对于在光刻设备中使用的EUV，通过用第一辐射照射燃料的液滴来产生辐射以形成等离子体并且使用收集器（CO）收集等离子体所省略的第二辐射。收集器具有孔，并且燃料在被第一辐射照射之前沿着穿过该孔的垂直轨迹通过。在一个实施例中，第一辐射是沿着梁，其最后部分与燃料液滴的轨迹的最后部分重合。在一个实施例中，气流被布置成与燃料轨迹和/或第一辐射束重合。

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