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    • 51. 发明申请
    • PROBE STRUCTURE
    • 探索结构
    • WO1996013728A1
    • 1996-05-09
    • PCT/JP1995002092
    • 1995-10-12
    • NITTO DENKO CORPORATIONTAKAYAMA, YoshinariBABA, ToshikazuHINO, AtsushiAMINO, Ichiro
    • NITTO DENKO CORPORATION
    • G01R01/073
    • G01R1/07314G01R1/06761H05K3/4007
    • An insulating substrate (1) has a contact (2) on one side (1a) and a conductor circuit (3) on the other side (1b). The contact (2) and the conductor circuit (3) are connected electrically with each other through a conductor (5) formed in a through-hole (4) bored in the insulating substrate (1). The contact (2) has a laminate structure comprising a deep layer (1c) having a hardness of 100 to 700 Hk, an intermediate layer (1b) having a hardness of 10 to 300 Hk and a surface layer (1a) having a hardness of 700 to 1,200 Hk. Preferably, the tensile stress of the surface layer (1a) is not greater than 50 kg/mm . A low and stable contact resistance is maintained in an electrical test of small objects such as ICs, particularly in burn-in test. In a test method which forms and utilizes solder bumps on the object, the solder component of the object after inspection does not adhere to the contact. Even when ON/OFF of contact with the object under test is repeated, deterioration from the initial contact state is less, and the test can be carried out with high reliability.
    • 绝缘基板(1)在一侧(1a)上具有触点(2)和另一侧(1b)上的导体电路(3)。 触点(2)和导体电路(3)通过在绝缘基板(1)上钻孔的通孔(4)中形成的导体(5)彼此电连接。 触点(2)具有包括硬度为100〜700Hk的深层(1c),硬度为10〜300Hk的中间层(1b)和硬度为10〜300Hk的表面层(1a)的层叠结构, 700至1,200 Hk。 优选地,表面层(1a)的拉伸应力不大于50kg / mm 2。 在小型物体(如IC)的电气测试中,特别是在老化测试中,保持了低稳定的接触电阻。 在形成并利用物体上的焊料凸块的测试方法中,检查后物体的焊料部件不粘附于接触。 即使重复与被测试物体的接触ON / OFF,初始接触状态的劣化也较小,可以高可靠性地进行试验。
    • 52. 发明申请
    • CONTACT PROBE FOR A TESTING HEAD
    • 联系人测试头
    • WO2016146451A1
    • 2016-09-22
    • PCT/EP2016/055023
    • 2016-03-09
    • TECHNOPROBE S.P.A.
    • CRIPPA, RobertoCRIPPA, GiuseppeVALLAURI, Raffaele
    • G01R1/073G01R1/067H01R13/24
    • G01R1/06738G01R1/06716G01R1/06755G01R1/06761G01R1/073G01R1/07314G01R1/07357H01R13/03H01R13/2464
    • A contact probe (10) for a testing head of a testing apparatus of electronic devices is described, the contact probe (10) comprising a body essentially extended in a longitudinal direction between respective end portions adapted to contact respective contact pads. Suitably, at least one end portion (10A) comprises an insert (20) made of a first conductive material having a hardness being greater than a second conductive material, which the contact probe (10) is made of, the insert (20) being supported by a section (21) of the end portion (10A), the section (21) being made of the second conductive material and being shaped so as to have a shape that is complementary to the insert (20) and to have respective abutting surfaces (21A, 21B) facing and adhering to respective abutting surfaces (20A, 20B) of the insert (20).
    • 描述了用于电子设备测试装置的测试头的接触探针(10),所述接触探针(10)包括主体,其基本上在适于接触相应接触垫的相应端部之间沿纵向方向延伸。 适当地,至少一个端部(10A)包括由第一导电材料制成的插入件(20),所述插入件(20)具有大于第二导电材料的第一导电材料,所述接触探针(10)由所述第二导电材料制成,所述插入件 由所述端部(10A)的部分(21)支撑,所述部分(21)由所述第二导电材料制成并且成形为具有与所述插入件(20)互补的形状,并且具有相应的邻接 表面(21A,21B)面向并粘附到插入件(20)的相应的邻接表面(20A,20B)。
    • 55. 发明申请
    • 반도체소자 테스트용 콘텍트 제조방법
    • 制造用于测试半导体器件的接触的方法
    • WO2013058465A1
    • 2013-04-25
    • PCT/KR2012/004979
    • 2012-06-25
    • 실리콘밸리(주)윤경섭
    • 윤경섭
    • G01R1/067G01R31/26
    • G01R1/067G01R1/06761G01R3/00Y10T156/1052
    • 본 발명은 반도체소자의 리드단자를 접촉시켜 반도체소자에 대한 정상 여부를 검사하기 위해 사용되는 절연체판에 도전체부가 일정간격 배열형성된 테스트 소켓용 콘텍트에 관한 것으로, 이를 더 상세하게 설명하면, 상기 콘텍트를 절연체층과 도전체층을 연속 반복하여 접합 적층하고, 이 적층물의 일면을 절단한 후, 상기 적층물과 절연체층을 다시 연속 반복하여 접합 적층한 다음, 이 적층물의 전면을 절단하여서 완성물을 얻는 새로운 타입의 콘텍트를 제조방법을 제공함으로써, 상기 제조과정에서 층을 형성하는 두께와, 절단 폭에 따라 도전체부의 피치 간격을 결정할 수 있어 도전체부의 피치 간격을 달성할 수 있는 반도체소자 테스트용 콘텍트 제조방법을 제공한다.
    • 本发明涉及一种用于测试插座的触点,其中导体部分被形成为以一定间隔布置在用于通过接触半导体器件的读取端子来测试半导体器件是否正常的电介质板上 具体地说,涉及一种用于制造用于测试半导体器件的接触的方法,其中接触件与电介质层和导体层交替重复地粘合和堆叠,堆叠的一侧被切割,然后堆叠和电介质层再次 经过重复的交替粘合和堆叠,之后切割堆叠的前表面以产生新型接触的成品。 因此,可以根据制造过程中的层的厚度和切割宽度来确定导体部分的间距,从而可以实现导体部分的期望间距。
    • 56. 发明申请
    • METHOD FOR MANUFACTURING CONTACT PROBE
    • 制造接触探针的方法
    • WO2013046985A1
    • 2013-04-04
    • PCT/JP2012070823
    • 2012-08-16
    • SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIESCHIBA YUKIFUMINITTA KOJITOKUDA TAKESHI
    • CHIBA YUKIFUMINITTA KOJITOKUDA TAKESHI
    • G01R1/067
    • G01R1/067C25D1/00C25D1/20G01R1/06716G01R1/06761G01R1/07357G01R3/00Y10T29/49002
    • A method for manufacturing a contact probe (10) is provided with the following steps: a lithography step for obtaining a resin mold by forming, in a resist formed on a conductive substrate, the pattern of a contact probe (10), the pattern of a frame-shaped tie bar (20) surrounding the periphery thereof, and the pattern of a connection portion (30) connecting both the patterns by lithography; an electroforming step for forming a layer produced from a metal material in the resin mold by electroforming to form a metal structure (1) in which the contact probe (10) and the tie bar (20) are integrated by the connection portion (30); a removal step for removing the resin mold and the conductive substrate; a plating step for forming a plated layer on the surface of the metal structure (1) by electroplating after the removal step; and a separation step for separating the contact probe (10) from the metal structure (1) after the plating step. Consequently, the method for manufacturing the contact probe (10), by which the plating layer having a uniform thickness can be easily formed on the surface, can be provided.
    • 一种用于制造接触探针(10)的方法,其具有以下步骤:光刻步骤,用于通过在形成在导电基底上的抗蚀剂中形成接触探针(10)的图案来获得树脂模具, 围绕其周边的框形连杆(20)和通过光刻连接两个图案的连接部分(30)的图案; 一种电铸步骤,用于通过电铸在所述树脂模具中形成由金属材料制成的层,以形成其中所述接触探针(10)和所述连杆(20)由所述连接部分(30)一体化的金属结构(1) ; 去除树脂模具和导电基板的去除步骤; 电镀步骤,用于在去除步骤之后通过电镀在金属结构(1)的表面上形成镀层; 以及用于在镀覆步骤之后从金属结构(1)分离接触探针(10)的分离步骤。 因此,能够容易地在表面上形成具有均匀厚度的镀层的接触探针(10)的制造方法。
    • 60. 发明申请
    • 半導体検査装置用プローブピン、その製造方法及び半導体検査方法
    • 半导体检测装置的探针,其制造方法和半导体检测方法
    • WO2012008128A1
    • 2012-01-19
    • PCT/JP2011/003911
    • 2011-07-07
    • 株式会社神戸製鋼所伊藤 弘高山本 兼司
    • 伊藤 弘高山本 兼司
    • G01R1/067
    • G01R1/06761
    • 【課題】プローブピンがはんだと接触した際に、はんだの主成分であるスズがプローブピンの接触部に凝着することを防ぎ、耐スズ凝着性に優れた導電性皮膜を基材表面に形成して成る半導体検査装置用プローブピンを提供することを目的とする。 【解決手段】導電性基材と、銅およびジルコニウムを含有する銅-ジルコニウム皮膜とを含む半導体検査装置用プローブピンであって、前記銅-ジルコニウム皮膜において、ジルコニウムと銅の総原子数に対するジルコニウム原子数の割合が、15~85原子%であり、前記皮膜の膜厚が、0.05~3μmであることを特徴とする半導体検査装置用プローブピン。前記銅-ジルコニウム皮膜はさらに炭素原子を含み、前記銅-ジルコニウム皮膜の総原子数に対する炭素原子数の割合が、40原子%以下であることが好適である。
    • 提供了一种用于半导体检测装置的探针,其中当探针与焊料接触时,防止作为焊料的主要成分的锡和粘合到探针的接触部分的导电膜, 在基材的表面上形成优异的锡粘附性。 具体地提供了一种用于半导体检测装置的探针,其包括导电基材和含有铜和锆的铜 - 锆膜,其中锆原子数相对于锆和铜原子总数的比例为15至85 铜 - 锆膜中的原子%,膜的厚度为0.05〜3μm。 此外,铜 - 锆膜也含有碳原子,优选相对于铜 - 锆膜中的总原子数的碳原子数的比例为40原子%以下。