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    • 51. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES OPTOELEKTRONISCHEN BAUELEMENTS
    • 方法制造光电子器件
    • WO2015124464A1
    • 2015-08-27
    • PCT/EP2015/052761
    • 2015-02-10
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • HERRMANN, SiegfriedVON MALM, Norwin
    • H01L33/00H01L33/48H01L33/62
    • H01L33/62H01L25/075H01L25/50H01L33/0095H01L33/486H01L2224/16225H01L2224/97H01L2933/0033H01L2933/0066
    • Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauelements (100) angegeben, umfassend ein Bereitstellen eines Trägers (1) mit zumindest einer Montagefläche (11), ein Erzeugen von zumindest zwei Durchkontaktierungen (4) in dem Träger (1) mit in den Durchkontaktierungen (4) verlaufenden elektrisch leitenden Kontakten (12, 13), ein Bereitstellen zumindest eines Licht emittierenden Halbleiterchips (2), wobei der Halbleiterchip (2) ein Aufwachssubstrat (10) und eine darauf epitaktisch gewachsene Schichtenfolge (7) umfasst, ein Montieren des zumindest einen Halbleiterchips (2) auf die zumindest eine Montagefläche (11) des Trägers (1), wobei der Halbleiterchip (2) beim Montieren auf die Montagefläche (11) im selben Verfahrensschritt elektrisch leitend mit den Kontakten (12, 13) verbunden wird, ein Vereinzeln des Trägers (1) entlang von Vereinzelungslinien (V), wobei eine Vereinzelungslinie (V) durch zumindest eine der Durchkontaktierungen (4) verläuft, so dass nach dem Vereinzeln die Kontakte (12, 13) Kontaktflächen (5) an zumindest einer Seitenfläche (la) des Trägers (1) bilden, wobei die Seitenfläche (la) senkrecht zur Montagefläche (11) des Trägers (1) ist, und eine Montage des Trägers (1) mit den Kontaktflächen (5) auf einer Anschlussplatte (8), wobei die Montagefläche (11) senkrecht zu der Anschlussplatte (8) steht.
    • 提供了一种方法用于制造光电子组件(100),包括提供一个载体(1),具有至少一个安装表面(11),产生在所述支承件(1)与(在通孔中的至少两个通孔(4) 4)延伸的导电触点(12,13),提供至少一个发光半导体芯片(2),其中所述半导体芯片(2),包括在生长衬底(10)和随后的外延生长层序列(7),安装所述至少一个 半导体芯片(2)到所述载体(1)的至少一个安装表面(11),其中所述半导体芯片(2)在同一工艺步骤中的安装表面(11)上安装时,导电连接到接触件(12,13)连接,一个切单 该载体(1)沿着切割线(V),其特征在于,分离线(V)通过通孔(4)中的至少一个,从而使后 分离所述触点(12,13)的接触表面(5)上的支架(1)的至少一个侧表面(LA),其特征在于,垂直于所述载体(1)的安装面(11)的侧表面(LA),和载体的组件 (1)用在连接板(8)的接触表面(5),其中所述安装表面(11)垂直于所述连接板(8)。
    • 52. 发明申请
    • HALBLEITERBAUELEMENT UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES HALBLEITERBAUELEMENTS
    • 半导体部件和方法的半导体元件
    • WO2015110359A1
    • 2015-07-30
    • PCT/EP2015/050781
    • 2015-01-16
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • HERRMANN, SiegfriedILLEK, StefanSINGER, Frank
    • H01L33/60H01L25/16H01L33/48H01L33/62
    • H01L27/0248H01L23/147H01L23/49822H01L23/49827H01L23/552H01L24/80H01L25/167H01L33/0079H01L33/382H01L33/486H01L33/502H01L33/54H01L33/60H01L33/62H01L2224/08235H01L2224/80895H01L2224/80896H01L2933/0016H01L2933/0033H01L2933/0041H01L2933/005H01L2933/0058H01L2933/0066
    • Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements (100) angegeben, bei dem ein Träger (1) mit einer ersten Isolierungsschicht (12), einer von der ersten Isolierungsschicht zumindest bereichsweise bedeckten Spiegelschicht (13) und einem Anschlusselement (41) bereitgestellt wird, wobei der Träger eine freiliegende, planare Montagefläche (11) aufweist und sich das Anschlusselement durch die erste Isolierungsschicht hindurch zur Montagefläche erstreckt. Des Weiteren wird ein Hauptkörper (2) mit einem Halbleiterkörper (20), einer zweiten Isolierungsschicht (22) und einem Kontaktelement (42) zur elektrischen Kontaktierung des Halbleiterkörpers bereitgestellt, wobei der Hauptkörper eine freiliegende, planare Kontaktfläche (21) aufweist und sich das Kontaktelement durch die zweite Isolierungsschicht hindurch zur Kontaktfläche erstreckt. Der Hauptkörper wird mit dem Träger verbunden, wobei die planare Kontaktfläche und die planare Montagefläche zur Bildung einer Verbindungsfläche (3) zusammen geführt werden und das Kontaktelement und das Anschlusselement elektrisch miteinander verbunden werden. Weiterhin wird ein solches Halbleiterbauelement angegeben, wobei die Spiegelschicht eben ausgebildet ist, in Draufsicht seitlich über den Hauptkörper hinausragt, und die Verbindungsfläche (3) frei von einem Verbindungsmaterial ist.
    • 本发明提供一种制造半导体器件(100),其中,载体(1)设置有第一绝缘层(12),一个至少部分地由第一绝缘层反射镜层(13)和连接元件(41)覆盖的方法, 具有暴露的平坦的安装面(11)和所述连接元件的承载穿过第一绝缘层,以安装表面延伸。 此外,一个主体(2)与半导体主体(20),第二绝缘层(22)和用于半导体本体的电接触的接触元件(42)设置,其中,所述主体具有暴露的平面接触表面(21)和所述接触元件 穿过第二绝缘层延伸至所述接触表面。 主体被连接到载体上,其中所述平坦接触表面和平面的安装表面,以形成一个连接表面(3)被引导一起和接触元件和连接元件电连接在一起。 此外,这种半导体装置被提供,其中,所述反射镜层形成为平坦状,在延伸横向在主体俯视图和连接表面(3)是自由的接合材料的。
    • 58. 发明申请
    • OPTOELEKTRONISCHES BAUELEMENT MIT SEITENKONTAKTEN
    • 具有侧面接触的光电子器件
    • WO2017129697A1
    • 2017-08-03
    • PCT/EP2017/051679
    • 2017-01-26
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • SCHOLZ, DominikHERRMANN, Siegfried
    • H01L33/62H01L33/48
    • H01L33/62H01L21/568H01L33/486H01L2224/04105H01L2224/19H01L2924/18162H01L2933/0066
    • Die Erfindung betrifft ein optoelektronisches Bauelement mit einem lichtemittierenden Halbleiterchip mit einer Emissions- und mit einer Unterseite. Das Bauelement ist ausgebildet, Licht über die Emissionsseite abzustrahlen. Das optoelektronische Bauelement weist eine isolierende Schicht auf, in die der Halbleiterchip eingebettet ist. Zwei elektrische Kontaktstellen des Halbleiterchips sind von der Emissionsseite abgewandt und jeweils mit einer Kontaktstelle des Halbleiterchips elektrisch leitfähig verbunden. Die elektrisch leitfähigen Kontaktschichten sind in der isolierenden Schicht angeordnet. Die erste elektrisch leitfähige Kontaktschicht grenzt an eine erste Seitenfläche des optoelektronischen Bauelements an, die zweite elektrisch leitfähige Kontaktschicht grenzt an eine zweite Seitenfläche des optoelektronischen Bauelements an. Außerdem betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements mit den Schritten: Einbetten eines Halbleiterchips in eine erste elektrisch isolierende Schicht; Aufbringen von zwei elektrisch leitfähigen Kontaktschichten auf der ersten isolierenden Schicht derart, dass die elektrisch leitfähigen Kontaktschichten voneinander isoliert sind und jeweils mit einer elektrischen Kontaktstelle des Halbleiterchips verbunden sind; und Aufbringen einer zweiten elektrisch isolierenden Schicht, welche die elektrisch leitfähigen Kontaktschichten bedeckt.
    • 本发明涉及一种具有发光半导体芯片的发光半导体芯片和具有底侧的光电子器件。 该设备设计为通过发射侧发光。 光电子器件具有绝缘层,半导体芯片嵌入其中。 半导体芯片的两个电接触点远离发射侧并且分别与半导体芯片的接触点导电连接。 导电接触层布置在绝缘层中。 第一导电接触层邻接光电子器件的第一侧表面,并且第二导电接触层邻接光电子器件的第二侧表面。 此外,本发明涉及一种用于制造光电子器件的方法,包括以下步骤:将半导体芯片嵌入第一电绝缘层中; 在第一绝缘层上施加两个导电接触层,使得导电接触层彼此绝缘并且各自连接到半导体芯片的电接触点; 以及施加覆盖导电接触层的第二电绝缘层
    • 59. 发明申请
    • OPTOELEKTRONISCHER HALBLEITERCHIP UND LEUCHTMITTEL
    • 光电子半导体芯片和灯具
    • WO2016180810A1
    • 2016-11-17
    • PCT/EP2016/060400
    • 2016-05-10
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • HERRMANN, SiegfriedRACZ, DavidHAIBERGER, Luca
    • H01L33/36H01L33/46H01L33/50G02F1/1335H01L25/075
    • H01L33/46H01L33/505H01L33/62
    • Ein optoelektronischer Halbleiterchip (100) weist einen optoelektronischen Halbleiterkörper (1)mit einer Strahlungsseite (16) und einer der Strahlungsseite (16) gegenüberliegenden Rückseite (12) auf. Auf der Strahlungsseite (16) ist ein Konverterelement (2) angeordnet, das im Betrieb eine vom Halbleiterkörper (1) über die Strahlungsseite (16) emittierte Strahlung teilweise oder vollständig in Strahlung eines anderen Wellenlängenbereichs konvertiert. Auf Seitenflächen (15) des Halbleiterkörpers (1) und auf Seitenflächen (25) des Konverterelements (2) ist eine Spiegelschicht (3) angeordnet, die die Seitenflächen (15, 25) bedeckt. Die Seitenflächen (15, 25) des Halbleiterkörpers (1) und des Konverterelements (2) verlaufen jeweils quer zur Strahlungsseite (16). Die Rückseite (12) liegt im unmontierten Zustand des Halbleiterchips (100) frei. Die Spiegelschicht (3) weist eine Reflektivität für die von dem Halbleiterkörper (1) und/oder dem Konverterelement (2) emittierte Strahlung von zumindest 80 % auf. Die Spiegelschicht (3) weist eine Dicke von höchstens 5 µm auf.
    • 的光电子半导体芯片(100)包括在放射侧(16)和放射侧(16)相对的后侧(12)中的一个的光电子半导体元件(1)。 在辐射侧(16)被布置成在操作期间由所述半导体主体(1)上部分地或完全发射到一个不同的波长范围内的辐射的辐射侧(16)将辐射转换的转换器元件(2)。 在半导体主体(1)的侧表面(15)和在转换器元件(2)的侧表面(25)被布置在反射层(3)的侧表面(15,25)覆盖。 半导体本体(1)和所述转换器元件的侧表面(15,25)(2)在每个横向延伸到放射侧(16)。 背面(12)在半导体芯片(100)的未安装状态下露出。 镜层(3)具有用于所述半导体主体(1)和/或所述转换器元件(2)发出的至少80%的辐射的反射率。 镜层(3)的厚度至多5微米。