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31. 发明申请

WO2010063418A1 METHOD AND DEVICE FOR MEASURING THE RELATIVE LOCAL POSITION ERROR OF ONE OF THE SECTIONS OF AN OBJECT THAT IS EXPOSED SECTION BY SECTION 审中-公开
标题翻译：用于测量部分暴露部分的部分之一的相对本地位置错误的方法和装置
公开(公告)号：WO2010063418A1
公开(公告)日：2010-06-10
申请号：PCT/EP2009/008483
申请日：2009-11-28
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , ARNZ, Michael , BEYER, Dirk , HARNISCH, Wolfgang , SCHERÜBL, Thomas
发明人： ARNZ, Michael , BEYER, Dirk , HARNISCH, Wolfgang , SCHERÜBL, Thomas
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/00 , H01J37/317 , H01J37/304
CPC分类号： G03F7/70633 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/84 , G03F7/70616 , H01J37/3174
摘要： A method for measuring the relative local position error of one of the sections of an object that is exposed section by section, in particular of a lithography mask or of a wafer, is provided, each exposed section having a plurality of measurement marks, wherein a) a region of the object which is larger than the one section is imaged in magnified fashion and is detected as an image, b) position errors of the measurement marks contained in the detected image are determined on the basis of the detected image, c) corrected position errors are derived by position error components which are caused by the magnified imaging and detection being extracted from the determined position errors of the measurement marks, d) the relative local position error of the one section is derived on the basis of the corrected position errors of the measurement marks.
摘要翻译：提供了一种用于测量逐段暴露的物体的一个部分，特别是光刻掩模或晶片的相对局部位置误差的方法，每个暴露部分具有多个测量标记，其中）以放大方式成像大于该部分的对象的区域，并且被检测为图像，b）基于检测到的图像确定检测图像中包含的测量标记的位置误差，c）校正位置误差是通过由放大的成像和检测引起的位置误差分量从确定的测量标记的位置误差中提取导出的，d）基于校正位置导出一个部分的相对局部位置误差测量标记的误差。

32. 发明申请

WO2009097859A1 A METHOD FOR PERFORMING ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：一种执行电子束光刻的方法
公开(公告)号：WO2009097859A1
公开(公告)日：2009-08-13
申请号：PCT/DK2009/050036
申请日：2009-02-05
申请人： NIL TECHNOLOGY ApS , NIELSEN, Theodor Kamp , BILENBERG, Brian , SHI, Peixiong
发明人： NIELSEN, Theodor Kamp , BILENBERG, Brian , SHI, Peixiong
IPC分类号： H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00
摘要： The present invention relates to a method for performing high speed electron beam lithography (EBL). An electron beam source (EBS), capable of emitting an electron beam towards the energy sensitive resist, forms a first pattern (Pl) on the substrate, the first pattern defining a first direction (Dl) on the substrate. The electron beam source then forms a second pattern (P2) on the substrate. The energy and/or dose delivered to the energy sensitive resist during the exposure of the first and the second pattern is dimensioned so that the threshold dose/energy of the energy sensitive resist is reached on the overlapping portions of the first and the second patterns (Pl, P2). The invention provides a high speed technique for the production of substrates with high quality developed patterns, e.g. hole or dot arrays, by electron beam lithography. Each hole or dot may be defined by the mutually overlapping portions of the first and second pattern, e.g. exposed lines forming a grid, instead of addressing each dot or hole separately.
摘要翻译：本发明涉及一种用于执行高速电子束光刻（EBL）的方法。能够向能量敏感抗蚀剂发射电子束的电子束源（EBS）在衬底上形成第一图案（P1），第一图案在衬底上限定第一方向（D1）。电子束源然后在衬底上形成第二图案（P2）。在第一和第二图案的曝光期间输送到能量敏感抗蚀剂的能量和/或剂量的尺寸设定为使得能够在第一和第二图案的重叠部分上达到能量敏感抗蚀剂的阈值剂量/能量 P1，P2）。本发明提供了用于生产具有高质量显影图案的基底的高速技术，例如，孔或点阵列，通过电子束光刻。每个孔或点可以由第一和第二图案的相互重叠的部分限定。曝光线形成网格，而不是分别对每个点或孔进行寻址。

33. 发明申请

WO2009044871A1 電子源及び電子ビーム装置审中-公开
标题翻译：电子源和电子束装置
公开(公告)号：WO2009044871A1
公开(公告)日：2009-04-09
申请号：PCT/JP2008/068077
申请日：2008-10-03
申请人：電気化学工業株式会社 , 野々垣良三 , 照井良典
发明人：野々垣良三 , 照井良典
IPC分类号： H01J37/06 , H01J1/15 , H01J1/16
CPC分类号： H01J1/15 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J1/18 , H01J37/065 , H01J37/3174 , H01J2237/0216 , H01J2237/06316 , H01J2237/26 , H01J2237/28
摘要：　電子源を用いる装置が外部より振動を受けても、安定した電子線を与える電子源を提供する。絶縁碍子（５）と、絶縁碍子（５）に間隔を空けて配置された２つの導電端子（４）と、導電端子（４）の間に張られている長尺のフィラメント（３）と、フィラメント（３）に取り付けられた電子放射部を有する針状の陰極（１）とを備える電子源であって、フィラメント（３）の軸方向に対する垂直断面形状が長方向と短方向を有し、長方向の最大長がその短方向の最大長の１．５倍以上５倍以下である電子源。
摘要翻译：提供了即使从外部向使用电子源的装置施加振动时也输出稳定的电子束的电子源。电子源设有绝缘体（5）; 在绝缘体（5）上间隔布置的两个导电端子（4）; 在导电端子（4）之间延伸的长丝（3）; 和具有连接到灯丝（3）上的电子放电部分的针状阴极（1）。灯丝（3）在轴向上的垂直截面形状具有长方向和短方向，并且长度方向上的最大长度是短时间内的最大长度的1.5倍以上但不大于5倍方向。

34. 发明申请

WO2009016331A3 PATTERN WRITING ON A ROTATING SUBSTRATE 审中-公开
标题翻译：在旋转的基材上书写模式
公开(公告)号：WO2009016331A3
公开(公告)日：2009-04-09
申请号：PCT/GB2008001101
申请日：2008-03-26
申请人： VISTEC LITHOGRAPHY INC , HOYLE PHILIP CLIFFORD , CROSLAND NIGEL CHARLES EDWARD , MCCLELLAND ANDREW WILLIAM , KING DAVID MARTIN PLATTON , LAIDLER IAN , WILLIAMS JASON GERAINT SEABORN
发明人： HOYLE PHILIP CLIFFORD , CROSLAND NIGEL CHARLES EDWARD , MCCLELLAND ANDREW WILLIAM , KING DAVID MARTIN PLATTON , LAIDLER IAN , WILLIAMS JASON GERAINT SEABORNE
IPC分类号： H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G11B5/8404 , G11B5/855
摘要： A method of producing an array of islands (12) on concentric tracks (13) on a rotating substrate by selective exposure of an electron-sensitive surface of the substrate to an electron beam comprises directing the beam onto a point (A) on the surface within a zone of action of the beam and deflecting the beam in the sense (31 ) of substrate rotation to remain on the point until the point (A') has received an electron dose from the beam. The beam is then redirected onto a further point (B or T) at a spacing from the preceding point (A1) and dosed by the beam in similar manner. The redirection and deflection procedure is repeated for at least one substrate revolution, preferably several revolutions, so that points are dosed along at least one of the tracks (13a), preferably several of the tracks (13a to 13j). The same procedure is then repeated, in conjunction with continuous or periodic linear displacement of the substrate perpendicularly to its axis of rotation to shift the zone of action across the substrate, until points are dosed along all intended tracks on the substrate, the totality of dosed points forming the array of islands.
摘要翻译：一种通过将衬底的电子敏感表面选择性暴露于电子束而在旋转衬底上的同心轨道（13）上产生岛阵列（12）的方法，包括将光束引导至表面上的点（A）在光束的作用区内并且在衬底旋转的方向（31）中偏转光束以保持该点，直到点（A'）已经从光束接收到电子剂量。然后该光束以与前一点（A1）相距一定距离的方式被重定向到另一个点（B或T），并以类似的方式被光束投射。重新定向和偏转程序重复至少一个基板旋转，优选几圈，使得点沿至少一个轨道（13a），优选几个轨道（13a至13j）定量给料。然后重复相同的过程，连同垂直于其旋转轴线的衬底的连续或周期线性位移，以移动穿过衬底的作用区域，直到沿着衬底上的所有预期轨迹对点进行剂量给药，总剂量形成岛阵列的点。

35. 发明申请

WO2009015154A1 INTENSITY MODULATED ELECTRON BEAM AND APPLICATION TO ELECTRON BEAM BLANKER 审中-公开
标题翻译：强度调制电子束和应用于电子束保护膜
公开(公告)号：WO2009015154A1
公开(公告)日：2009-01-29
申请号：PCT/US2008/070783
申请日：2008-07-22
申请人： KLA-TENCOR TECHNOLOGIES CORPORATION , ROUGH, Kirkwood , LIU, Xuefeng , LORDI, Vincenzo , LEVI, Shem-tov
发明人： ROUGH, Kirkwood , LIU, Xuefeng , LORDI, Vincenzo , LEVI, Shem-tov
IPC分类号： G21K5/10
CPC分类号： H01J37/063 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/045 , H01J37/073 , H01J37/075 , H01J37/3174 , H01J2237/0432
摘要： Method and apparatus for achieving an intensity modulated electron blanker are disclosed. An apparatus includes a cathode exposed to an activation source to generate an electron beam. Cathode control circuitry adjusts a cathode control amplifier to regulate cathode voltage and the potential of the electron beam. In some approaches the electron beam potential is used to control the blanking frequency, switching speeds, and duty cycle. In another approach electron generating beams directed on to the cathode are modulated to control the electron beam.
摘要翻译：公开了用于实现强度调制的电子消除器的方法和装置。一种装置包括暴露于激活源的阴极以产生电子束。阴极控制电路调节阴极控制放大器以调节阴极电压和电子束的电位。在一些方法中，电子束电位用于控制消隐频率，开关速度和占空比。在另一种方法中，调节指向阴极的电子产生光束以控制电子束。

36. 发明申请

WO2009005023A1 ELECTRON BEAM DRAWING METHOD 审中-公开
标题翻译：电子束绘图方法
公开(公告)号：WO2009005023A1
公开(公告)日：2009-01-08
申请号：PCT/JP2008/061807
申请日：2008-06-24
申请人： KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA , OKINO, Takeshi
发明人： OKINO, Takeshi
IPC分类号： G11B5/84 , G03F7/20
CPC分类号： G11B5/855 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3174 , H01J2237/20214 , H01J2237/30483
摘要： According to one embodiment, an electron beam drawing method includes placing a substrate, on which a photosensitive resin film is coated, on a stage, applying an electron beam to the photosensitive resin film while the substrate on the stage is rotated and moved to the horizontal direction, and drawing a pattern extending to a radial direction, in which the electron beam is deflected to a direction parallel with a rotational direction of the substrate such that a relative movement speed of an electron-beam applied position on the substrate in the direction parallel with the rotational direction of the substrate becomes slower than a linear velocity of the substrate, viewed from a drawing start position in a circulation for drawing the pattern.
摘要翻译：根据一个实施例，电子束拉制方法包括将其上涂覆有感光性树脂膜的基板放置在载置台上，同时在台架上的基板旋转并移动到水平面上的同时向感光性树脂膜施加电子束方向，并且绘制延伸到径向的图案，其中电子束被偏转到与基板的旋转方向平行的方向，使得在平行方向上的基板上的电子束施加位置的相对移动速度从用于绘制图案的循环中的绘图开始位置观察，基板的旋转方向变得比基板的线速度慢。

37. 发明申请

WO2008102435A1 電子銃、電子ビーム露光装置及び露光方法审中-公开
标题翻译：电子枪，电子束曝光装置和电子束曝光方法
公开(公告)号：WO2008102435A1
公开(公告)日：2008-08-28
申请号：PCT/JP2007/053101
申请日：2007-02-20
申请人：株式会社アドバンテスト , 安田洋 , 原口岳士
发明人：安田洋 , 原口岳士
IPC分类号： H01J37/065 , H01J3/02 , H01J37/305 , H01L21/027
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J3/02 , H01J29/48 , H01J37/063 , H01J37/075 , H01J2237/06316
摘要：本発明は、電子銃に関して、電子を放出する電子源の熱による昇華量を削減し、長期間安定に使用することを課題とする。本発明の電子銃は、電子源（２０）の電子放出面と対向して配置され電子を加速する加速電極（２５）と、電子放出面と加速電極との間に配置され電子放出面に向かって光軸上に中心を持つ球状の凹面を有し当該電子放出面から電子を引き出す引き出し電極（２１）と、電子放出面の引き出し電極と反対側に配置され電子源の側面からの電子放出を抑制するサプレッサー電極（２４）とを有し、電子源の材料の昇華が発生しない程度の低い温度に保ちながら電子放出面に電界を印加して熱電界放射電子を放出させる。
摘要翻译：在电子枪中减少由于用于发射电子的电子源的热引起的升华量，并且电子枪长时间稳定地使用。电子枪设置有与电子源（20）的电子发射表面相对的加速电极（25），以加速电子; 布置在电子发射表面和加速电极之间的引出电极（21），具有在光轴上朝向电子发射表面的中心的球形凹入表面，以从电子发射表面提取电极; 以及用于抑制从电子源的侧面发射电子的抑制电极（24）。将电场施加到电子发射表面，同时保持温度低至不具有电源材料的升华，并且发射热场发射电子。

38. 发明申请

WO2008084537A1 電子銃及び電子ビーム露光装置审中-公开
标题翻译：电子枪和电子束曝光装置
公开(公告)号：WO2008084537A1
公开(公告)日：2008-07-17
申请号：PCT/JP2007/050214
申请日：2007-01-11
申请人：株式会社アドバンテスト , 電気化学工業株式会社 , 安田洋 , 原口岳士 , 照井良典 , 坂輪盛一 , 野々垣良三
发明人：安田洋 , 原口岳士 , 照井良典 , 坂輪盛一 , 野々垣良三
IPC分类号： H01J37/063 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/065 , H01J2237/06308 , H01J2237/06375
摘要：本願は輝度を向上した電子銃とそれを用いることにより、スループットを向上した電子ビーム露光装置に関するものである。六ホウ化ランタン（ＬａＢ6）又は六ホウ化セリウム（ＣｅＢ6）からなる電子源（２０）と、サプレッサ電極（２４）と加速電極（２１）からなる電子銃において、前記電子源の先端部が前記サプレッサ電極と前記加速電極との間に配置され、前記電子源は、電子放出領域と電子放出制限領域を有し、前記電子放出制限領域は、前記電子源先端部の電子放出面以外の該電子源側面であって、カーボン（３０）で覆われている。前記電子源は、その先端部が直径１０μｍ～１００μｍの円柱形状からなるようにしても良く、前記電子源の先端部が前記サプレッサ電極上面から２．５ｍｍ以上突き出していて、電子源先端と加速電極との距離が５ｍｍ以下に配置されるようにしても良い。
摘要翻译：提高亮度的电子枪，以及通过使用这种电子枪提高生产量的电子束曝光装置。电子枪包括六硼化镧（LaB6）或六硼化铈（CeB6）的电子源（20），抑制电极（24）和加速电极（21）。电子源的前端配置在抑制电极和加速电极之间，电子源具有电子放电区域和电子放电限制区域，其中电子放电限制区域是除电子放电面外的电子源侧面电子源的末端并用碳（30）覆盖。电子源可以在距离抑制电极的上表面突出2.5mm以上的远端形成具有10〜100μm的直径的柱状，并且其可以被布置成使得远端的电子源和加速电极为5mm以下。

39. 发明申请

WO2008084202A2 APPARATUS SUPPORT 审中-公开
标题翻译：设备支持
公开(公告)号：WO2008084202A2
公开(公告)日：2008-07-17
申请号：PCT/GB2008/000032
申请日：2008-01-08
申请人： VISTEC LITHOGRAPHY INC. , HARRIS, Paul, George
发明人： HARRIS, Paul, George
IPC分类号： H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , F16F1/3732 , F16F15/08
摘要： An apparatus support (11) with a damping characteristic comprises a rigid reinforcing component, in particular a steel plate (19), encapsulated by a body (16) of compliant material, particularly a composite of particulate mineral material and synthetic binder. The plate (19) defines an opening (19a) at spacing from the upper side of the body (16) and a mounting ring (21) is embedded in the body so as to be disposed at least partly above the opening. The ring (21) has a peripheral flange (21a) which is spaced from the plate (19) and from the upper side of the body and overlaps the plate in vertical projection. Material of the body is thus disposed above the flange (21 a) and also sandwiched between the flange and the plate so that a damping zone is present around the ring both above and below the flange.
摘要翻译：具有阻尼特性的装置支撑件（11）包括由柔性材料的主体（16）包封的刚性增强部件，特别是钢板（19），特别是颗粒矿物材料和合成粘合剂的复合材料。板（19）以与主体（16）的上侧隔开的间隔限定开口（19a），并且安装环（21）嵌入在主体中，以至少部分地设置在开口的上方。所述环（21）具有与所述板（19）和所述主体的上侧隔开的周向凸缘（21a），并且在垂直方向上与所述板重叠。因此，本体的材料设置在凸缘（21a）上方并且还夹在凸缘和板之间，使得在凸缘的上方和下方环周围存在阻尼区。

40. 发明申请

WO2008026759A1 DRAWING METHOD, DRAWING DEVICE, AND INFORMATION RECORDING MEDIUM 审中-公开
标题翻译：绘图方法，绘图装置和信息记录介质
公开(公告)号：WO2008026759A1
公开(公告)日：2008-03-06
申请号：PCT/JP2007/067112
申请日：2007-08-28
申请人： RICOH COMPANY, LTD. , CRESTEC CORPORATION , MIYAZAKI, Takeshi , MURAYAMA, Noboru
发明人： MIYAZAKI, Takeshi , MURAYAMA, Noboru
IPC分类号： G11B7/26 , G11B9/10 , G11B5/84 , G03F7/20 , H01J37/317
CPC分类号： G11B7/261 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G11B5/743 , G11B5/82 , G11B5/855 , G11B9/10 , H01J37/3174
摘要： In a drawing method and device, an electron beam is radiated to a surface of an object to draw a pattern along scan lines on the surface of the object. A pattern is drawn along the scan lines on the surface of the object by the electron beam through relative movement of the object relative to the electron beam. The electron beam is deflected at a speed that does not cause a pattern to be formed on the object surface, in one of a first direction intersecting the scan lines and a second direction opposite to the first direction, without performing blanking of the electron beam, so that a beam spot of the deflected electron beam is positioned to one of the scan lines on the object surface. The drawing step and the deflecting step are repeated alternately.
摘要翻译：在绘图方法和装置中，将电子束照射到物体的表面，以沿对象表面上的扫描线绘制图案。通过物体相对于电子束的相对运动，电子束沿着物体表面上的扫描线绘制图案。在不对电子束进行消隐的情况下，电子束以不会在扫描线相交的第一方向和与第一方向相反的第二方向的一个方向上不会在物体表面上形成图案的速度偏转，使得偏转的电子束的束斑位于物体表面上的扫描线之一上。交替地重复绘制步骤和偏转步骤。

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