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21. 发明申请

WO0197245A2 SECTORED MAGNETIC LENS AND METHOD OF USE 审中-公开
标题翻译：偏磁磁镜及其使用方法
公开(公告)号：WO0197245A2
公开(公告)日：2001-12-20
申请号：PCT/US0119381
申请日：2001-06-15
申请人： KLA TENCOR INC
发明人： NOTTE JOHN A
IPC分类号： G01N23/00 , H01J37/141 , H01J37/21 , H01J37/26 , H01J37/28 , H01J
CPC分类号： H01J37/21 , H01J37/141 , H01J37/265 , H01J37/28 , H01J2237/1405
摘要： A magnetic lens configured to apply a magnetic field to a charged particle beam (16) is provided. The magnetic lens includes an outer pole piece and an inner pole piece. The outer pole piece has at least two sectors (32) and at least two slots (36). The magnetic lens also has a primary coil winding interposed between the outer pole piece and the inner pole piece. In addition, the magnetic lens has a number of sector coil windings, and each sector of the outer pole piece may be coupled to one sector coil winding. A magnetic potential of the outer pole piece is generated by applying a current to the primary coil winding. A separate magnetic potential of each sector is generated by applying current to each sector of the outer pole piece.
摘要翻译：提供了构造成对带电粒子束（16）施加磁场的磁性透镜。磁性透镜包括外极片和内极片。外极片具有至少两个扇区（32）和至少两个槽（36）。磁性透镜还具有插入在外极片和内极片之间的初级线圈绕组。此外，磁性透镜具有多个扇形线圈绕组，并且外部极片的每个扇区可以耦合到一个扇区线圈绕组。通过向初级线圈绕组施加电流来产生外极片的磁电位。通过向外极片的每个扇区施加电流来产生每个扇区的单独磁势。

22. 发明申请

WO1985000075A1 WAFER HEIGHT CORRECTION SYSTEM FOR FOCUSED BEAM SYSTEM 审中-公开
标题翻译：聚焦光束系统的高度校正系统
公开(公告)号：WO1985000075A1
公开(公告)日：1985-01-03
申请号：PCT/US1984000772
申请日：1984-05-21
申请人： HUGHES AIRCRAFT COMPANY
发明人： HUGHES AIRCRAFT COMPANY , REEDS, John, W.
IPC分类号： H01J37/20
CPC分类号： H01L21/682 , H01J37/20 , H01J37/21
摘要： Base plate (32) of the wafer support is flexibly mounted with respect to the floor (34) of the target chamber. Flanges (54) and (58) flex by operation of motor (68) to adjust the position of the wafer support with respect to the focal point of the column.

23. 发明申请

WO2017193061A1 MINIATURE ELECTRON BEAM LENS ARRAY USE AS COMMON PLATFORM EBEAM WAFER METROLOGY, IMAGING AND MATERIAL ANALYSIS SYSTEM 审中-公开
标题翻译：微型电子束透镜阵列用作普通平台EBEAM WAFER计量，成像和材料分析系统
公开(公告)号：WO2017193061A1
公开(公告)日：2017-11-09
申请号：PCT/US2017/031391
申请日：2017-05-05
申请人： XU, Weiwei
发明人： XU, Weiwei
IPC分类号： H01J37/147 , G21K1/093 , H01J37/10 , H01J37/21 , H01J37/26
CPC分类号： H01J37/26 , H01J37/10 , H01J37/147 , H01J37/153 , H01J37/21
摘要： An apparatus includes at least one electron beam column, with an electron emitter source, a gun lens focusing electrons from the electron emitter source into an electron beam, and a final beam forming aperture. Each electron beam column includes one or more of a double Wein filter disposed along a trajectory of the electron beam between the gun lens and the final beam forming aperture, and a dispersion corrector disposed along a trajectory of the electron beam after the final beam forming aperture.
摘要翻译：一种装置包括至少一个电子束柱，其具有电子发射源，将来自电子发射源的电子聚焦成电子束的枪透镜，以及最终的束形成孔。每个电子束柱包括一个或多个双Wein滤波器，该双Wein滤波器沿着电子束在喷枪透镜和最终的波束形成孔之间的轨迹布置，以及色散校正器，沿着电子束的轨道布置，在最后的波束形成孔之后

24. 发明申请

WO2017120373A1 HEAT-SPREADABLE BLANKING SYSTEM FOR HIGH THROUGHPUT ELECTRON BEAM APPARATUS 审中-公开
标题翻译：高通量电子束装置的热扩散抛光系统
公开(公告)号：WO2017120373A1
公开(公告)日：2017-07-13
申请号：PCT/US2017/012386
申请日：2017-01-05
申请人： KLA-TENCOR CORPORATION
发明人： JIANG, Xinrong , SEARS, Christopher , LARSON, Doug
IPC分类号： H01L21/66 , G03F1/86 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/045 , H01J37/147 , H01J37/21 , H01J2237/0451 , H01J2237/0492 , H01J2237/1505 , H01J2237/24592
摘要： An electron beam apparatus addresses blanking issues resulting from sinking high-power heat onto an aperture diaphragm by evenly spreading heat on the aperture diaphragm. The apparatus can include an aperture diaphragm and a deflector that deflects the electron beam on the aperture diaphragm. The electron beam is directed at the aperture diaphragm in a pattern around the aperture. The pattern may be a circle, square, or polygon. The pattern also may include a variable locus relative to the aperture.
摘要翻译：电子束装置通过均匀散热孔径光阑来解决由于将高功率热量沉入孔径光阑而引起的消隐问题。该设备可以包括孔径光阑和将孔径光阑上的电子束偏转的偏转器。电子束以孔周围的图案指向孔径光阑。图案可以是圆形，方形或多边形。该模式也可能包含相对于孔径的可变轨迹。

25. 发明申请

WO2017053812A1 METHOD AND SYSTEM FOR FOCUS ADJUSTMENT A MULTI-BEAM SCANNING ELECTRON MICROSCOPY SYSTEM 审中-公开
标题翻译：聚焦扫描电子显微系统聚焦调整方法与系统
公开(公告)号：WO2017053812A1
公开(公告)日：2017-03-30
申请号：PCT/US2016/053466
申请日：2016-09-23
申请人： KLA-TENCOR CORPORATION
发明人： MCCORD, Mark A. , KNIPPELMEYER, Rainer , MASNAGHETTI, Douglas , SIMMONS, Richard R. , YOUNG, Scott A
IPC分类号： G02B21/20 , H01J37/317
CPC分类号： G02B21/20 , H01J37/21 , H01J37/28 , H01J2237/1205 , H01J2237/1532 , H01J2237/216 , H01J2237/221
摘要： A scanning electron microscopy system is disclosed. The system includes a multi-beam scanning electron microscopy (SEM) sub-system. The SEM sub-system includes a multi-beam electron source configured to form a plurality of electron beams, a sample stage configured to secure a sample, an electron-optical assembly to direct the electron beams onto a portion of the sample, and a detector assembly configured to simultaneously acquire multiple images of the surface of the sample. The system includes a controller configured to receive the images from the detector assembly, identify a best focus image of images by analyzing one or more image quality parameters of the images, and direct the multi-lens array to adjust a focus of one or more electron beams based on a focus of an electron beam corresponding with the identified best focus image.
摘要翻译：公开了一种扫描电子显微镜系统。该系统包括多光束扫描电子显微镜（SEM）子系统。 SEM子系统包括被配置为形成多个电子束的多光束电子源，被配置为固定样本的样品台，将电子束引导到样品的一部分上的电子 - 光学组件，以及检测器组件被配置为同时获取样品表面的多个图像。该系统包括被配置为从检测器组件接收图像的控制器，通过分析图像的一个或多个图像质量参数来识别图像的最佳聚焦图像，并且引导多透镜阵列调整一个或多个电子的焦点基于与所识别的最佳聚焦图像相对应的电子束的焦点的光束。

26. 发明申请

WO2016121225A1 荷電粒子線装置及び走査電子顕微鏡审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束装置和扫描电子显微镜
公开(公告)号：WO2016121225A1
公开(公告)日：2016-08-04
申请号：PCT/JP2015/084073
申请日：2015-12-03
申请人：松定プレシジョン株式会社
发明人：熊本　和哉 , 松田　定好
IPC分类号： H01J37/141 , H01J37/20 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/21 , H01J37/141 , H01J37/20 , H01J37/244 , H01J37/28
摘要：【課題】荷電粒子線装置の性能向上を図る。【解決手段】荷電粒子線装置は、荷電粒子源１１と、荷電粒子源１１から放出する荷電粒子線１２を加速するために設けられる、荷電粒子源１１に接続された加速電源１４と、荷電粒子線１２を試料２３に集束させる対物レンズ２６とを有する。対物レンズ２６は、試料２３に対して荷電粒子線１２が入射する側の反対側に設置され、対物レンズ２６を形成する磁極は、荷電粒子線１２の理想光軸と中心軸が一致した中心磁極２６ａと、上部磁極２６ｂと、筒形の側面磁極２６ｃと、円盤形状の下部磁極２６ｄとを有し、中心磁極２６ａの試料２３側に近い上部は、該上部ほど径が小さくなる形状であり、中心磁極２６ａの下部は円柱形状であり、上部磁極２６ｂは、中心に円形の開口部が形成された磁極であり、中心に向かいテーパ状に中心磁極の重心に近い側が薄くなる円盤形状である。
摘要翻译：为了实现带电粒子束装置的性能的提高， [解决方案]该带电粒子束装置设有：带电粒子源（11）; 连接到带电粒子源（11）的加速电源（14），其被设置为加速从带电粒子源（11）发射的带电粒子束（12）。以及将带电粒子束（12）聚焦在样本（23）上的物镜（26）。物镜（26）设置在样品（23）的与带电粒子束（12）入射的一侧相反的一侧。形成物镜（26）的磁极包括：中心磁极（26a），具有对应于带电粒子束（12）的理想光轴的中心轴线; 上磁极（26b）; 圆柱形侧面磁极（26c）; 和盘状下磁极（26d）。所述上部靠近样品（23）侧的中心磁极（26a）的上部具有朝向上部减小的直径的形状。中心磁极（26a）的下部是圆柱形的。上磁极26b具有形成在中心的圆形开口，并且具有圆盘状，其中靠近中心磁极的重心的一侧朝向中心呈锥形变小。

27. 发明申请

WO2015181981A1 電子顕微鏡による分析方法及び電子顕微鏡审中-公开
标题翻译：使用电子显微镜和电子显微镜的分析方法
公开(公告)号：WO2015181981A1
公开(公告)日：2015-12-03
申请号：PCT/JP2014/064530
申请日：2014-05-30
申请人：富士通株式会社
发明人：山▲崎▼　貴司
IPC分类号： H01J37/22 , H01J37/21
CPC分类号： H01J37/222 , H01J37/21 , H01J37/22 , H01J37/244 , H01J37/265 , H01J37/28 , H01J2237/1534 , H01J2237/223 , H01J2237/228 , H01J2237/2802
摘要：基板に成膜されている膜の原子的なずれや歪みを明確に検出する。環状暗視野像（ＡＤＦ－ＳＴＥＭ像）を検出する第１の検出器と、中角度領域明視野像（ＭＡＢＦ－ＳＴＥＭ像）を検出する第２の検出器とを有する電子顕微鏡による分析方法において、試料はフッ素又はフッ素よりも軽い元素を含む基板の表面に膜が形成されたものであり、焦点位置が前記膜の場合の環状暗視野像及び中角度領域明視野像を取得し、焦点位置が前記基板の場合の環状暗視野像及び中角度領域明視野像を取得し、前記２枚の中角度領域明視野像に基づき前記２枚の環状暗視野像の位置合わせを行い、前記２枚の環状暗視野像の差分像を取得する。
摘要翻译：本发明清楚地检测在基板上形成的膜的原子移动和变形。一种使用电子显微镜的分析方法，该电子显微镜具有检测环形暗场图像的第一检测器（ADF-STEM图像）和检测中角亮场图像（MABF-STEM图像）的第二检测器，其中：样品是膜形成在包含氟或比氟更轻的元素的基板的表面上; 获取其中焦点位置是胶片的环形暗视场图像和中角亮视场图像; 获取焦点位置是基板的环形暗场图像和中角亮场图像; 两个环形暗场图像基于两个中角亮场图像定位; 并且获取两个环形暗场图像的差分图像。

28. 发明申请

WO2014061738A1 荷電粒子線装置内の異物除去方法、及び荷電粒子線装置审中-公开
标题翻译：用于去除带电粒子束装置中的外来物质的方法和带电粒子束装置
公开(公告)号：WO2014061738A1
公开(公告)日：2014-04-24
申请号：PCT/JP2013/078186
申请日：2013-10-17
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：谷井　和真 , 葛西　祐二 , ▲高▼橋　正和 , 川野　源
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/141
CPC分类号： H01J37/141 , H01J37/21 , H01J37/28 , H01J2237/022 , H01J2237/028 , H01J2237/14 , H01J2237/2817
摘要：　対物レンズに通常使用する時以上の磁界、対物レンズ周辺に配置した電極に通常使用する時以上の電界をかけることで、試料室内に存在する異物を対物レンズと対物レンズ周辺に配置した電極に付着もしくは周辺に引き寄せる。光軸中心を電圧印加が可能な専用の台の真上に来るようにステージ移動し、対物レンズの磁界をOffにしてから、対物レンズ周辺に配置した電極とステージ周辺に配置した電極間の電位差を周期的に最大と最小にすることで電圧印加可能な専用の台に強制的に落下させる。
摘要翻译：存在于样品室中的异物通过施加比通常用于物镜时更高的磁场并且施加比正常使用时更高的电场而附接到或靠近物镜和靠近物镜设置的电极到靠近物镜设置的电极。移动台，使得光轴的中心位于能够施加电压的专用支架的正上方，物镜的磁场被关闭，然后将靠近物镜的电极之间的电位差和靠近台架设置的电极被周期性地最大化并最小化，从而强制将异物掉入能够施加电压的专用支架上。

29. 发明申请

WO2014030144A2 METHOD OF OPERATIONAL CONTROL OF ELECTRON BEAM WELDING 审中-公开
标题翻译：电子束焊接操作方法
公开(公告)号：WO2014030144A2
公开(公告)日：2014-02-27
申请号：PCT/IB2013056836
申请日：2013-08-23
申请人： FED STATE BUDGETED EDUCATION INSTITUTION FOR HIGHER PROFESSIONAL EDUCATION PERM NAT RES POLYTECHNIC
发明人： TRUSHNIKOV DMITRIY NIKOLAYEVICH , BELENKII VLADIMIR YAKOVLEVICH
CPC分类号： B23K15/0013 , B23K15/002 , B23K15/0046 , H01J37/21 , H01J37/315 , H01J2237/213 , H01J2237/216 , H01J2237/30472
摘要： The invention relates to the field of electron beam welding and may be used when electron-beam welding structural mate- rials with control and management of the power density of the electron beam directly within the welding process. The method of electron beam welding with operational control of the power density and focus level of the electron beam is differentiated by the fact that it contains stages in which: the electron beam welding is performed with a sinusoidally or linearly oscillating electron beam in the frequency range from 300 to 2,000 Hz; during the welding process, the waveform of the secondary current in the plasma is measured, filtered, and rectified; the filtered-and- rectified or original waveform of the secondary current in the plasma is processed using the synchronous integration method; the magnitude of the delay function, which results from processing the secondary waveform using the synchronous integration method, is measured relative to the wave- form of the current in the deflection coils; the focusing current is controlled while holding the value of the delay function mentioned above at a constant level which corresponds to a specified magnitude of the power density of the electron beam.
摘要翻译：本发明涉及电子束焊接领域，并且可以在电子束焊接结构材料中直接在焊接过程中控制和管理电子束的功率密度的情况下使用。通过电子束焊接的功率密度和聚焦水平的操作控制的方法被电子束区分，其中包括以下事实，其中：电子束焊接在频率范围内以正弦或线性振荡的电子束进行从300到2000Hz; 在焊接过程中，对等离子体中的次级电流的波形进行测量，滤波和整流; 使用同步积分方法处理等离子体中次级电流的滤波和整流或原始波形; 相对于偏转线圈中的电流波形来测量由使用同步积分方法处理次级波形产生的延迟函数的幅度; 控制聚焦电流，同时将上述延迟函数的值保持在与电子束的功率密度的规定大小对应的恒定电平。

30. 发明申请

WO2013103090A1 荷電粒子線装置および傾斜観察画像表示方法审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束装置和内置观察图像显示方法
公开(公告)号：WO2013103090A1
公开(公告)日：2013-07-11
申请号：PCT/JP2012/083043
申请日：2012-12-20
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：小竹　航 , 川俣　茂 , 伊東　祐博
IPC分类号： H01J37/147 , H01J37/21 , H01J37/22 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/24 , H01J37/1478 , H01J37/21 , H01J37/261 , H01J37/28 , H01J2237/2611
摘要：　本発明の荷電粒子線装置（１００）の制御装置（５０）は、一次電子線（４）を、試料（１５）の表面を走査線１ライン分走査させるたびに、傾斜コイル（１１，１２）を介して一次電子線（４）の照射軸を左傾斜、無傾斜または右傾斜させる。そして、その照射軸を変更したときには、焦点調整コイル（１４）を介して一次電子線（４）の焦点位置を照射軸の傾斜状態に応じて調整して、走査線１ライン分の試料（１５）の表面の左傾斜観察画像、無傾斜観察画像または右傾斜観察画像を取得し、そのときまでに取得した走査線についての左傾斜観察画像と無傾斜観察画像と右傾斜観察画像とを同じ表示装置（３１）に同時に表示する。これにより、焦点の合った無傾斜観察画像と焦点の合った傾斜観察画像とをほぼ同時に取得してほぼ同時に表示することが可能となった。
摘要翻译：用于带电粒子束装置（100）的控制装置（50）每次通过倾斜线圈（11,12）将一次电子束（4）的照明轴向左，向右或向右倾斜，光束（4）通过单个扫描线扫描样品（15）的表面。当照明轴改变时，基于照明轴的倾斜度，通过焦点调节线圈（14）调节一次电子束（4）的焦点，以获取左倾角观察图像，每个扫描线的样品（15）的表面的非倾斜观察图像或右倾角观察图像。直到此时获得的扫描线的左倾角观察图像，非倾斜观察图像和右倾角观察图像同时显示在同一显示装置（31）上。以这种方式，可以同时采集和显示聚焦的非倾斜观察图像和聚焦倾斜观察图像。

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