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21. 发明申请

WO2014128025A1 ILLUMINATION SYSTEM FOR AN EUV LITHOGRAPHY DEVICE AND FACET MIRROR THEREFOR 审中-公开
标题翻译：用于EUV光刻设备和其表面镜的照明系统
公开(公告)号：WO2014128025A1
公开(公告)日：2014-08-28
申请号：PCT/EP2014/052639
申请日：2014-02-11
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： RUOFF, Johannes , SAENGER, Ingo , ZIMMERMANN, Joerg , KRAEHMER, Daniel , HENNERKES, Christoph , SCHLESENER, Frank
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/09 , G02B26/08 , G02B27/00
CPC分类号： G03F7/70158 , G02B26/0833 , G02B27/0905 , G02B27/0933 , G02B27/0977 , G03F7/70075 , G03F7/70091 , G03F7/70108 , G03F7/70116 , G03F7/7015 , G03F7/702 , G03F7/70316
摘要： The invention relates to an illumination system (10) for an EUV lithography device (1 ), comprising: a first facet mirror (13) having facet elements (13a-d) that reflect EUV radiation (4), and a second facet mirror (14) having facet elements (14a-d) for reflecting the EUV radiation (4) reflected by the first facet mirror (13) onto an illumination field. At least one of the facet elements (13a-d; 14a,c; 14b,d) of the first facet mirror (13) or of the second facet mirror (14) is designed as a diffractive optical element for diffracting the EUV radiation (4). In particular, at least one of the facet elements (14a,c; 14b,d) of the second facet mirror (14) is designed as a diffractive optical element (14a,c; 14b,d) for illuminating only a part of the illumination field. The invention also relates to an EUV lithography device (1 ) comprising such an illumination system (10), and to a facet mirror (13, 14) comprising at least one diffractive facet element (13a-d, 14a-d).
摘要翻译：本发明涉及一种用于EUV光刻设备（1）的照明系统（10），包括：具有反射EUV辐射（4）的小面元件（13a-d）的第一小面镜（13）和第二小面镜 14）具有用于将由第一小平面镜（13）反射的EUV辐射（4）反射到照明场上的小面元件（14a-d）。第一小平面镜（13）或第二面反射镜（14）的小面元件（13a-d; 14a，c; 14b，d）中的至少一个被设计为衍射光学元件，用于衍射EUV辐射 4）。特别地，第二分面反射镜（14）的小面元件（14a，c; 14b，d）中的至少一个被设计为衍射光学元件（14a，c; 14b，d），仅用于照射照明场。本发明还涉及包括这种照明系统（10）和包括至少一个衍射小面元件（13a-d，14a-d）的小平面镜（13,14）的EUV光刻设备（1）。

22. 发明申请

WO2014067812A1 EUV LIGHT SOURCE FOR GENERATING A USABLE OUTPUT BEAM FOR A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：用于生成投影曝光装置的可用输出光束的EUV光源
公开(公告)号：WO2014067812A1
公开(公告)日：2014-05-08
申请号：PCT/EP2013/072043
申请日：2013-10-22
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： SÄNGER, Ingo , MAUL, Manfred , HENNERKES, Christoph , RUOFF, Johannes , KRÄHMER, Daniel
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/28 , G21K1/06 , H05H7/04
CPC分类号： H05G2/001 , G02B27/286 , G03F7/70033 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70308 , G03F7/70566 , G21K1/06 , G21K1/062 , G21K1/16 , H01J35/00 , H05H7/04
摘要： An EUV light source (2) serves for generating a usable output beam (3) of EUV illumination light for a projection exposure apparatus (1) for projection lithography. The light source (2) has an EUV generation device (2c) which generates an EUV raw output beam. The latter is circularly polarized. For the purposes of setting the polarization of the usable output beam (3) and in respect of the polarization direction, a polarization setting device (32; 39) has a linearly polarizing effect on the raw output beam. This results in an EUV light source, which provides an improved output beam for a resolution-optimized illumination.
摘要翻译： EUV光源（2）用于产生用于投影光刻的投影曝光装置（1）的EUV照明光的可用输出光束（3）。光源（2）具有产生EUV原始输出光束的EUV生成装置（2c）。后者是圆极化的。为了设定可使用的输出光束（3）的极化和偏振方向的偏振，偏光设定装置（32; 39）对原始输出光束具有线性偏振效果。这导致EUV光源，其提供用于分辨率优化照明的改进的输出光束。

23. 发明申请

WO2013053692A1 COLLECTOR 审中-公开
标题翻译：集电极
公开(公告)号：WO2013053692A1
公开(公告)日：2013-04-18
申请号：PCT/EP2012/069939
申请日：2012-10-09
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： SÄNGER, Ingo , ZIMMERMANN, Jörg , KRÄHMER, Daniel , RUOFF, Johannes , MEIER, Martin , SCHLESENER, Frank , HENNERKES, Christoph , SINGER, Wolfgang
IPC分类号： G02B5/09 , G03F7/70 , G21K1/06 , G21K1/16
CPC分类号： G03F7/702 , B82Y10/00 , G02B19/0023 , G02B19/0047 , G02B19/0071 , G02B19/0095 , G02B27/286 , G03F7/70166 , G03F7/70175 , G03F7/70566 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064 , G21K2201/067
摘要： A collector (15) for a projection exposure apparatus (1) for micro-lithography comprises a plurality of reflective sections (24) which are embodied and arranged in such a way that they can be impinged upon during the focusing of radiation (14) from a first focus (26) into a second focus (27) with angles (f) of impingement in a predefined angular spectrum.
摘要翻译：用于微光刻的投影曝光设备（1）的收集器（15）包括多个反射部分（24），其被实施和布置成使得它们可以在辐射（14）的聚焦过程中被撞击第一焦点（26）进入具有预定角度光谱中的冲击角度（f）的第二焦点（27）。

24. 发明申请

WO2023072557A1 METHOD TO ACQUIRE A 3D IMAGE OF A SAMPLE STRUCTURE 审中-公开
公开(公告)号：WO2023072557A1
公开(公告)日：2023-05-04
申请号：PCT/EP2022/077969
申请日：2022-10-07
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , CARL ZEISS X-RAY MICROSCOPY INC.
发明人： PICHUMANI, Ramani , GRAF VOM HAGEN, Christoph Hilmar , NEUMANN, Jens Timo , RUOFF, Johannes , GREGORICH, Thomas Matthew
IPC分类号： G01N23/046 , G06T11/00
摘要： In a method to acquire a 3D image of a sample structure initially a first raw 2D set of 2D images of a sample structure is acquired at a limited number of raw sample planes. From this first raw 2D set a 3D image of the sample structure being represented by a 3D volumetric image data set is calculated and a measurement parameter is extracted from the 3D volumetric image data set. Such measurement parameter is assigned to the number of 2D image acquisitions recorded during the acquisition step. Then, a further interleaving 2D set of 2D images of the sample structure is required by recording a further number of interleaving 2D image acquisitions at a further number of interleaved sample planes which do not coincide with the previous acquisition sample planes. The steps "calculating," "extracting" and "assigning" are repeated for the further interleaving 2D set. The actual and the last extracted measurement parameters are compared to check whether a convergence criterion is met. If not, the steps "acquiring," "calculating," "extracting," "assigning" and "comparing" are repeated for a further interleaving 2D set including a further number of interleaving 2D image acquisitions at a further number of interleaved sample planes which do not coincide with the previous acquisition sample planes. This is done until the convergence criterion is met or until a given maximum number of 2D image acquisitions is recorded. The measurement parameter and a total number of recorded 2D image acquisitions are output. A projection system used for such method comprises a projection light source, a rotatable sample structure holder and a spatially resolving detector. Alternatively or in addition, such method can be used by a data processing system to acquire virtual tomographic images of a sample. With such method, a sample throughput is improved.

25. 发明申请

WO2019215110A1 OPTICAL SYSTEM FOR TRANSFERRING ORIGINAL STRUCTURE PORTIONS OF A LITHOGRAPHY MASK, PROJECTION OPTICAL UNIT FOR IMAGING AN OBJECT FIELD IN WHICH AT LEAST ONE ORIGINAL STRUCTURE PORTION OF THE LITHOGRAPHY MASK IS ARRANGEABLE, AND LITHOGRAPHY MASK 审中-公开
公开(公告)号：WO2019215110A1
公开(公告)日：2019-11-14
申请号：PCT/EP2019/061603
申请日：2019-05-07
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： PATRA, Michael , RUOFF, Johannes
IPC分类号： G03F7/20 , G02B13/08 , G03F1/24 , G03F1/22
摘要： An optical system serves to transfer the original structure portions (13) of a lithography mask (10). The original structure portions (13), which have an x/y-aspect ratio of greater than 4:1, are arranged in a line next to one another on the lithography mask (10) and separated from one another by separating portions (14) that do not carry any structures to be imaged. The optical system transfers the original structure portions (13) onto image portions (31) of a substrate (26) with the aid of imaging an object field, in which at least one of the original structure portions (13) of the lithography mask (10) is arrangeable, into an image field, in which at least one of the image portions (31) of the substrate (26) is arrangeable. Each of the original structure portions (13) is transferred to a separate image portion (31). The image portions (31) onto which the original structure portions (13) are transferred are arranged in a line next to one another. A projection optical unit that is employable in such an optical system may have such an anamorphic embodiment with different imaging scales for two mutually perpendicular field coordinates that one of the imaging scales is reducing for one of the field coordinates and the other one of the imaging scales is magnifying for the other field coordinates. This results in an optical system in which there is an increase in a throughput of a projection exposure apparatus in which such an optical system is used.

26. 发明申请

WO2014040866A3 MIRROR 审中-公开
公开(公告)号：WO2014040866A3
公开(公告)日：2014-03-20
申请号：PCT/EP2013/067965
申请日：2013-08-30
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： SÄNGER, Ingo , RUOFF, Johannes , ENDRES, Martin , EISENMANN, Thomas
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Mirror having a fragmented total surface area, wherein the fragmentation forms an aperiodic arrangement.

27. 发明申请

WO2009036941A2 BINÄR GEBLAZETES DIFFRAKTIVES OPTISCHES ELEMENT 审中-公开
标题翻译：二元流体不同的光学元件
公开(公告)号：WO2009036941A2
公开(公告)日：2009-03-26
申请号：PCT/EP2008/007661
申请日：2008-09-16
申请人： CARL ZEISS AG , ARNOLD, Ralf , KLEEMANN, Bernd , RUOFF, Johannes
发明人： ARNOLD, Ralf , KLEEMANN, Bernd , RUOFF, Johannes
IPC分类号： G02B5/18
CPC分类号： G02B5/1819 , G02B5/1833 , G02B5/189
摘要： Ein binär geblazetes diffraktives optisches Element (10) weist eine Vielzahl von Beugungsstrukturen (16) auf, die sich im Wesentlichen parallel zueinander erstrecken und senkrecht zu ihrer Erstreckungsrichtung eine Breite g aufweisen, die größer als die effektive Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung ist, für welche das diffraktive optische Element (10) optimiert ist. Die Beugungsstrukturen (16) umfassen jeweils eine Reihe von Einzel-Substrukturen (18), die in der Draufsicht die Form einer geschlossenen geometrischen Fläche besitzen, deren parallel zur Erstreckung der Beugungsstrukturen (16) gerichtete Abmessung in Richtung senkecht zur Erstreckungsrichtung der Beugungsstrukturen (16) variiert und deren senkrecht zur Erstreckung der Beugungsstrukturen (16) gerichtete Abmessung größer als die effektive Wellenlänge ist. Erfindungsgeimäß tragen die Einzel-Substrukturen (18) formdoppelbrechende Strukturen (26), wodurch die Polarisationsabhängigkeit der Beugungseffizienz des diffraktiven optischen Elements (10) verringert wird.
摘要翻译：
仓BEAR闪耀衍射光学元件（10）具有多个衍射结构（16），其大致平行具有延伸到彼此和g垂直于它们延伸的方向的宽度GR＆ouml;大街它被认为是衍射光学元件（10）被优化的电磁辐射的有效波长。衍射结构（16），每个包括多个在平面图中个别子结构（18）的观看闭合几何FL BEAR的形状有枝，其平行于延伸的衍射结构（16）的方向引导的尺寸senkecht到衍射结构的延伸方向（ 16）并且其垂直于衍射结构（16）的延伸方向的尺寸大于有效波长。 Erfindungsgeim＆AUML;大街上是各个子结构（18）的形式双折射结构（26），由此所述偏振BEAR。降低衍射光学元件的衍射效率的关系（10）

28. 发明申请

WO2008110501A1 PROJEKTIONSOBJEKTIV EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：投影镜头的微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2008110501A1
公开(公告)日：2008-09-18
申请号：PCT/EP2008/052736
申请日：2008-03-06
申请人： CARL ZEISS SMT AG , RUOFF, Johannes , DODOC, Aurelian
发明人： RUOFF, Johannes , DODOC, Aurelian
IPC分类号： G03F7/20 , G02B13/14 , G02B17/08
CPC分类号： G03F7/70341 , G02B17/0804 , G02B17/0812 , G02B17/0892 , G03F7/70966
摘要： Die Erfindung betrifft ein Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage zur Abbildung einer in einer Objektebene positionierbaren Maske auf eine in einer Bildebene positionierbare lichtempfindliche Schicht, welches eine optische Achse (OA) aufweist, mit wenigstens einer Linse (143, 345) aus einem kubisch kristallinen Material, deren [110]-Kristallorientierung in einem Winkel von maximal 15° zur optischen Achse (OA) orientiert ist, und wenigstens einem Polarisationskorrekturelement, welches wenigstens zwei Teilelemente aus doppelbrechendem Material und mit jeweils wenigstens einer asphärischen Oberfläche aufweist, wobei das Polarisationskorrekturelement eine intrinsische Doppelbrechung der besagten wenigstens einen Linse (143, 345) zumindest teilweise kompensiert.
摘要翻译：本发明涉及微光刻投射曝光设备的投射物镜用于具有光轴（OA）的光敏层的图像平面上的定位在物平面掩模成像可定位的，具有至少一个透镜（143，345）制成的立方晶体材料构成，则 [110]晶体取向在至多15°的光轴（OA）的角度定向，并且具有至少一个非球面表面，其中，所述偏光状态调整元件是所述的固有双折射具有双折射材料中的至少两个子元件和至少一个偏振校正元件每的至少一个透镜（143，345）至少部分地被补偿。

29. 发明申请

WO2007019886A1 OPTISCHES SYSTEM, NÄMLICH OBJEKTIV ODER BELEUCHTUNGSEINRICHTUNG EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：光学系统中，透镜或照明UP的微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2007019886A1
公开(公告)日：2007-02-22
申请号：PCT/EP2005/055888
申请日：2005-11-10
申请人： CARL ZEISS AG , CARL ZEISS SMT AG , KRÄHMER, Daniel , TOTZECK, Michael , KLEEMANN, Bernd , RUOFF, Johannes
发明人： KRÄHMER, Daniel , TOTZECK, Michael , KLEEMANN, Bernd , RUOFF, Johannes
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70566 , G03F7/70158
摘要： Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungseinrichtung oder ein Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit wenigstens einem diffraktiven optischen Element, das zur Erzielung einer Blazewirkung eine Mehrzahl von Blazestrukturen aufweist, welche jeweils mehrere für eine Blazewirkung sorgende Einzel- Substrukturen umfassen, die gemäß einer vorbestimmten Periode in Erstreckungsrichtung der jeweiligen Blazestruktur nebeneinander angeordnet sind, wobei diese Einzel- Substrukturen in Draufsicht jeweils die Form einer geschlossenen geometrischen Fläche besitzen, deren parallel zur Erstreckungsrichtung gerichtete Abmessung senkrecht zur Erstreckungsrichtung variiert, aber immer kleiner als die Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung ist, und deren maximale Abmessung senkrecht zur Erstreckungsrichtung größer ist als die Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung, wobei das Füllverhältnis der Einzel-Substrukturen in Erstreckungsrichtung zur Periode in Abhängigkeit von der Position senkrecht zur Erstreckungsrichtung so gewählt ist, dass für einen von zwei zueinander orthogonalen Polarisationszuständen der elektromagnetischen Strahlung die Blazewirkung optimiert ist.
摘要翻译：本发明涉及的照明装置或微光刻投射曝光设备的投射物镜，其具有具有多个火焰结构中的至少一个衍射光学元件来实现火焰的效果，每一个包括多个关心的闪耀效果个体子结构，其根据在延伸方向以预定的周期各自闪耀结构并列设置，在每个所述在封闭的几何表面的形式平面图单自己的子结构，定向平行于延伸方向的尺寸变化垂直于延伸方向，但总是小于所述电磁辐射的波长，且垂直于它们的最大尺寸延伸方向比所述电磁辐射的波长，在延伸方向上P上的各个子结构，其中，所述填充率大于 eriode一个功能由位置垂直于延伸方向，使得对于电磁辐射的两个相互正交的偏振状态中的一个闪耀效果被最优化选择。

30. 发明申请

WO2006021540A3 OPTISCHES SYSTEM, NÄMLICH OBJEKTIV ODER BELEUCHTUNGSEINRICHTUNG EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
公开(公告)号：WO2006021540A3
公开(公告)日：2006-03-02
申请号：PCT/EP2005/054070
申请日：2005-08-18
申请人： CARL ZEISS AG , CARL ZEISS SMT AG , KRÄHMER, Daniel , TOTZECK, Michael , KLEEMANN, Bernd , RUOFF, Johannes
发明人： KRÄHMER, Daniel , TOTZECK, Michael , KLEEMANN, Bernd , RUOFF, Johannes
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/18 , G02B27/00 , G02B27/44
摘要： Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungseinrichtung oder ein Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit wenigstens einem diffraktiven optischen Element, das zur Erzielung einer Blazewirkung eine Mehrzahl von Blazestrukturen aufweist, welche jeweils mehrere für eine Blazewirkung sorgende Einzel- Substrukturen umfassen, die gemäß einer vorbestimmten Periode in Erstreckungsrichtung der jeweiligen Blazestruktur nebeneinander angeordnet sind, wobei diese Einzel- Substrukturen in Draufsicht jeweils die Form einer geschlossenen geometrischen Fläche besitzen, deren parallel zur Erstreckungsrichtung gerichtete Abmessung senkrecht zur Erstreckungsrichtung variiert, aber immer kleiner als die Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung ist, und deren maximale Abmessung senkrecht zur Erstreckungsrichtung größer ist als die Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung.

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