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11. 发明申请

WO2008035965A3 APPARATUS COMPRISING A ROTATING CONTAMINANT TRAP 审中-公开
标题翻译：包含旋转污染物捕获装置的装置
公开(公告)号：WO2008035965A3
公开(公告)日：2008-05-29
申请号：PCT/NL2007050451
申请日：2007-09-17
申请人： ASML NETHERLANDS BV , FRANKEN JOHANNES CHRISTIAAN LE , BANINE VADIM YEVGENYEVICH , WASSINK ARNOUD CORNELIS
发明人： FRANKEN JOHANNES CHRISTIAAN LE , BANINE VADIM YEVGENYEVICH , WASSINK ARNOUD CORNELIS
IPC分类号： G03F7/20 , F16C32/06
CPC分类号： G03F7/70916 , B82Y10/00 , F16C32/0603 , F16C32/0685 , F16C33/02 , F16C33/72 , F16C2300/62 , G03F7/70033 , G03F7/70941
摘要： A contaminant trap apparatus (10) arranged in a path (R) of a radiation beam to trap contaminants emanating from a radiation source (50) configured to produce the radiation beam is disclosed. The contaminant trap (10) apparatus includes a rotor (10) having a plurality of channel forming elements (11) defining channels (ch) which are arranged substantially parallel to the direction of propagation of the radiation beam, the rotor (10) including electrically chargeable material and arranged to be electrically charged as a result of the operation of the radiation source (50); and a bearing (20) configured to rotatably hold the rotor (10) with respect to a rotor carrying structure (30), wherein the apparatus is configured to (i) control or redirect an electrical discharge (10) of the rotor (ED), or (ii) suppress an electrical discharge (ED) of the rotor (10), or (iii) both,(i) and (ii).
摘要翻译：公开了布置在辐射束的路径（R）中的污染捕集装置（10），以捕获从被配置成产生辐射束的辐射源（50）发出的污染物。污染物捕集器（10）装置包括具有多个通道形成元件（11）的转子（10），所述多个通道形成元件（11）限定了基本上平行于辐射束的传播方向布置的通道（ch），转子（10）包括电可充电材料并且被布置成由于辐射源（50）的操作而被带电; 以及轴承（20），其构造成相对于转子承载结构（30）可旋转地保持所述转子（10），其中所述装置被配置为（i）控制或重定向所述转子（ED）的放电（10），或（ii）抑制转子（10）的放电（ED），或（iii）（i）和（ii）两者。

12. 发明申请

WO2006124707A3 APPARATUS AND METHOD FOR IN SITU AND EX SITU MEASUREMENTS OF OPTICAL SYSTEM FLARE 审中-公开
标题翻译：用于光系统的现场和现场测量的装置和方法
公开(公告)号：WO2006124707A3
公开(公告)日：2008-01-17
申请号：PCT/US2006018606
申请日：2006-05-15
申请人： ZETETIC INST , HILL HENRY A
发明人： HILL HENRY A
IPC分类号： G01B9/02
CPC分类号： G03F7/706 , G01J2009/0223 , G03F7/70591 , G03F7/7085 , G03F7/70941
摘要： Apparatus and methods for in situ and ex situ measurements of spatial profiles of the modulus of the complex amplitude and intensity of flare generated by an optical system. Thein situ and ex situ measurements comprise interferometric and non-interferometric measurements that use an array of diffraction sites simultaneously located in an object plane of the optical system to increase signals related to measured properties of flare in a conjugate image plane. The diffraction sites generate diffracted beams with randomized relative phases. In general, the interferometric profile measurements employ phase-shifting point-diffraction interferometry to generate a topographical interference signal and the non-interferometric measurements are based on flare related signals other than topographic interference signals. The topographical interference signal and flare related signals are generated by a detector either as an electrical interference signal or electrical flare related signals or as corresponding exposure induced changes in a recording medium.
摘要翻译：用于原位和非原位测量由光学系统产生的光斑的复振幅和强度的模量的空间分布的装置和方法。原位和非原位测量包括使用同时位于光学系统的物平面中的衍射位置阵列的干涉测量和非干涉测量，以增加与共轭图像平面中的测光特性相关的信号。衍射点产生具有随机相对相位的衍射光束。通常，干涉测量轮廓测量采用相移点衍射干涉测量法来产生地形干涉信号，并且非干涉测量基于与地形干扰信号不同的闪光相关信号。地形干扰信号和火炬相关信号由检测器产生，作为电干扰信号或电眩光相关信号，或作为记录介质中相应的曝光引起的变化。

13. 发明申请

WO2005106594A2 DEVICE AND METHOD FOR DETERMINING AN ILLUMINATION INTENSITY PROFILE OF AN ILLUMINATOR FOR A LITHOGRAPHY SYSTEM 审中-公开
标题翻译：用于确定照相系统的照明器的照度强度曲线的装置和方法
公开(公告)号：WO2005106594A2
公开(公告)日：2005-11-10
申请号：PCT/US2005/013527
申请日：2005-04-20
申请人： ADVANCED MICRO DEVICES, INC. , SPENCE, Christopher, A. , LUKANC, Todd, P. , CAPODIECI, Luigi , REISS, Joerg , MCGOWAN, Sarah, N.
发明人： SPENCE, Christopher, A. , LUKANC, Todd, P. , CAPODIECI, Luigi , REISS, Joerg , MCGOWAN, Sarah, N.
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70133 , G03F7/70441 , G03F7/70666 , G03F7/70941
摘要： A system (30) and method for generating an illumination intensity profile of an illuminator (14) that forms part of a projection lightography system (10). Radiation from the illuminator is projected towards an illumination profile mask (32) having a plurality of apertures (34) such that each aperture passes a distinct portion of the radiation. The intensity of each of the distinct portions of radiation is detected and assembled to form the illumination intensity profile.
摘要翻译：一种用于产生形成投影照相系统（10）的一部分的照明器（14）的照明强度分布的系统（30）和方法。来自照明器的辐射朝向具有多个孔（34）的照明轮廓掩模（32）投影，使得每个孔通过辐射的不同部分。检测并组装每个不同部分的辐射的强度以形成照射强度分布。

14. 发明申请

WO2004104700A1 パターン寸法補正装置及び方法、フォトマスク及び試験用フォトマスク审中-公开
标题翻译：图案尺寸校正装置和方法，照片掩模和测试照片掩模
公开(公告)号：WO2004104700A1
公开(公告)日：2004-12-02
申请号：PCT/JP2004/007173
申请日：2004-05-26
申请人：富士通株式会社 , 大澤森美 , 八尾輝芳 , 有本宏 , 浅井了
发明人：大澤森美 , 八尾輝芳 , 有本宏 , 浅井了
IPC分类号： G03F1/08
CPC分类号： G03F7/70941 , G03F1/44 , G03F1/70 , G03F7/70591 , G03F7/70625
摘要：　試験用フォトマスク（１１）を用いて転写された各評価用パターンの各転写パターンの幅値を、フレア発生パターンの開口率との関係に基づいて第１の算出手段（１２）でそれぞれ算出し、算出された各転写パターンの幅値の分布を第２の算出手段（１３）で線形近似して、その傾きを算出する。さらに、各転写パターンの幅値の傾き（寸法変動量）を定義したテーブルに基づいて、補正手段（１４）でパターンごとに補正量を変えるようにする。これにより、ローカルフレアによる寸法変動量をより正確に算出することができ、ローカルフレアに対するパターン寸法補正を高精度に行うことができる。
摘要翻译：根据与闪光发生图案的数值孔径的关系，由第一计算装置（12）计算通过使用测试光掩模（11）传送的每个评估图案的每个传送图案宽度值。计算出的每个传送图案的宽度值的分布由第二计算装置（13）线性近似，并且计算其倾斜度。此外，根据限定每个传送图案的宽度值（尺寸变动量）的倾斜度的表格，通过校正装置（14）对每个图案改变校正量。因此，可以精确地计算由局部耀斑引起的尺寸变化量，并且以高精度执行局部耀斑的图案尺寸校正。

15. 发明申请

WO2004051206A1 VORRICHTUNG ZUR OPTISCHEN VERMESSUNG EINES ABBILDUNGSSYSTEMS 审中-公开
标题翻译：设备中，用于图像系统的光学测量
公开(公告)号：WO2004051206A1
公开(公告)日：2004-06-17
申请号：PCT/EP2003/012207
申请日：2003-11-03
申请人： CARL ZEISS SMT AG , WEGMANN, Ulrich
发明人： WEGMANN, Ulrich
IPC分类号： G01J9/02
CPC分类号： G01M11/0264 , G01J9/0215 , G01M11/0271 , G03F7/70591 , G03F7/706 , G03F7/70941
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zur optischen Vermessung eines Abbildungssystems, z.B. durch Wellenfronterfassung mittels Shearinginterferometrie, mit einer objektseitig vor dem Abbildungssystem anzuordnenden Objektstruktur, einer bildseitig nach dem Abbildungssystem anzuordnenden Bildstruktur und einerletzterer nachgeschalteten Detektor- und Auswerteeinheit zur Detektion einer Überlagerungsstruktur aus abgebildeter Objektstruktur und Bildstruktur und Auswertung derselben. Gemäß der Erfindung beinhaltet die Bildstruktur und/oder die Objektstruktur ein periodisches Mehrfrequenzmuster, das in wenigstens einer Richtung mindestens zwei unterschiedliche Periodizitätslängen aufweist und/oder wenigstens ein zweidimensionales Hauptmuster mit periodisch angeordneten Strukturfeldern und mindestens ein Submuster umfasst, das in Strukturfeldern des Hauptmusters gebildet ist. Verwendung z.B. zur hochgenauen ortsaufgelösten Vermessung von Projektionsobjektiven in Mikrolithografieanlagen zur Halbleiterbauelementstrukturierung.
摘要翻译：本发明涉及一种用于成像系统的光学测量，例如通过波前传感装置Shearinginterferometrie，与对象侧被布置在成像系统的对象结构的前面，像侧由成像系统的图像结构和用于检测成像的相同的对象结构以及图像结构，并且评价的叠加结构的后者的下游检测器和评估单元被布置。根据本发明，图像结构和/或物体结构包括具有至少一个方向周期性多频图案的至少两个不同的周期性和/或至少与周期性排列的结构域和至少一个子图案包括，形成在所述主图案的结构域的二维主图案。例如使用高度精确的空间分辨的投影透镜测量微光刻设备的半导体器件结构。

16. 发明申请

WO2016096333A1 A LITHOGRAPHY MODEL FOR 3D FEATURES 审中-公开
标题翻译： 3D特征的算术模型
公开(公告)号：WO2016096333A1
公开(公告)日：2016-06-23
申请号：PCT/EP2015/077482
申请日：2015-11-24
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： LIU, Peng
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G06F17/5036 , G03F7/70416 , G03F7/70433 , G03F7/705 , G03F7/70941 , G06F2217/12
摘要： Disclosed herein is a computer-implemented method of image simulation for a device manufacturing process, the method comprising: identifying regions of uniform optical properties from a portion or an entirety of a substrate or a patterning device, wherein optical properties are uniform within each of the regions; obtaining an image for each of the regions, wherein the image is one that would be formed from the substrate if the entirety of the substrate or the patterning device has the same uniform optical properties as that region; forming a stitched image by stitching the image for each of the regions according to locations of the regions in the portion or the entirety of the substrate of the patterning device; forming an adjusted image by applying adjustment to the stitched image for at least partially correcting for or at least partially imitating an effect of finite sizes of the regions.
摘要翻译：本文公开了一种用于设备制造过程的计算机实现的图像模拟方法，该方法包括：从基板或图案形成装置的一部分或全部识别均匀光学特性的区域，其中光学特性在每个区域; 获得每个区域的图像，其中如果整个基板或图案形成装置具有与该区域相同的均匀光学特性，则图像是将从基板形成的图像; 通过根据图案形成装置的基板的部分或全部中的区域的位置，针对每个区域拼接图像来形成缝合图像; 通过对缝合图像进行调整以至少部分地校正或至少部分地模仿有限尺寸的区域的效果来形成调整图像。

17. 发明申请

WO2015104099A1 ACTUATION MECHANISM, OPTICAL APPARATUS AND LITHOGRAPHY APPARATUS 审中-公开
标题翻译：执行机构，光学装置和光刻设备
公开(公告)号：WO2015104099A1
公开(公告)日：2015-07-16
申请号：PCT/EP2014/076247
申请日：2014-12-02
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： HOL, Sven, Antoin, Johan , MANCUSO, Andrea, Lodovico , MEIJER, Hendricus, Johannes, Maria , REKKERS, Erik, Maria , VAN DAM, Marinus, Johannes, Maria
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70758 , G03F7/70825 , G03F7/70941
摘要： An actuator to displace, for example a mirror, provides movement with at least two degrees of freedom by varying the currents in two electromagnets (370). A moving part includes a permanent magnet (362) with a magnetic face constrained to move over a working area lying substantially in a first plane perpendicular to a direction of magnetization of the magnet. The electromagnets have pole faces lying substantially in a second plane closely parallel to the first plane, each pole face substantially filling a quadrant of the area traversed by the face of the moving magnet. A ferromagnetic shield (820) is provided around the moving part and has at least one interruption (822) to reduce the influence of adjacent actuators or stray fields whilst also minimizing attraction between the permanent magnet (362) and the shield (820).
摘要翻译：移动例如反射镜的致动器通过改变两个电磁体（370）中的电流来提供具有至少两个自由度的运动。移动部件包括永磁体（362），其具有被限制在基本垂直于磁体的磁化方向的第一平面中的工作区域上移动的磁性面。电磁体具有基本上位于与第一平面紧密平行的第二平面中的极面，每个极面基本上填充由移动磁体的表面穿过的区域的象限。铁磁屏蔽（820）设置在运动部分的周围，并且具有至少一个中断（822），以减小相邻致动器或杂散磁场的影响，同时还使永磁体（362）和屏蔽（820）之间的吸引力最小化。

18. 发明申请

WO2012151167A3 EUV LITHOGRAPHY FLARE CALCULATION AND COMPENSATION 审中-公开
标题翻译： EUV LITHOGRAPHY FLARE计算和补偿
公开(公告)号：WO2012151167A3
公开(公告)日：2013-01-24
申请号：PCT/US2012035915
申请日：2012-05-01
申请人： SYNOPSYS INC , SHIELY JAMES , SONG HUA
发明人： SHIELY JAMES , SONG HUA
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/705 , G03F1/24 , G03F1/70 , G03F1/84 , G03F7/70941
摘要： Extreme ultraviolet (EUV) lithography flare calculation and compensation is disclosed herein. A method of calculating flare for a mask for use in EUV lithography includes decomposing the flare power spectrum density (PSD) into a low frequency component and a high frequency component. Further, the method includes receiving a plurality of layouts in a flare map generator. Each of the plurality of layouts corresponds to a chip pattern location on the mask. Moreover, the method includes generating, using the flare map generator, a low frequency flare map for the mask from the low frequency component by using fast Fourier transform (FFT).
摘要翻译：本文公开了极紫外（EUV）光刻光斑计算和补偿。计算用于EUV光刻的掩模的光斑的方法包括将耀斑功率谱密度（PSD）分解为低频分量和高频分量。此外，该方法包括在耀斑图生成器中接收多个布局。多个布局中的每一个对应于掩模上的芯片图案位置。此外，该方法包括通过使用快速傅里叶变换（FFT）从低频分量生成使用闪光图生成器的用于掩模的低频闪光图。

19. 发明申请

WO2012013320A2 METHOD AND APPARATUS FOR QUALIFYING OPTICS OF A PROJECTION EXPOSURE TOOL FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：用于微型显微投影曝光工具的光学性质鉴定的方法和设备
公开(公告)号：WO2012013320A2
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/EP2011/003681
申请日：2011-07-22
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , GOEPPERT, Markus
发明人： GOEPPERT, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G01N21/95 , G03F7/70591 , G03F7/706 , G03F7/7085 , G03F7/70941
摘要： A method for qualifying optics (16; 14+16) of a projection exposure tool (10) for microlithography is provided. The optics comprise (16; 14, 16) at least one mirror element (14-1 to 14-7, 16-1 to 16-6) with a reflective coating (52) disposed on the latter. The method comprises the following steps: irradiating electromagnetic radiation (13, 42) of at least two different wavelengths onto the optics (16; 14, 16), a penetration depth of the radiation into the coating (52) of the mirror element varying between the individual wavelengths, taking an optical measurement on the optics (16; 14, 16) for each of the wavelengths, and evaluating the measurement results for the different wavelengths taking into consideration a decisive penetration depth of the radiation into the coating (52) of the mirror element for the respective wavelength.
摘要翻译：提供了一种用于验证用于微光刻的投影曝光工具（10）的光学器件（16; 14 + 16）的方法。该光学器件包括（16; 14,16）至少一个反射镜元件（14-1至14-7,16-1至16-6），反射涂层（52）布置在反射涂层上。该方法包括以下步骤：将至少两个不同波长的电磁辐射（13,42）照射到光学器件（16; 14,16）上，辐射进入反射镜元件的涂层（52）的穿透深度在对于每个波长在光学器件（16; 14,16）上进行光学测量，并考虑到辐射决定性地穿透进入（52）涂层（52）的不同波长的测量结果，各个波长的镜面元件。

20. 发明申请

WO2010031483A1 REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT AND METHODS FOR PRODUCING IT 审中-公开
标题翻译：反射光学元件及其生产方法
公开(公告)号：WO2010031483A1
公开(公告)日：2010-03-25
申请号：PCT/EP2009/006112
申请日：2009-08-22
申请人： CARL ZEISS SMT AG , VON BLANCKENHAGEN, Gisela
发明人： VON BLANCKENHAGEN, Gisela
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/70958 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G02B5/0875 , G02B5/0891 , G03F1/24 , G03F7/70316 , G03F7/70783 , G03F7/70941 , G21K1/062 , G21K2201/067
摘要： In order to produce stress-reduced reflective optical elements (1) for an operating wave length in the soft X-ray and extreme ultraviolet wavelength range, in particular for use in EUV lithography, it is proposed to apply between substrate (2) and a multilayer system (4) optimized for high reflectivity at the operating wavelength a stress-reducing multilayer system (6) with the aid of layer-forming particles, having an energy of 40 eV or more preferably 90 eV or more. Resulting reflective optical elements (1) are distinguished by low surface roughnesses, a low number of periods in the stress-reducing multilayer system and also high Γ values of the.stress-reducing multilayer system.
摘要翻译：为了在软X射线和极紫外波长范围内产生用于工作波长的应力减小反射光学元件（1），特别是用于EUV光刻中，建议在基片（2）和多层系统（4）利用能量为40eV或更优选为90eV或更高的层形成颗粒，在工作波长处的高反射率优化应力降低多层系统（6）。所得到的反射光学元件（1）的特征在于低表面粗糙度，应力降低多层系统中的低周期数以及降低压降的多层系统的高G值。

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