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101. 发明申请

WO2016035250A1 研磨用組成物の製造方法审中-公开
标题翻译：制造抛光组合物的方法
公开(公告)号：WO2016035250A1
公开(公告)日：2016-03-10
申请号：PCT/JP2015/003830
申请日：2015-07-29
申请人：株式会社フジミインコーポレーテッド
发明人：土屋　公亮 , 川▲崎▼　雄介
IPC分类号： C09K3/14 , B24B37/00 , C09G1/02 , H01L21/304
CPC分类号： B24B37/00 , C09G1/02 , C09K3/14 , H01L21/304
摘要：　原液のときには分散安定性がよく、かつ例えば高倍率に希釈した場合においても良好な表面品質を実現することが可能な研磨用組成物の製造方法を提供することを目的とする。研磨用組成物を製造する方法が提供される。この製造方法は、砥粒、塩基性化合物、水溶性ポリマーおよび水を含む研磨用組成物原液をｐＨ変化が０．１５以上となるように希釈する工程、を含む。前記研磨用組成物原液は、関係式：Ａ＝［ＣＡ×ＣＰ］／ｐＨＣ（前記関係式中、ＣＡは研磨用組成物原液における砥粒の含有量（重量％）であり、ＣＰは研磨用組成物原液における水溶性ポリマーの含有量（重量％）であり、ｐＨＣは研磨用組成物原液のｐＨ値である。）；から求められる指標Ａが０．８以下である。また、前記希釈後の研磨用組成物における水溶性ポリマーのモル濃度は、７．０×１０－８モル／Ｌ以上である。
摘要翻译：本发明的目的是提供一种用于制造作为未稀释溶液的分散稳定性良好并且甚至在例如以高比例稀释时能够获得良好表面质量的抛光组合物的方法。提供了一种制造抛光组合物的方法。所述制造方法包括稀释含有磨粒，碱性化合物，水溶性聚合物和水的未稀释抛光组合物溶液的步骤，使得pH变化至少为0.15。对于未稀释的抛光组合物溶液，由关系式（A）= [（CA）×（CP）] /（pHC）确定的指数（A）（关系式（CA））为（质量％未经稀释的抛光组合物溶液中的磨粒（CP）为未稀释的抛光组合物溶液中的水溶性聚合物的含量（质量％），（pHC）为未稀释的研磨用组合物溶液的pH值）超过0.8。稀释后抛光组合物中水溶性聚合物的摩尔浓度至少为7.0×10-8摩尔/升。

102. 发明申请

WO2016024624A1 研磨材、その製造方法および研磨材組成物审中-公开
标题翻译：抛光材料，其制造方法和抛光材料组合物
公开(公告)号：WO2016024624A1
公开(公告)日：2016-02-18
申请号：PCT/JP2015/072895
申请日：2015-08-13
申请人： DIC株式会社
发明人：袁　建軍 , 木下　宏司
IPC分类号： C09K3/14 , B24B37/00 , C01F7/02 , C09G1/02
CPC分类号： B24B37/00 , C01F7/02 , C09G1/02 , C09K3/14
摘要：　従来の研磨用α－アルミナ粒子は鏡面加工や研磨速度などが十分ではなく、より研磨性に優れた研磨粒子が求められているという実情に鑑み、研磨特性に優れ、特に研磨速度が速い、被研磨面にスクラッチの発生が少ない、鏡面加工に使用しうる研磨用のα－アルミナを提供する。　ＢＥＴ比表面積が０．０１～２０ｍ 2 ／ｇのα－アルミナからなる研磨材であって、該α－アルミナがモリブデン化合物の存在下のアルミニウム化合物の焼成で得られるものであることを特徴とする、研磨材。
摘要翻译：考虑到用于抛光的常规α-氧化铝颗粒在抛光速度和镜面加工方面都不足够的情况，提供了可用于镜面加工的用于抛光的α-氧化铝，发生率低在待抛光表面上的划痕具有特别快的抛光速度，并且具有优异的抛光特性。包含BET比表面积为0.01-20m 2 / g的α-氧化铝的抛光材料的特征在于通过在钼化合物的存在下烘烤铝化合物而得到的α-氧化铝。

103. 发明申请

WO2016021254A1 チタン合金材料研磨用組成物审中-公开
标题翻译：用于抛光钛合金材料的组合物
公开(公告)号：WO2016021254A1
公开(公告)日：2016-02-11
申请号：PCT/JP2015/063149
申请日：2015-05-01
申请人：株式会社フジミインコーポレーテッド
发明人：浅井　舞子 , 玉井　一誠 , 森永　均 , 浅野　宏
IPC分类号： C09K3/14 , B24B37/00 , C09G1/02
CPC分类号： B24B37/24 , B24B37/00 , B24B37/044 , C09G1/02 , C09K3/1463
摘要：【課題】チタン合金材料を高い研磨速度を研磨でき、かつ、研磨後、表面の平滑性に優れ高光沢な表面を有する研磨済チタン合金材料を得ることができるチタン合金材料研磨用組成物を提供する。【解決手段】チタン合金材料を研磨するためのチタン合金材料研磨用組成物であって、前記チタン合金材料の全質量に対して０．５質量％より多い含有量で存在するチタン以外の金属元素の少なくとも１種を、チタンよりも高い溶解度で溶解させる機能を有する化合物、および砥粒を含有するチタン合金材料研磨用組成物。
摘要翻译：本发明提供一种能够以高抛光速度对钛合金材料进行研磨的钛合金材料的研磨用组合物，得到研磨后的表面光滑性和表面光滑性优异的钛合金材料的研磨。 [解决方案]一种用于研磨钛合金材料的钛合金材料的组合物，其中用于研磨钛合金材料的组合物包括：至少一种钛以外的金属元素的化合物，具有溶解功能的化合物相对于钛合金材料的总质量，其溶解度高于钛，其含量大于0.5质量％; 和磨粒。

104. 发明申请

WO2015178476A1 金属膜用研磨液及びそれを用いた研磨方法审中-公开
标题翻译：用于金属膜的抛光溶液和使用其的抛光方法
公开(公告)号：WO2015178476A1
公开(公告)日：2015-11-26
申请号：PCT/JP2015/064723
申请日：2015-05-22
申请人：日立化成株式会社
发明人：花野　真之 , 三嶋　公二 , 深沢　正人 , 桜井　治彰
IPC分类号： C09K3/14 , B24B37/00 , C09G1/02 , H01L21/304
CPC分类号： B24B37/00 , C09G1/02 , C09K3/14 , H01L21/304
摘要：　重量平均分子量が２０，０００以上のメタクリル酸系ポリマ、研磨粒子、及び、水系溶媒を含有する、金属膜用研磨液。
摘要翻译：该金属膜用抛光液包括：重均分子量为20,000以上的甲基丙烯酸系聚合物; 抛光颗粒; 和水溶剂。

105. 发明申请

WO2015170743A1 サファイア板用研磨液組成物审中-公开
标题翻译：抛光溶液组合物对于SAPPHIRE板
公开(公告)号：WO2015170743A1
公开(公告)日：2015-11-12
申请号：PCT/JP2015/063315
申请日：2015-05-08
申请人：花王株式会社
发明人：吉野太基
IPC分类号： C09K3/14 , B24B37/00 , C09G1/02 , H01L21/304
CPC分类号： B24B37/00 , C09G1/02 , C09K3/14 , H01L21/304
摘要：　本発明のサファイア板用研磨液組成物は、アルミナ粒子、アニオン性高分子、及び水系媒体を含有する。本発明のサファイア板の製造方法の一例は、被研磨サファイア板に対して、本発明のサファイア板用研磨液組成物を供給して前記被研磨サファイア板を研磨する工程を含む。本発明のサファイア板の製造方法の他の一例は、被研磨サファイア板に対して、本発明のサファイア板用研磨液組成物を供給して前記被研磨サファイア板を研磨する工程と、前記工程で使用した前記サファイア板用研磨液組成物を用いて、前記被研磨サファイア板とは別の被研磨サファイア板を研磨する工程と、を含む。
摘要翻译：该用于蓝宝石板的抛光液组合物含有氧化铝颗粒，阴离子聚合物和水性介质。根据本发明的蓝宝石板的制造方法的一个实例包括将用于蓝宝石板的抛光溶液组合物供应到要抛光的蓝宝石板并抛光抛光的蓝宝石板的步骤。根据本发明的蓝宝石板的制造方法的另一个实例包括将用于蓝宝石板的抛光溶液组合物供应到要抛光的蓝宝石板并抛光的蓝宝石板的步骤，并且步骤其中使用上述步骤中使用的蓝宝石板的抛光液组合物对要抛光的蓝宝石板进行抛光。

106. 发明申请

WO2015113026A3 EDGE CHAMFERING BY MECHANICALLY PROCESSING LASER CUT GLASS 审中-公开
标题翻译：机械加工激光切割玻璃的边缘切割
公开(公告)号：WO2015113026A3
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：PCT/US2015013026
申请日：2015-01-27
申请人： CORNING INC
发明人： BANKAITIS JONAS , UHLIG KEVIN WILLIAM
IPC分类号： C03B33/02 , B23K26/00 , B23K26/02 , B23K26/06 , B23K26/36 , B23K26/40 , B24B9/10 , B24D9/02 , C03B25/087 , C03B29/10 , C03B33/07 , C03B33/09
CPC分类号： C03B33/0222 , B23K26/0057 , B23K26/0087 , B23K26/02 , B23K26/0622 , B23K26/0643 , B23K26/361 , B23K26/53 , B23K2203/50 , B23K2203/54 , B24B9/10 , B24B37/00 , B24D9/00 , B24D9/02 , B24D13/18 , Y02P40/57
摘要： Processes of chamfering and/or beveling an edge of a glass substrate of arbitrary shape using lasers are described herein. Two general methods to produce chamfers on glass substrates are the first method involves cutting the edge with the desired chamfer shape utilizing an ultra-short pulse laser that is followed by mechanical polishing with a compliant polishing wheel.
摘要翻译：本文描述了使用激光对任意形状的玻璃基板的边缘进行倒角和/或倒角的过程。在玻璃基板上制造倒角的两种常用方法是第一种方法，其中包括利用超短脉冲激光切割具有所需倒角形状的边缘，然后用适合的抛光轮进行机械抛光。

107. 发明申请

WO2015133516A1 基板処理システムおよび基板処理方法审中-公开
标题翻译：基板加工系统和基板加工方法
公开(公告)号：WO2015133516A1
公开(公告)日：2015-09-11
申请号：PCT/JP2015/056341
申请日：2015-03-04
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：山口　都章
IPC分类号： B24B57/02 , B24B37/00 , B24B49/02 , B24B49/08 , H01L21/304
CPC分类号： B24B37/005 , B24B37/00 , B24B37/20 , B24B57/02 , H01L21/02035 , H01L21/02052 , H01L21/67017 , H01L21/67046 , H01L21/67051 , H01L21/67219 , H01L21/68728
摘要：　本発明は、処理液供給ラインを洗浄することができる基板処理システムおよび基板処理方法に関するものである。　基板処理システムは、基板Ｗを処理する基板処理装置（１）と、分配ライン（９３）および処理液供給ライン（９２）を洗浄するフラッシング装置とを備えている。フラッシング装置は、分配ライン（９３）に接続された洗浄液供給ライン（９９）と、分配ライン（９３）を通じて処理液供給ライン（９２）に供給された洗浄液を液体廃棄箇所（１００）にまで導くドレイン機構（１０１）と、処理液または洗浄液のいずれか一方が分配ライン（９３）内を流れることを許容する供給切り替え弁（１０４）と、ドレイン機構（１０１）および供給切り替え弁（１０４）の動作を制御する動作制御部（３０）とを備える。
摘要翻译：本发明涉及能够冲洗处理液体供给管线的基板处理系统和基板处理方法。基板处理系统设置有用于处理基板（W）的基板处理装置（1）和用于冲洗配送线（93）和处理液体供给管线（92）的冲洗装置。冲洗装置设有：与分配管路（93）连接的冲洗液供给管线（99）。用于引导已经通过分配管线（93）供给到处理液体供给管线（92）的冲洗液的排出机构（101）到液体处理点（100）; 用于允许处理液体或冲洗液体在分配管线（93）内流动的供应切换阀（104）; 以及用于控制排水机构（101）和供给切换阀（104）的作用的动作控制单元（30）。

108. 发明申请

WO2015049942A1 研摩材、その製造方法及びそれを含む研摩スラリー审中-公开
标题翻译：磨料，其制造方法和含有该磨料的磨料浆料
公开(公告)号：WO2015049942A1
公开(公告)日：2015-04-09
申请号：PCT/JP2014/072781
申请日：2014-08-29
申请人：三井金属鉱業株式会社
发明人：尾形　純和 , 徳地　成紀 , 丸山　陽兵 , 大鹿　元己
IPC分类号： C09K3/14 , B24B37/00 , H01L21/304
CPC分类号： C09K3/1463 , B24B37/00 , C01G45/02 , C01P2004/03 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C01P2004/84 , C09C3/063 , C09G1/02 , C09K3/1436 , C09K3/1445 , C23C18/1212 , C23C18/1216 , C23C18/1229 , H01L21/02024
摘要：　芯材に金属酸化物を含有し、前記芯材の表面に該芯材とは異なる金属又は半金属の酸化物を含む被覆層が存在する研摩砥粒を含む研摩材である。前記研摩砥粒は、該研摩砥粒を含むスラリーを５時間煮沸した後に、該研摩砥粒を走査型電子顕微鏡により観察したとき、縦軸と横軸との比が１．０以上１．５未満である。前記研摩砥粒は、芯材の質量に対する被覆層の質量の比率である〔被覆層の質量／芯材の質量〕の値が０．３質量％以上３０質量％以下であることが好適である。前記被覆層の厚さが０．２ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることも好適である。
摘要翻译：一种研磨材料，其包含磨粒，每个磨粒含有作为芯材料的金属氧化物，并且其中每一个包含与芯材中包含的金属不同的金属的氧化物或半金属的涂层形成在芯材表面。如果在含有磨粒的浆料沸腾5小时后，在扫描型电子显微镜上观察到，每个磨粒的垂直轴与横轴的比例为1.0以上且小于1.5。优选每个磨粒具有[（涂层的质量）/（芯材质量）]]值，即涂层的质量与芯材质量之比，为0.3〜30质量％。涂层的厚度也优选为0.2〜500nm。

109. 发明申请

WO2015046164A1 研磨用組成物およびその製造方法审中-公开
标题翻译：抛光组合物及其生产方法
公开(公告)号：WO2015046164A1
公开(公告)日：2015-04-02
申请号：PCT/JP2014/075124
申请日：2014-09-22
申请人：株式会社フジミインコーポレーテッド
发明人：土屋　公亮 , 森　嘉男
IPC分类号： C09K3/14 , B24B37/00 , H01L21/304
CPC分类号： C09K3/1463 , B24B37/00 , B24B37/044 , C09G1/02 , C09G1/04 , C09K3/1436 , H01L21/02024 , H01L21/02052
摘要：　ヘイズおよび表面欠陥を低減し得る研磨用組成物を提供する。本発明によると、主鎖の少なくとも一方の端部に疎水性領域を有する水溶性合成高分子ＭＬ－ｅｎｄを含む研磨用組成物が提供される。前記疎水性領域は、重合開始剤に由来する少なくとも１つの疎水性基を有する。
摘要翻译：提供能够有效地降低雾度和表面缺陷的抛光组合物。作为本发明的结果，提供了包括在主链的至少一端具有疏水区域的水溶性聚合物（ML-端）的抛光组合物。该疏水区域具有至少一个衍生自聚合引发剂的疏水基团。

110. 发明申请

WO2015030009A1 スラリー、研磨液セット、研磨液、基体の研磨方法及び基体审中-公开
标题翻译：浆料，抛光溶液组，抛光溶液，底层抛光方法和基材
公开(公告)号：WO2015030009A1
公开(公告)日：2015-03-05
申请号：PCT/JP2014/072327
申请日：2014-08-26
申请人：日立化成株式会社
发明人：岩野　友洋
IPC分类号： H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14
CPC分类号： C09G1/02 , B24B37/00 , B24B37/044 , C01F17/0043 , C01P2004/64 , C09K3/1436 , C09K3/1463 , H01L21/31053
摘要：　砥粒と添加剤と水とを含有する研磨液であって、砥粒が、４価金属元素の水酸化物を含み、且つ、当該砥粒の含有量を１．０質量％に調整した第一の水分散液において波長４００ｎｍの光に対して吸光度１．００以上を与えるものであり、且つ、前記第一の水分散液において波長５００ｎｍの光に対して光透過率５０％／ｃｍ以上を与えるものであり、前記第一の水分散液を６０℃で７２時間保持して得られる第二の水分散液のＮＯ３－濃度が２００ｐｐｍ以下である、研磨液。
摘要翻译：该抛光溶液含有研磨剂，添加剂和水，其中磨料包括四价金属元素的氢氧化物，在第一水分散体中相对于波长为400nm的光赋予1.00或更大的吸光度，其中将磨料含量调节至1.0质量％，并且相对于在第一水分散体中具有500nm的波长的光赋予50％/ cm以上的透光率。通过将第一水分散体在60℃的温度下保持72小时而获得的第二水性分散体的NO 3 - 浓度为200ppm以下。

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