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1. 发明申请

WO2016052365A1 パターン形成方法、レジストパターン、及び、電子デバイスの製造方法审中-公开
标题翻译：图案形成方法，电阻图案和用于制造电子器件的方法
公开(公告)号：WO2016052365A1
公开(公告)日：2016-04-07
申请号：PCT/JP2015/077227
申请日：2015-09-28
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：丹呉　直紘 , 山本　慶 , 井上　尚紀 , 白川　三千紘 , 後藤　研由
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/11 , G03F7/32 , G03F7/38
CPC分类号： G03F7/11 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F2220/283 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/091 , G03F7/16 , G03F7/168 , G03F7/2041 , G03F7/327 , G03F7/38 , G03F7/40 , H01L21/0274 , H01L21/0276
摘要：　本発明は、ＤＯＦが良好なパターン形成方法、上記パターン形成方法により形成されたレジストパターン、及び、上記パターン形成方法を含む電子デバイスの製造方法を提供することを目的とする。本発明のパターン形成方法は、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を、基板上に塗布して、レジスト膜を形成する工程ａと、上記レジスト膜上に上層膜形成用組成物を塗布することにより、上記レジスト膜上に上層膜を形成する工程ｂと、上記上層膜が形成された上記レジスト膜を露光する工程ｃと、上記露光された上記レジスト膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してパターンを形成する工程ｄと、を備えるパターン形成方法あって、上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物が、分子量が８７０以下である活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する。
摘要翻译：本发明的目的是提供：具有优异DOF的图案形成方法; 由所述图案形成方法形成的抗蚀剂图案; 以及涉及所述图案形成方法的电子设备制造方法。该图案形成方法包括：步骤a，用于将有源射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物涂布在基材上并形成抗蚀剂膜; 通过在抗蚀剂膜上施加上层成膜组合物在抗蚀剂膜上形成上层膜的步骤b; 用于使其上形成有上层膜的抗蚀剂膜曝光的步骤c; 以及用于利用包含有机溶剂的显影液显影曝光的抗蚀剂膜并形成图案的步骤d。活性射线敏感或辐射敏感性树脂组合物包括分子量为870以下的化合物，并且通过照射活性射线或辐射而产生酸。

2. 发明申请

WO2016035585A1 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法审中-公开
标题翻译：主动感光或辐射敏感性树脂组合物，图案形成方法和制造电子设备的方法
公开(公告)号：WO2016035585A1
公开(公告)日：2016-03-10
申请号：PCT/JP2015/073605
申请日：2015-08-21
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：後藤　研由 , 小島　雅史 , 加藤　啓太 , 王　惠瑜 , 白川　三千紘
IPC分类号： G03F7/038 , C08F220/28 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/038 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/26 , C08F220/28 , C08F220/36 , C08F228/06 , C08F230/08 , C08F2220/282 , C08F2220/283 , C08F2220/365 , G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/168 , G03F7/2041 , G03F7/32 , G03F7/325 , G03F7/327 , G03F7/38 , G03F7/40 , H01L21/0274 , C08F2220/1858 , C08F2220/1866 , C08F2220/185 , C08F2220/1825 , C08F2220/1875 , C08F2230/085 , C08F220/22
摘要：　本発明は、ＤＯＦが大きく、かつ、ＬＷＲが小さい感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、上記組成物を用いたパターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法を提供することを目的とする。本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、樹脂Ｐと、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、上記樹脂Ｐが特定の式で表される繰り返し単位ｐ１及び繰り返し単位ｐ２を有し、上記繰り返し単位ｐ２がヒドロキシアダマンチル基のヒドロキシ基が酸の作用により分解し脱離する基で保護された基を有さない。
摘要翻译：本发明的目的是提供：具有大DOF和小LWR的主动光敏或辐射敏感性树脂组合物; 使用该组合物的图案形成方法; 以及电子设备的制造方法。根据本发明的活性光敏或辐射敏感性树脂组合物含有树脂P和当用活性光或辐射照射时产生酸的化合物。树脂P包含由特定式表示的重复单元p1和重复单元p2，重复单元p2不具有羟基金刚烷基的羟基被被分解和释放的基团保护的基团酸的作用

3. 发明申请

WO2016017346A1 パターン形成方法、及び、これを用いた電子デバイスの製造方法审中-公开
标题翻译：图案形成方法和使用该方法的电子设备的制造方法
公开(公告)号：WO2016017346A1
公开(公告)日：2016-02-04
申请号：PCT/JP2015/068829
申请日：2015-06-30
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：加藤　啓太 , 王　惠瑜 , 白川　三千紘 , 後藤　研由
IPC分类号： G03F7/40 , G03F7/075 , G03F7/11 , G03F7/26 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/094 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/095 , G03F7/11 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2006 , G03F7/2041 , G03F7/3085 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/40
摘要：本発明は、超微細パターン（例えば、線幅及びスペース幅が共に４０ｎｍ以下のラインアンドスペースパターン）を容易に形成可能なパターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法を提供する。本発明は、（Ａ）基板上に第一のレジスト組成物を用いて第一のレジスト膜を形成する工程、（Ｂ）前記第一のレジスト膜を露光する工程、（Ｃ）露光された前記第一のレジスト膜を現像し、第一のパターンを形成する工程、（Ｄ）前記第一のパターンが設けられた基板上に、平坦化層形成用組成物（ａ）を用いて平坦化層を形成する工程、（Ｅ）前記平坦化層上に、第二のレジスト組成物を用いて第二のレジスト膜を形成する工程、（Ｆ）前記第二のレジスト膜を露光する工程、及び（Ｇ）露光された前記第二のレジスト膜を現像し、第二のパターンを形成する工程、をこの順序で含むパターン形成方法であって、前記第一のパターンが、前記平坦化層形成用組成物（ａ）に対して不溶である、パターン形成方法、及び、これを用いた電子デバイスの製造方法に関する。
摘要翻译：提供：容易地形成超细图案（例如，具有不大于40nm的线宽和空间宽度的线间距图案）的图案形成方法; 以及电子设备的制造方法。本发明涉及使用其的电子器件的图案形成方法和制造方法，所述图案形成方法依次包括：在基片上形成第一抗蚀剂膜的步骤（A），通过使用第一抗蚀剂组成; 其中暴露第一抗蚀剂膜的步骤（B）; 其中暴露的第一抗蚀剂膜显影并形成第一图案的步骤（C）; 通过使用平坦化层形成组合物（a），在其上具有第一图案的基板上形成平坦化层的步骤（D）; 通过使用第二抗蚀剂组合物在平坦化层上形成第二抗蚀剂膜的步骤（E）; 第二抗蚀剂膜露出的步骤（F）; 和曝光的第二抗蚀剂膜显影并形成第二图案的步骤（G）。第一图案不溶于形成平坦化层的组合物（a）。

4. 发明申请

WO2015098398A1 パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス及び水系現像液审中-公开
标题翻译：图案形成方法，用于制造电子设备的方法，电子设备和水溶液开发解决方案
公开(公告)号：WO2015098398A1
公开(公告)日：2015-07-02
申请号：PCT/JP2014/081095
申请日：2014-11-25
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：榎本　雄一郎 , 上羽　亮介 , 白川　三千紘 , 古谷　創 , 後藤　研由 , 小島　雅史
IPC分类号： G03F7/32 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/30 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/325 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/40 , G03F7/405
摘要：　本発明のパターン形成方法は、酸の作用により分解して酸性官能基を生じる樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて、感活性光線性又は感放射線性膜を形成する工程、前記感活性光線性又は感放射線性膜を露光する工程、及び、塩基性官能基を２つ以上有する塩基性化合物を含む水系現像液を用いて、露光した前記感活性光線性又は感放射線性膜を現像するアルカリ現像工程、を含む。
摘要翻译：该图案形成方法包括：通过使用含有树脂的光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物形成光化射线敏感性或辐射敏感性膜的步骤，所述树脂组合物由于活性而引起的分解结果产生酸性官能团酸; 将光化学敏感或感光膜暴露于光的步骤; 以及碱性显影步骤，用于通过使用含有具有两个或更多个碱性官能团的碱性化合物的含水显影液来显影曝光的光化学敏感或辐射敏感膜。

5. 发明申请

WO2015046021A1 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法审中-公开
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物和抗蚀剂图案形成方法
公开(公告)号：WO2015046021A1
公开(公告)日：2015-04-02
申请号：PCT/JP2014/074724
申请日：2014-09-18
申请人： JSR株式会社
发明人：生井　準人
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038
CPC分类号： G03F7/325 , C08F220/18 , C08F220/20 , C08F220/26 , C08F220/30 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2004 , G03F7/2037 , G03F7/2041 , G03F7/2059 , G03F7/322 , G03F7/327 , H01L21/0271
摘要：　本発明は、酸解離性基及びこの酸解離性基により保護されたオキソ酸基又はフェノール性水酸基を含む構造単位を有する重合体と、感放射線性酸発生体とを含有する感放射線性樹脂組成物であって、上記酸解離性基が、下記式（１）で表されることを特徴とする。下記式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して、炭素数１～２０の２価の有機基である。Ｒ３は、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群より選ばれる少なくとも１種を含む原子数１～４０の１価の基である。＊は、上記保護されたオキソ酸基又はフェノール性水酸基におけるオキシ基への結合部位を示す。
摘要翻译：本发明是一种辐射敏感性树脂组合物，其含有辐射敏感性酸产生剂和具有含有可酸分解基团和含该酸性酸基团的酚羟基的结构单元的聚合物或被该酸可裂解基团保护的酚羟基，其特征在于酸可裂解基团由式（1）表示。在式（1）中，R 1和R 2各自独立地表示具有1-20个碳原子的二价有机基团; R3表示具有1-40个原子的一价基团，包括至少一个选自氧原子，硫原子和氮原子的原子; 和*表示与氧基相结合的含氧酸基或酚羟基的受保护的含氧酸基或酚羟基的结合位点。

6. 发明申请

WO2015045977A1 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス、及び、化合物审中-公开
标题翻译：活性敏感性或辐射敏感性树脂组合物，图案形成方法，制造电子器件的方法，电子器件和化合物
公开(公告)号：WO2015045977A1
公开(公告)日：2015-04-02
申请号：PCT/JP2014/074494
申请日：2014-09-17
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：片岡　祥平 , 白川　三千紘 , 加藤　啓太 , 北村　哲 , 山本　長生
IPC分类号： G03F7/004 , C07C59/135 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C309/42 , C07C381/12 , C07D211/96 , C07D327/06 , C07D333/46 , C07F7/18 , C07F9/09 , C07F9/59 , C07F9/655 , C07F9/6553 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/075 , H01L21/027
CPC分类号： C07F9/6552 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C309/42 , C07C311/03 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07C2603/86 , C07D307/33 , C07D307/93 , C07D327/04 , C07F9/091 , C07F9/12 , C07F9/592 , C07F9/655345 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0751 , G03F7/0755 , G03F7/085 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/325
摘要：　本発明は、ネガ型現像に使用する場合にはパターン倒れが抑制され、ポジ型現像に使用する場合にはパターンプロファイルに優れたパターンが形成可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス、及び、化合物を提供する。本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、基板上に感活性光線性又は放射線性樹脂組成物膜を形成するために使用される感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、下記（Ａ１）及び（Ａ２）からなる群より選択される少なくとも１種の化合物（Ａ）、及び　（Ａ１）基板密着性基を有し、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物　（Ａ２）基板密着性基及び酸基を有する化合物　酸の作用によって分解し、現像液に対する溶解性が変化する樹脂（Ｐ）を少なくとも含有する。
摘要翻译：本发明提供：当用于负显影时抑制图案塌陷的图案形成的主动感光性或辐射敏感性树脂组合物，当用于阳性显影时获得优异的图案图案; 图案形成方法; 电子设备的制造方法; 电子设备; 和化合物。该主动感光或辐射敏感性树脂组合物用于在基材上形成活性光敏或辐射敏感性树脂组合物膜，其中组合物至少包含至少一种选自以下的化合物（A）：包含化合物（A1）和化合物（A2）的基团和通过酸的作用分解的树脂（P），树脂相对于显影液的溶解度是可变的。化合物（A1）具有底物粘附基团，当用活性光或辐射照射时产生酸，化合物（A2）具有底物粘附基团和酸基团。

7. 发明申请

WO2015045240A1 SULFONIC ACID ESTER CONTAINING POLYMERS FOR ORGANIC SOLVENT BASED DUAL-TONE PHOTORESISTS 审中-公开
标题翻译：含有机溶剂的双色光电聚合物的含硫酸酯
公开(公告)号：WO2015045240A1
公开(公告)日：2015-04-02
申请号：PCT/JP2014/003888
申请日：2014-07-23
申请人： INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION , JSR CORPORATION
发明人： AYOTHI, Ramakrishnan , SWANSON, Sally Ann , WALLRAFF, Gregory Michael
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32
CPC分类号： G03F7/325 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2037 , G03F7/2041 , G03F7/40
摘要： Provided are chemically amplified resist compositions that include acid-labile sulfonate-ester photoresist polymers that are developable in an organic solvent. The chemically amplified resists produce high resolution positive tone development (PTD) and negative tone development (NTD) images depending on the selection of organic development solvent. Furthermore, the dissolution contrast of the traditional chemically amplified resists may be optimized for dual tone imaging through the addition of a photoresist polymer comprising an acid-labile sulfonate-ester moiety.
摘要翻译：提供了化学放大抗蚀剂组合物，其包括可在有机溶剂中显影的酸不稳定的磺酸酯 - 光致抗蚀剂聚合物。化学放大抗蚀剂根据有机发展溶剂的选择产生高分辨率正色调发展（PTD）和负色调发展（NTD）图像。此外，通过添加包含酸不稳定的磺酸酯部分的光致抗蚀剂聚合物，可以优化传统的化学放大抗蚀剂的溶解对比度，用于双色调成像。

8. 发明申请

WO2015025859A1 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤、酸拡散制御剤及び化合物审中-公开
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物，形成耐药性图案的方法，辐射敏感酸生成剂，酸扩增控制剂和化合物
公开(公告)号：WO2015025859A1
公开(公告)日：2015-02-26
申请号：PCT/JP2014/071687
申请日：2014-08-19
申请人： JSR株式会社
发明人：生井　準人
IPC分类号： G03F7/004 , C07C59/21 , C07C69/36 , C07C69/757 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C327/22 , C07C381/12 , C07D307/00 , C07D307/33 , C07D307/77 , C07D309/30 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： C07D307/77 , C07C69/36 , C07C69/757 , C07C205/12 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C327/06 , C07C381/12 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , C07D307/00 , C07D307/33 , C07D309/30 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要：　本発明は、酸解離性基を含む構造単位を有する重合体、放射線分解性を有するオニウムカチオンとカウンターアニオンとからなる化合物、及び溶媒を含有し、上記カウンターアニオンが、カルボニル基を２以上有し、上記カルボニル基同士が、単結合、置換若しくは非置換の炭素数１～１０のアルカンジイル基、又は置換若しくは非置換の１，２－ベンゼンジイル基を介して結合する感放射線性樹脂組成物である。上記化合物としては、下記式（１－１）で表される化合物が好ましい。式（１－１）中、Ａは、炭素数１～３０の１価の有機基である。Ｅ－は、ＳＯ３－又はＣＯＯ－である。Ｘ＋は、１価の放射線分解性オニウムカチオンである。Ｌは、単結合又は酸素原子である。Ｒ１は、単結合又は置換若しくは非置換の炭素数１～１０のアルカンジイル基である。Ｒ２は、炭素数１～２０の２価の有機基である。ｋは、１以上３以下の整数である。
摘要翻译：一种辐射敏感性树脂组合物，其包含具有酸解离基团的结构单元的聚合物，包含放射性鎓阳离子和抗衡阴离子的化合物和溶剂，其中所述反阴离子具有两个或更多个羰基，并且所述羰基基团通过单键，取代或未取代的具有1-10个碳原子的烷二基或取代或未取代的1,2-苯二基彼此键合。作为上述化合物，优选式（1-1）表示的化合物。式（1-1）中，A表示碳原子数为1〜30的1价有机基团， E-表示SO 3 - 或COO-; X +表示一价放射性鎓阳离子; L表示单键或氧原子; R1表示单键或具有1-10个碳原子的取代或未取代的烷二基; R2表示具有1-20个碳原子的二价有机基团; k为1〜3的整数。

9. 发明申请

WO2014175270A1 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、パターン形成方法审中-公开
标题翻译：主动感光或辐射敏感性树脂组合物和图案形成方法
公开(公告)号：WO2014175270A1
公开(公告)日：2014-10-30
申请号：PCT/JP2014/061294
申请日：2014-04-22
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：北村　哲 , 渋谷　明規 , 小島　雅史 , 加藤　啓太
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/325
摘要：本発明は、長期保管後も現像欠陥が生じにくく、ＬＷＲの劣化も抑制される感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、少なくとも２種の光酸発生剤（Ａ）、及び、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂（Ｂ）を含有し、　光酸発生剤が、一般式（Ａ－１）で表される光酸発生剤、及び、一般式（Ａ－２）で表される光酸発生剤を少なくとも含む。
摘要翻译：本发明的目的是提供一种在长期储存后不易受显影缺陷影响的活性光敏或辐射敏感性树脂组合物，并且可抑制LWR的劣化。根据本发明的主动感光或辐射敏感性树脂组合物含有（A）至少两种光酸产生剂和（B）通过酸作用而分解的树脂，从而增加了在碱显影剂中的溶解度液体。光致酸产生剂至少包括由通式（A-1）表示的光致酸产生剂和由通式（A-2）表示的光致酸产生剂。

10. 发明申请

WO2014172402A1 AN EXPOSURE APPARATUS AND A METHOD FOR EXPOSING A PHOTOSENSITIVE ELEMENT AND A METHOD FOR PREPARING A PRINTING FORM FROM THE PHOTOSENSITIVE ELEMENT 审中-公开
标题翻译：曝光装置和曝光感光元件的方法以及从感光元件制备印刷形式的方法
公开(公告)号：WO2014172402A1
公开(公告)日：2014-10-23
申请号：PCT/US2014/034263
申请日：2014-04-16
申请人： E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY
发明人： STRUEWE, Volker , LUETKE, Helmut , SCHWAN, Rolf
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/201 , B41C1/00 , G03F7/20 , G03F7/2002 , G03F7/2008 , G03F7/2014 , G03F7/2041 , G03F7/2051 , G03F7/70558 , G03F7/70858 , G03F7/70875
摘要： The invention pertains to an exposure apparatus, a method for exposing a photosensitive element to radiation using the exposure apparatus, and a method for preparing a printing form from the photosensitive element. The exposure apparatus includes a base assembly having an exposure bed that supports the photosensitive element, and a lamp housing assembly having two or more lamps. The lamp housing assembly includes an air distribution assembly having an air chamber that is disposed adjacent to the lamps and pressurized to provide uniform distribution of air exiting the air chamber to impinge a backside of each of the lamps. The air exiting the chamber and impinging the lamps is controlled by monitoring the temperature of the lamps and/or the irradiance emitting from the lamps.
摘要翻译：本发明涉及一种曝光装置，一种使用该曝光装置将光敏元件暴露于辐射的方法，以及一种从感光元件制备印刷形式的方法。曝光装置包括具有支撑感光元件的曝光床的基座组件和具有两个或更多个灯的灯壳体组件。灯壳体组件包括空气分配组件，该空气分配组件具有邻近灯并且被加压的空气室，以提供离开空气室的空气的均匀分布，以撞击每个灯的背面。通过监视灯的温度和/或从灯发出的辐照度来控制离开室并撞击灯的空气。

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