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1. 发明申请

WO2007148539A1 巻取式真空蒸着装置审中-公开
标题翻译：提取型真空蒸发沉积装置
公开(公告)号：WO2007148539A1
公开(公告)日：2007-12-27
申请号：PCT/JP2007/061509
申请日：2007-06-07
申请人：株式会社アルバック , 林信博 , 廣野貴啓 , 多田勲 , 中塚篤 , 小松研二
发明人：林信博 , 廣野貴啓 , 多田勲 , 中塚篤 , 小松研二
IPC分类号： C23C14/56 , C23C14/24
CPC分类号： C23C14/562 , C23C14/02 , C23C14/5826
摘要：　生産性を低下させることなく、フィルム上への熱負け領域の発生を抑えることができる巻取式真空蒸着装置を提供する。　本発明に係る巻取式真空蒸着装置（１０）は、巻出しローラ（１３）と、巻出しローラ（１３）から繰り出されたフィルム（１２）を巻き取る巻取りローラ（１５）と、巻出しローラ（１３）と巻取りローラ（１５）との間に配置されフィルム（１２）と密着して当該フィルムを冷却する冷却用ローラ（１４）と、冷却用ローラ（１４）に対向配置されフィルム（１２）に蒸着材料を蒸着させる蒸発源（１６）と、巻出しローラ（１３）と蒸発源（１６）との間に配置され、走行するフィルム（１２）に電子ビームを照射する電子ビーム照射器（２１）とを備え、電子ビーム照射器（２１）は、通電加熱によって電子を放出するフィラメント（３１）と、このフィラメント（３１）へ直流電流を供給する直流発生手段とを有する。
摘要翻译：可以抑制膜的热影响区域的发生而不损害生产率的卷取式真空蒸镀装置。卷取式真空蒸镀装置（10）具有分离辊（13），卷取辊（15），用于卷取从送出辊（13）中支付的膜（12），冷却辊（14）设置在支承辊（13）和卷取辊（15）之间并通过与其紧密接触来冷却膜（12），与冷却辊（14）相对设置的蒸发源（16）并且沉积蒸发材料在薄膜（12）上的电子束照射器（21）和放电辊（13）和蒸发源（16）之间的电子束照射器（21），并用电子束照射行进薄膜（12）。电子束照射器（21）具有用于当通过导电加热时发射电子的灯丝（31），还具有用于向灯丝（31）供给直流电流的直流产生装置。

2. 发明申请

WO2005049883A1 巻取式真空蒸着方法及び巻取式真空蒸着装置审中-公开
标题翻译：提取真空沉积方法和真空真空沉积装置
公开(公告)号：WO2005049883A1
公开(公告)日：2005-06-02
申请号：PCT/JP2004/016839
申请日：2004-11-12
申请人：株式会社アルバック , 林信博 , 廣野貴啓 , 多田勲 , 中塚篤
发明人：林信博 , 廣野貴啓 , 多田勲 , 中塚篤
IPC分类号： C23C14/56
CPC分类号： C23C14/562 , C23C14/022 , G11B5/85
摘要：本発明は、プラスチック単層フィルムでなるベースフィルムに熱変形を生じさせることなく金属膜を成膜することができる生産性に優れた巻取式真空蒸着方法及び巻取式真空蒸着装置を提供することを課題とし、その解決方法として、金属膜の蒸着前において原料フィルム（１２）に電子ビームを照射する電子ビーム照射器（２１）を配置すると共に、成膜後の原料フィルム（１２）をガイドする補助ローラ（１８）とキャンローラ（１４）との間にバイアス電圧を印加する直流バイアス電源（２２）を設けることにより、金属膜の蒸着前は電子ビームの照射により帯電させた原料フィルム（１２）をキャンローラ（１４）に密着させ、金属膜の蒸着後は補助ローラ（１８）に電気的に接続される金属膜とキャンローラ（１４）との間に印加したバイアス電圧によって原料フィルム（１２）をキャンローラ（１４）へ密着させる。
摘要翻译：一种优良的生产率吸收真空沉积方法和用于在基底膜上形成金属膜的设备，该基膜包含塑料单层膜而不引起热变形。一种用于在金属膜真空沉积之前将电子束施加到材料膜（12）上的电子束施加器（21），以及用于在辅助辊（18）用于用沉积的金属膜和罐辊（14）引导材料膜（12）。通过施加电子束充电的材料膜（12）在真空沉积金属膜之前与罐辊（14）紧密接触。在真空沉积金属膜之后，通过施加在罐辊（14）和电连接到辅助辊（14）的金属膜之间的偏置电压，使膜（12）与罐辊（14）紧密接触辊（18）。

3. 发明申请

WO2006121068A1 巻取式プラズマＣＶＤ装置审中-公开
标题翻译：绕线等离子体CVD装置
公开(公告)号：WO2006121068A1
公开(公告)日：2006-11-16
申请号：PCT/JP2006/309387
申请日：2006-05-10
申请人：株式会社アルバック , 廣野貴啓 , 多田勲 , 中塚篤 , 菊池正志 , 小形英之 , 川村裕明 , 斎藤一也 , 佐藤昌敏
发明人：廣野貴啓 , 多田勲 , 中塚篤 , 菊池正志 , 小形英之 , 川村裕明 , 斎藤一也 , 佐藤昌敏
IPC分类号： C23C16/505 , C23C16/44 , H01L21/205
CPC分类号： H01J37/3277 , B08B7/00 , C23C16/4405 , C23C16/46 , C23C16/5096 , C23C16/545 , H01J37/32009
摘要：　フィルムの成膜領域に反応ガスを均一に供給して膜質の均質化を図ることができ、フィルム成膜途中で成膜部のセルフクリーニングをも実行可能な巻取式プラズマＣＶＤ装置を提供する。　フィルムの走行方向に関して成膜部(２５)の上流側および下流側に配置した一対の可動ローラ(３３，３４)間でフィルム(２２)を支持し、フィルム(２２)を成膜位置においてほぼ直線的に走行させる。これによりシャワープレート(３７)とフィルム(２２)間の対向距離を一定に保持して膜質の均質化を図る。フィルム(２２)は、その裏面側で同時走行する金属ベルト(４０)により加熱される。可動ローラ(３３，３４)は成膜位置からセルフクリーニング位置へ上昇可能に構成し、フィルム(２２)をシャワープレート(３７)から遠ざけられるようにする。そして、マスク(５１)の開口部をシャッタ(６５)で塞ぎ、クリーニングガスの漏出を防いで成膜中のセルフクリーニングを実行可能とする。
摘要翻译：可以在膜沉积期间进行等离子体等离子体CVD装置，其中可以通过将膜反应气体均匀地供应到成膜区域并且膜沉积部分的自清洁来使膜质量均匀。膜（22）被支撑在相对于膜的移动方向布置在成膜部分（25）的上游侧和下游侧的一对可动辊（33,34）之间，然后将膜（22））在成膜位置基本线性地移动。因此，喷淋板（37）和膜（22）之间的距离保持恒定，并且使膜质量均匀。薄膜（22）通过金属带（40）加热，金属带同时在薄膜的背面移动。可移动辊（33,34）可以从成膜位置上升到自清洁位置，并且膜（22）可以与喷淋板（37）分离。通过用挡板（65）封闭掩模（51）的开口，从而防止清洗气体的泄漏，可以在膜沉积期间进行自清洁。

4. 发明申请

WO2008139834A1 フィルム搬送装置および巻取式真空成膜方法审中-公开
标题翻译：薄膜输送装置和卷绕型真空成膜方法
公开(公告)号：WO2008139834A1
公开(公告)日：2008-11-20
申请号：PCT/JP2008/057600
申请日：2008-04-18
申请人：株式会社アルバック , 廣野貴啓 , 多田勲 , 中塚篤
发明人：廣野貴啓 , 多田勲 , 中塚篤
IPC分类号： C23C14/56
CPC分类号： C23C14/562 , B65H27/00 , B65H2701/1315
摘要：【課題】ベースフィルムの成膜領域を保護でき、かつ安定したフィルム走行性を実現する。【解決手段】本発明に係る巻取式真空成膜装置１０は、ベースフィルムＦの両側縁部を支持する一対の環状のガイド部１７ｂを有するガイドローラ１７Ａと、ガイドローラ１７Ａに対向して配置されベースフィルムＦの両側縁部を一対のガイド部１７ｂに向けて押圧する補助ローラ１８とを含むガイドユニット２０を有する。これにより、ベースフィルムＦの成膜領域Ｆｃとガイドユニット２０のガイドローラ１７Ａおよび補助ローラ１８の各々のロール面との接触を回避でき、当該成膜領域Ｆｃの保護を図ることができる。
摘要翻译： [问题]为了保护基膜的成膜区域，实现膜的稳定的运行性能。这种绕线式真空成膜装置（10）包括导向单元（20），该引导单元（20）包括具有一对环形引导部分（17b）的引导辊（17A），用于支撑基底膜（F）和与引导辊（17A）相对设置的辅助辊（18），并将基膜（F）的两侧边压在一对引导部分（17b）上。通过这样的结构，可以避免基膜（F）的成膜区域（Fc）与引导单元（20）中的引导辊（17A）和辅助辊（18）的各个辊表面接触，，从而可以保护成膜区域（Fc）。

5. 发明申请

WO2008065909A1 巻取式真空成膜方法および巻取式真空成膜装置审中-公开
标题翻译：卷绕真空膜成型工艺和设备
公开(公告)号：WO2008065909A1
公开(公告)日：2008-06-05
申请号：PCT/JP2007/072250
申请日：2007-11-16
申请人：株式会社アルバック , 廣野貴啓 , 野村常仁 , 多田勲 , 中塚篤
发明人：廣野貴啓 , 野村常仁 , 多田勲 , 中塚篤
IPC分类号： C23C14/00 , C23C14/56
CPC分类号： C23C14/564 , C23C14/562
摘要：【課題】クリーニングユニットによるキャンローラのクリーニング機能を効果的に維持して品質の高い成膜処理を行うこと。【解決手段】本発明においては、ベースフィルム１２へ成膜する前に、クリーニングユニット３０を冷却用のキャンローラ１４に接触させてキャンローラ１４を非冷却状態で回転させながらクリーニングすることで、クリーニングユニット３０の過冷却を防止して、除去したダストの離脱を阻止し、クリーニングユニット３０によるキャンローラ１４の除塵処理を効率良く行うことが可能となる。また、クリーニング完了後は、クリーニングユニット３０とキャンローラ１４との接触状態を解除することで、成膜時におけるキャンローラ１４の冷却操作によってクリーニングユニット３０が冷却されることを防止して、キャンローラ１４の周面から除去したダストを離脱させることなく保持することができる。　
摘要翻译： [问题]通过清洁单元有效地保持罐辊的清洁功能，进行高质量的成膜处理。 [解决问题的手段]在形成基膜（12）之前，将清洁单元（30）与罐辊（14）接触以进行冷却，并且在非冷却状态下旋转罐辊（14）。因此，可以实现防止清洁单元（30）的过冷，防止除去的灰尘的分离，以及通过清洁单元（30）有效地执行罐辊（14）的除尘处理。此外，在完成清洁之后，通过消除清洁单元（30）和罐辊（14）之间的接触状态，可以防止清洁单元（30）的冷却操作罐辊（14）成膜并保持从罐辊（14）的圆周表面除去的灰尘而不分离。

6. 发明申请

WO2008044489A1 巻取式真空成膜装置审中-公开
标题翻译：采购型真空包装机
公开(公告)号：WO2008044489A1
公开(公告)日：2008-04-17
申请号：PCT/JP2007/068929
申请日：2007-09-28
申请人：株式会社アルバック , 林信博 , 藤井智晴 , 多田勲 , 中塚篤
发明人：林信博 , 藤井智晴 , 多田勲 , 中塚篤
IPC分类号： C23C14/24 , C23C14/04
CPC分类号： C23C14/042 , B05C1/0834 , B41F31/002 , B41F31/15 , C23C14/562
摘要：　オイルの凝縮付着効率の低下および印刷ローラに対するオイルの転写効率の低下を抑制しつつ、オイル凝縮ローラの構成の簡素化と組立て作業性の向上を図る。　本発明に係る巻取式真空成膜装置におけるマスク形成ユニット（２０）は、マスクパターン（２５）を形成するオイルを外周に保持するオイル凝縮ローラ（３１）と、フィルム（１２）の成膜面にオイルをマスクパターン（２５）として転写する印刷ローラ（３３）と、オイル凝縮ローラ（３１）と印刷ローラ（３３）との間に配置されオイル凝縮ローラ（３１）から印刷ローラ（３３）へオイルを転写する転写ローラ（３２）とを有するとともに、オイル凝縮ローラ（３１）を冷却する冷却機構と、転写ローラをオイル凝縮ローラ（３１），印刷ローラ（３３）に対して軸方向に周期的に揺動させる揺動機構を備えている。
摘要翻译：旨在简化油冷凝辊的组装和改进组装，同时抑制油的冷凝附着效率的降低和油对印刷辊的转印效率。提供一种卷取式真空成膜装置，其包括掩模形成单元（20），该掩模形成单元（20）包括用于在其外圆周上保持该油以形成掩模图案（25）的油冷凝辊（31），印刷辊（33）用于将作为掩模图案（25）的油转印到膜（12）的成膜面上;以及转印辊（32），布置在聚光辊（31）和印刷辊（33）之间，用于将油从线圈冷凝辊（31）到印刷辊（33）。进一步包括用于冷凝油冷凝辊（31）的冷却机构和用于相对于油冷凝辊（31）和印刷辊（33）在轴向上周期性地摆动转印辊的摇摆机构。

7. 发明申请

WO2008018297A1 巻取式真空成膜装置审中-公开
标题翻译：真空型真空成膜装置
公开(公告)号：WO2008018297A1
公开(公告)日：2008-02-14
申请号：PCT/JP2007/064639
申请日：2007-07-26
申请人：株式会社アルバック , 林信博 , 藤井智晴 , 多田勲 , 中塚篤
发明人：林信博 , 藤井智晴 , 多田勲 , 中塚篤
IPC分类号： C23C14/56 , C23C14/04 , H01G13/00
CPC分类号： C23C14/042 , B05C1/0821 , B05C1/083 , B05C1/0834 , C23C14/562 , H01G13/00 , H01G13/006
摘要：　印刷ローラとバックアップローラ間の押圧力調整を容易かつ速やかに行うことができる巻取式真空成膜装置を提供する。本発明では、印刷ローラ（３３）とバックアップローラ（２１）間の押圧力調整を、印刷ローラ（３３）及び転写ローラ（３２）を含むマスク形成ユニット（２０）の真空チャンバ（１１）に対する相対移動によって行うことで、印刷ローラ（３３）及び転写ローラ（３２）の個別調整を廃止し、ユニット単位での押圧力調整を実現し、構成の簡素化と作業の容易化、高精度化、作業時間の短縮を図る。
摘要翻译：提供了能够容易且及时地调整印刷辊和支承辊之间的推力的卷取式真空成膜装置。通过使包括印刷辊（33）的掩模形成单元（20）和相对于真空室（11）的转印辊（32）移动，执行印刷辊（33）和支撑辊（21）之间的推力调节），从而消除了印刷辊（33）和转印辊（32）的单独调整，以实现每个单元的推力调节，以简化结构，使工件容易和高精度，并缩短工作时间。

8. 发明申请

WO2006088024A1 巻取式真空成膜装置审中-公开
标题翻译：旋转真空喷雾装置
公开(公告)号：WO2006088024A1
公开(公告)日：2006-08-24
申请号：PCT/JP2006/302550
申请日：2006-02-14
申请人：株式会社アルバック , 林信博 , 横井伸 , 多田勲 , 中塚篤
发明人：林信博 , 横井伸 , 多田勲 , 中塚篤
IPC分类号： C23C14/56
CPC分类号： C23C14/042 , C23C14/54 , C23C14/562
摘要：　絶縁性の原料フィルムの熱変形を抑制し、高速で金属膜を成膜して生産性向上を図ることができ、更にはフィルムの除電効果を高めることができる巻取式真空成膜装置を提供する。　巻出しローラ１３と蒸発源１６との間に配置され原料フィルム１２に荷電粒子を照射する電子ビーム照射器２１と、冷却用キャンローラ１４と巻取りローラ１５との間に配置され原料フィルム１２の成膜面に接触して当該原料フィルム１２の走行をガイドする補助ローラ１８と、キャンローラ１４と補助ローラ１８との間に直流電圧を印加する直流バイアス電源２２と、キャンローラ１４と巻取りローラ１５との間に配置され原料フィルム１２を除電する除電ユニット２３とを備え、当該除電ユニット２３を、一方の電極が接地された直流二極放電型プラズマ発生源で構成する。　
摘要翻译：抑制绝缘材料膜的热变形的卷筒式真空溅镀装置，高速地形成金属膜，能够提高生产效率，提高膜的中和效果。卷筒式真空溅镀装置包括设置在进料辊（13）和蒸发源（16）之间并将带电粒子朝向材料膜（12）发射的电子束照射器（21），辅助辊（18）与所述侧膜（12）的成膜表面接触以引导所述材料膜（12）的移动的冷却罐辊（14）和卷取辊（15），DC偏置电源（22），用于在罐辊（14）和辅助辊（18）之间施加DC电压;以及中和单元（23），设置在罐辊（14）和卷取辊（15）之间，并且中和材料薄膜（12）。中和单元（23）由一个电极接地的双电极DC放电等离子体发生源构成。

9. 发明申请

WO2009131036A1 成膜方法及び成膜装置审中-公开
标题翻译：成膜方法和成膜装置
公开(公告)号：WO2009131036A1
公开(公告)日：2009-10-29
申请号：PCT/JP2009/057494
申请日：2009-04-14
申请人：株式会社アルバック , 小林洋介 , 林信博 , 飯島正行 , 多田勲
发明人：小林洋介 , 林信博 , 飯島正行 , 多田勲
IPC分类号： C23C14/06 , C23C14/12 , C23C14/58 , G02B5/08
CPC分类号： C23C14/5826 , C23C14/14 , C23C16/401 , C23C16/56 , G02B5/0808
摘要：　本発明は、装置構成の簡素化及びコストダウンが可能な反射膜形成技術を提供するものである。本発明の成膜方法は、成膜領域に空気を導入しつつ成膜対象物上に蒸着によって光反射性の反射膜を形成する反射膜形成工程（Ｐ２）と、この反射膜上に撥水性重合体膜を形成する重合体膜形成工程（Ｐ３）と、成膜領域に空気を導入しつつ前記撥水性重合体膜上にプラズマによる親水化処理を施す親水化処理工程（Ｐ５）とを有する。本発明によれば、アルゴンガスを用いることなく反射膜の形成及び重合体膜の親水化処理を行うことができる。
摘要翻译：提供一种可以简化和降低成膜设备配置的成本的反射膜形成技术。本发明的成膜方法包括：反射膜形成步骤（P2），用于通过在将成膜区域引入空气的同时对物体进行气相沉积来形成光反射膜，聚合物膜形成步骤（P3 ），在该反射膜上形成防水聚合物膜的亲水化处理工序（P5），在上述防水性聚合物膜中进行等离子体的亲水化处理，同时将空气引入成膜区域。本发明能够形成反射膜并且不使用氩气来亲水化处理聚合物膜。

10. 发明申请

WO2009084408A1 成膜装置及び成膜方法审中-公开
标题翻译：胶片形成装置和胶片形成方法
公开(公告)号：WO2009084408A1
公开(公告)日：2009-07-09
申请号：PCT/JP2008/072686
申请日：2008-12-12
申请人：株式会社アルバック , 林信博 , 小林洋介 , 齊藤隆雄 , 飯島正行 , 多田勲
发明人：林信博 , 小林洋介 , 齊藤隆雄 , 飯島正行 , 多田勲
IPC分类号： C23C14/34 , C23C16/44 , C23C16/50 , H01L21/285
CPC分类号： C23C14/56 , C23C16/4412 , C23C16/54
摘要：【課題】凝縮負荷の大きい排気系の排気時間を短くして、生産性の向上を図ることができる成膜装置及び成膜方法を提供する。【解決手段】複数の基材を同時に成膜する成膜装置であって、回転軸の周りで複数の基材２を回転自在に支持する支持部５５を有する支持ユニット５０と、支持ユニット５０を回転自在に収容する円筒状の処理室１４を有する真空槽１０と、真空槽１０の内部に配置された成膜源５７、６０と、真空槽１０の上面に上部支持部材５２と対向して配置された低温凝縮源２１Ａを有する低温排気部２１と、補助ポンプ２２を具備する。
摘要翻译：可以提供一种可以减少具有大的冷凝负荷的排气系统的排气时间并提高生产率的成膜装置和成膜方法。成膜装置同时在多个基底上进行成膜。该装置包括：具有支撑部分（55）的支撑单元（50），该支撑部分围绕旋转轴可旋转地支撑基座（2）具有可旋转地容纳所述支撑单元（50）的圆柱形处理室（14）的真空室（10）; 布置在真空室（10）内的成膜源（57,60）; 具有与所述真空室（10）的上部位置支撑构件（52）相对配置的低温冷凝源（21A）的低温排气单元（21）。和辅助泵（22）。

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