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1. 发明申请

WO2006121068A1 巻取式プラズマＣＶＤ装置审中-公开
标题翻译：绕线等离子体CVD装置
公开(公告)号：WO2006121068A1
公开(公告)日：2006-11-16
申请号：PCT/JP2006/309387
申请日：2006-05-10
申请人：株式会社アルバック , 廣野貴啓 , 多田勲 , 中塚篤 , 菊池正志 , 小形英之 , 川村裕明 , 斎藤一也 , 佐藤昌敏
发明人：廣野貴啓 , 多田勲 , 中塚篤 , 菊池正志 , 小形英之 , 川村裕明 , 斎藤一也 , 佐藤昌敏
IPC分类号： C23C16/505 , C23C16/44 , H01L21/205
CPC分类号： H01J37/3277 , B08B7/00 , C23C16/4405 , C23C16/46 , C23C16/5096 , C23C16/545 , H01J37/32009
摘要：　フィルムの成膜領域に反応ガスを均一に供給して膜質の均質化を図ることができ、フィルム成膜途中で成膜部のセルフクリーニングをも実行可能な巻取式プラズマＣＶＤ装置を提供する。　フィルムの走行方向に関して成膜部(２５)の上流側および下流側に配置した一対の可動ローラ(３３，３４)間でフィルム(２２)を支持し、フィルム(２２)を成膜位置においてほぼ直線的に走行させる。これによりシャワープレート(３７)とフィルム(２２)間の対向距離を一定に保持して膜質の均質化を図る。フィルム(２２)は、その裏面側で同時走行する金属ベルト(４０)により加熱される。可動ローラ(３３，３４)は成膜位置からセルフクリーニング位置へ上昇可能に構成し、フィルム(２２)をシャワープレート(３７)から遠ざけられるようにする。そして、マスク(５１)の開口部をシャッタ(６５)で塞ぎ、クリーニングガスの漏出を防いで成膜中のセルフクリーニングを実行可能とする。
摘要翻译：可以在膜沉积期间进行等离子体等离子体CVD装置，其中可以通过将膜反应气体均匀地供应到成膜区域并且膜沉积部分的自清洁来使膜质量均匀。膜（22）被支撑在相对于膜的移动方向布置在成膜部分（25）的上游侧和下游侧的一对可动辊（33,34）之间，然后将膜（22））在成膜位置基本线性地移动。因此，喷淋板（37）和膜（22）之间的距离保持恒定，并且使膜质量均匀。薄膜（22）通过金属带（40）加热，金属带同时在薄膜的背面移动。可移动辊（33,34）可以从成膜位置上升到自清洁位置，并且膜（22）可以与喷淋板（37）分离。通过用挡板（65）封闭掩模（51）的开口，从而防止清洗气体的泄漏，可以在膜沉积期间进行自清洁。

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