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1. 发明申请

WO2006088024A1 巻取式真空成膜装置审中-公开
标题翻译：旋转真空喷雾装置
公开(公告)号：WO2006088024A1
公开(公告)日：2006-08-24
申请号：PCT/JP2006/302550
申请日：2006-02-14
申请人：株式会社アルバック , 林信博 , 横井伸 , 多田勲 , 中塚篤
发明人：林信博 , 横井伸 , 多田勲 , 中塚篤
IPC分类号： C23C14/56
CPC分类号： C23C14/042 , C23C14/54 , C23C14/562
摘要：　絶縁性の原料フィルムの熱変形を抑制し、高速で金属膜を成膜して生産性向上を図ることができ、更にはフィルムの除電効果を高めることができる巻取式真空成膜装置を提供する。　巻出しローラ１３と蒸発源１６との間に配置され原料フィルム１２に荷電粒子を照射する電子ビーム照射器２１と、冷却用キャンローラ１４と巻取りローラ１５との間に配置され原料フィルム１２の成膜面に接触して当該原料フィルム１２の走行をガイドする補助ローラ１８と、キャンローラ１４と補助ローラ１８との間に直流電圧を印加する直流バイアス電源２２と、キャンローラ１４と巻取りローラ１５との間に配置され原料フィルム１２を除電する除電ユニット２３とを備え、当該除電ユニット２３を、一方の電極が接地された直流二極放電型プラズマ発生源で構成する。　
摘要翻译：抑制绝缘材料膜的热变形的卷筒式真空溅镀装置，高速地形成金属膜，能够提高生产效率，提高膜的中和效果。卷筒式真空溅镀装置包括设置在进料辊（13）和蒸发源（16）之间并将带电粒子朝向材料膜（12）发射的电子束照射器（21），辅助辊（18）与所述侧膜（12）的成膜表面接触以引导所述材料膜（12）的移动的冷却罐辊（14）和卷取辊（15），DC偏置电源（22），用于在罐辊（14）和辅助辊（18）之间施加DC电压;以及中和单元（23），设置在罐辊（14）和卷取辊（15）之间，并且中和材料薄膜（12）。中和单元（23）由一个电极接地的双电极DC放电等离子体发生源构成。

2. 发明申请

WO2009128132A1 巻取式真空成膜装置审中-公开
标题翻译：卷绕真空膜涂装置
公开(公告)号：WO2009128132A1
公开(公告)日：2009-10-22
申请号：PCT/JP2008/057286
申请日：2008-04-14
申请人：株式会社アルバック , 横井伸 , 野村常仁 , 中塚篤 , 多田勲
发明人：横井伸 , 野村常仁 , 中塚篤 , 多田勲
IPC分类号： C23C14/58 , C23C14/14 , C23C14/56
CPC分类号： C23C14/562 , C23C14/541
摘要：【課題】装置を大型化することなく、除電ユニットからの漏出荷電粒子に起因する基材の熱変形を防止することができる巻取式真空成膜装置を提供する。【解決手段】本発明に係る巻取式真空成膜（蒸着）装置１０は、冷却用キャンローラ１４と除電ユニット２３の間に、除電ユニット２３からキャンローラ１４へ向かう荷電粒子を捕捉する電荷捕捉体２５を備える。これにより、除電ユニット２５から漏出した荷電粒子がキャンローラ１４へ到達することを阻止して、キャンローラ１４に印加された基材との密着用のバイアス電位の変動を抑止し、基材１２に対する静電力を安定に保持する。これにより、基材１２とキャンローラ１４の間の密着力が安定に保持されるので、基材１２の熱変形が防止されることになる。
摘要翻译：本发明提供一种绕线式真空膜涂敷装置，其中，可以避免在不增加装置尺寸的情况下避免由中和装置引起的带电颗粒引起的基材的热变形。用于解决问题的手段根据本发明的绕组式真空膜涂覆（沉积）装置（10）包括用于捕获从中和单元（23）到罐辊（14）的带电粒子的电荷捕获体（25））在用于冷却的罐辊（14）和中和装置（23）之间。由此，能够防止从中和单元（23）泄漏的带电粒子到达罐辊（14），因此抑制了与母材紧密接触的罐辊（14）的偏置电位的波动，施加在基材（12）上的力保持稳定。因此，由于基材（12）与罐辊（14）之间的紧密接触力保持稳定，因此可以避免基材（12）的热变形。

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