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    • 1. 发明授权
    • Method of producing anti-reflection film
    • 防反射膜的制造方法
    • US07351447B2
    • 2008-04-01
    • US10804073
    • 2004-03-19
    • Mitsuhiro NishidaYukihiro KusanoNobuko Kato
    • Mitsuhiro NishidaYukihiro KusanoNobuko Kato
    • B05D5/06
    • G02B1/115G02B1/116G02B1/16Y10T428/24942Y10T428/256Y10T428/259
    • A method of producing an anti-reflection film includes forming a first layer on a transparent substrate, forming a second layer on the first layer, and forming the third layer on the second layer. When an optical admittance Y at a surface of the second layer is represented by, Y = H E = ( x + iy ) where i is the imaginary number unit, thicknesses and reflective indexes of the substrate, first layer, second layer, and third layer are selected so that x and y satisfy the following formula, 0.9x{(n2−n02)/2n0}2
    • 防反射膜的制造方法包括在透明基板上形成第一层,在第一层上形成第二层,在第二层上形成第三层。 当第二层的表面的光导纳Y表示为: MI> = x + iy 其中i是虚数单位,选择衬底,第一层,第二层和第三层的厚度和反射指数,使得x和y满足下列公式 ,<?in-line-formula description =“In-line Formulas”end =“lead”?> 0.9x {(n 2 -n {/(N + 2)+ 2 <0 2 2 α-in-line-formula description =“In-line-formula description =”In-line-formula description =“In-line-formula description =”In- 线公式“end =”tail“?>其中n是第三层的折射率,n <0>是折射率 在防反射膜的外侧的外部区域。