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1. 发明专利

TW202030474A Ｆａｃｅｔ區域之檢測方法及檢測裝置和晶圓之生成方法及雷射加工裝置审中-公开
简体标题：Ｆａｃｅｔ区域之检测方法及检测设备和晶圆之生成方法及激光加工设备
公开(公告)号：TW202030474A
公开(公告)日：2020-08-16
申请号：TW108140372
申请日：2019-11-07
申请人：日商迪思科股份有限公司 , DISCO CORPORATION
发明人：伊藤優作 , ITO, YUSAKU , 村澤尚樹 , MURAZAWA, NAOKI , 平田和也 , HIRATA, KAZUYA
IPC分类号： G01N21/64 , B23K26/062
摘要： [課題] 提供一種SiC晶錠的Facet區域之檢測方法，其可檢測Facet區域與非Facet區域。 [解決手段] Facet區域之檢測方法，係包含有：螢光亮度檢測工程，從SiC晶錠(84)的上面對SiC晶錠(84)照射預定波長之激發光(EL)，檢測SiC固有的螢光亮度；及座標設定工程，在螢光亮度檢測工程中，將螢光亮度為預定值以上的區域設成非Facet區域(100)，並將螢光亮度低於該預定值的區域設成Facet區域(98)，以設定Facet區域(98)與非Facet區域(100)之邊界的座標。
简体摘要： [课题] 提供一种SiC晶锭的Facet区域之检测方法，其可检测Facet区域与非Facet区域。 [解决手段] Facet区域之检测方法，系包含有：萤光亮度检测工程，从SiC晶锭(84)的上面对SiC晶锭(84)照射预定波长之激发光(EL)，检测SiC固有的萤光亮度；及座标设置工程，在萤光亮度检测工程中，将萤光亮度为预定值以上的区域设成非Facet区域(100)，并将萤光亮度低于该预定值的区域设成Facet区域(98)，以设置Facet区域(98)与非Facet区域(100)之边界的座标。

2. 发明专利

TW202026429A 多色螢光激發及偵測裝置审中-公开
简体标题：多色萤光激发及侦测设备
公开(公告)号：TW202026429A
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：TW108128375
申请日：2019-08-08
申请人：新加坡商台達電子國際(新加坡)私人有限公司 , DELTA ELECTRONICS INT'L (SINGAPORE) PTE LTD
发明人：馬勃 , MA, BO , 游杰穎 , YIU, JEI-YIN , 梁騫 , LIANG, QIAN
IPC分类号： C12Q1/68 , C12Q1/6844 , G01N21/64 , G02B3/12 , G02B26/00 , B01L3/00
摘要：本案揭露一種多色螢光激發及偵測裝置，包含至少一發光模組、卡匣、液態鏡片模組及至少一偵測模組。發光模組提供具有特定波長範圍之照明光。卡匣包含偵測晶片，偵測晶片包含複數個偵測槽，環繞設置於偵測晶片之外圍，每一偵測槽內容置對應之螢光試樣，且偵測槽包含第一壁面及第二壁面。照明光穿透第一壁面以照射偵測槽內之螢光試樣，並激發螢光試樣以產生螢光訊號穿透第二壁面。液態鏡片模組包含至少一液態鏡片貼附設置於第二壁面上，當螢光訊號穿透第二壁面及液態鏡片時可被增強。偵測模組接收增強後之螢光訊號，並將之轉換為電訊號。
简体摘要：本案揭露一种多色萤光激发及侦测设备，包含至少一发光模块、卡匣、液态镜片模块及至少一侦测模块。发光模块提供具有特定波长范围之照明光。卡匣包含侦测芯片，侦测芯片包含复数个侦测槽，环绕设置于侦测芯片之外围，每一侦测槽内容置对应之萤光试样，且侦测槽包含第一壁面及第二壁面。照明光穿透第一壁面以照射侦测槽内之萤光试样，并激发萤光试样以产生萤光信号穿透第二壁面。液态镜片模块包含至少一液态镜片贴附设置于第二壁面上，当萤光信号穿透第二壁面及液态镜片时可被增强。侦测模块接收增强后之萤光信号，并将之转换为电信号。

3. 发明专利

TWI698942B 寬能隙半導體基板之缺陷檢查裝置有权
简体标题：宽能隙半导体基板之缺陷检查设备
公开(公告)号：TWI698942B
公开(公告)日：2020-07-11
申请号：TW106117345
申请日：2017-05-25
申请人：日商東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING CO., LTD.
发明人：村田浩之 , MURATA, HIROYUKI
IPC分类号： H01L21/66 , G01N21/64 , G01N21/956 , G01N21/88

4. 发明专利

TWI698226B 腫瘤部位的診斷裝置、攝像方法有权
简体标题：肿瘤部位的诊断设备、摄像方法
公开(公告)号：TWI698226B
公开(公告)日：2020-07-11
申请号：TW105111370
申请日：2016-04-12
申请人：日商牛尾電機股份有限公司 , USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
发明人：里村一人 , SATOMURA, KAZUHITO , 舘原誠晃 , TATEHARA, SEIKO , 益田秀之 , MASUDA, HIDEYUKI , 木村誠 , KIMURA, MAKOTO , 位田大樹 , IDA, HIROKI
IPC分类号： A61C19/04 , G01N21/64

5. 发明专利

TW202018275A 微流體裝置以及製造微流體裝置的方法审中-公开
简体标题：微流体设备以及制造微流体设备的方法
公开(公告)号：TW202018275A
公开(公告)日：2020-05-16
申请号：TW108127342
申请日：2019-08-01
申请人：美商康寧公司 , CORNING INCORPORATED
发明人：方曄 , FANG, YE , 張銳 , ZHANG, RUI
IPC分类号： G01N21/64 , G01N33/50 , C12Q1/68 , C03C3/091 , C03C27/06
摘要：一種微流體裝置包括：一流動通道，其安置於一基於玻璃之基板中；及一蓋，其結合至該基於玻璃之基板且至少部分覆蓋該流動通道，使得該蓋具有至多200 µm之一厚度。
简体摘要：一种微流体设备包括：一流动信道，其安置于一基于玻璃之基板中；及一盖，其结合至该基于玻璃之基板且至少部分覆盖该流动信道，使得该盖具有至多200 µm之一厚度。

6. 发明专利

TWI693471B 著色組成物、螢光感測器及螢光感測器的製造方法有权
简体标题：着色组成物、萤光传感器及萤光传感器的制造方法
公开(公告)号：TWI693471B
公开(公告)日：2020-05-11
申请号：TW105123973
申请日：2016-07-29
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：上村哲也 , KAMIMURA, TETSUYA
IPC分类号： G03F7/004 , C09B35/039 , G02B5/20 , G01N21/64 , G01N33/52 , G01N33/68 , G03F7/20 , G03F7/26

7. 发明专利

TWI692446B 磁珠、製造該磁珠之方法及使用該磁珠之檢測方法及套組有权
简体标题：磁珠、制造该磁珠之方法及使用该磁珠之检测方法及套组
公开(公告)号：TWI692446B
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：TW108118306
申请日：2019-05-28
申请人：國立臺灣科技大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
发明人：陳建光 , CHEN, CHIEN-KUANG , 鄒秉桓 , CHOU, PING-HUAN
IPC分类号： C01G49/08 , H01F1/11 , B82Y15/00 , B82Y40/00 , G01N21/76 , G01N33/92 , G01N21/64

8. 发明专利

TW202014696A 用於定序的方法以及用於定序的系統审中-公开
简体标题：用于定序的方法以及用于定序的系统
公开(公告)号：TW202014696A
公开(公告)日：2020-04-16
申请号：TW109100583
申请日：2018-02-27
申请人：美商伊路米納有限公司 , ILLUMINA, INC.
发明人：隆格洛一斯羅伯特 , LANGLOIS, ROBERT , 班里特茲保羅 , BELITZ, PAUL
IPC分类号： G01N21/64 , G06T5/00 , H04N5/357
摘要：本發明描述用於在具有重複光點之圖案化樣品的成像期間動態地修正影像失真的技術。可在多循環成像運程之第一成像循環期間針對樣品之不同區計算影像失真修正係數之不同集合，且隨後將該些集合即時地應用於在後續循環期間產生之影像資料。在一個實施中，可藉由以下操作計算用於具有重複光點之圖案化樣品之影像的影像失真修正係數：估計該影像之仿射變換；使該影像清晰化；及反覆地搜尋用於經清晰化影像之最佳失真修正係數集合，其中反覆地搜尋用於該經清晰化影像之該最佳失真修正係數集合包括計算該影像中之光點部位的平均純度，且其中在該搜尋之每一反覆期間應用所估計仿射變換。
简体摘要：本发明描述用于在具有重复光点之图案化样品的成像期间动态地修正影像失真的技术。可在多循环成像运程之第一成像循环期间针对样品之不同区计算影像失真修正系数之不同集合，且随后将该些集合实时地应用于在后续循环期间产生之影像数据。在一个实施中，可借由以下操作计算用于具有重复光点之图案化样品之影像的影像失真修正系数：估计该影像之仿射变换；使该影像清晰化；及反复地搜索用于经清晰化影像之最佳失真修正系数集合，其中反复地搜索用于该经清晰化影像之该最佳失真修正系数集合包括计算该影像中之光点部位的平均纯度，且其中在该搜索之每一反复期间应用所估计仿射变换。

9. 发明专利

TW202010519A 石墨烯為主之多功能材料應用於生物醫學之方法审中-公开
简体标题：石墨烯为主之多功能材料应用于生物医学之方法
公开(公告)号：TW202010519A
公开(公告)日：2020-03-16
申请号：TW107131501
申请日：2018-09-07
申请人：郭文碩 , KUO, WEN SHUO
发明人：郭文碩 , KUO, WEN SHUO
IPC分类号： A61K49/00 , C01B32/182 , B82Y15/00 , G01N21/64
摘要：本發明係製備一系列石墨烯為主的多功能材料，當作探針應用於生物醫學偵測領域之方法，包含光動力治療、光熱治療、光致發光/冷光探針、磁振造影、正子發射斷層掃描、與光聲成像等。且不同尺寸之材料於不同應用上有不同之效果。
简体摘要：本发明系制备一系列石墨烯为主的多功能材料，当作探针应用于生物医学侦测领域之方法，包含光动力治疗、光热治疗、光致发光/冷光探针、磁振造影、正子发射断层扫描、与光声成像等。且不同尺寸之材料于不同应用上有不同之效果。

10. 发明专利

TWI685652B 用於判定晶圓上缺陷之資訊之系統及方法有权
简体标题：用于判定晶圆上缺陷之信息之系统及方法
公开(公告)号：TWI685652B
公开(公告)日：2020-02-21
申请号：TW108118407
申请日：2014-10-29
申请人：美商克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：帕倫巴史提法諾 , PALOMBA, STEFANO , 柯勤派維爾 , KOLCHIN, PAVEL , 哈里勞米克海爾 , HAURYLAU, MIKHAIL , 達納羅伯特 M , DANEN, ROBERT M. , 碩爾特大衛 W , SHORTT, DAVID W.
IPC分类号： G01N21/01 , G01N21/64 , G01N21/88

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