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1. 发明专利

TWI685652B 用於判定晶圓上缺陷之資訊之系統及方法有权
简体标题：用于判定晶圆上缺陷之信息之系统及方法
公开(公告)号：TWI685652B
公开(公告)日：2020-02-21
申请号：TW108118407
申请日：2014-10-29
申请人：美商克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：帕倫巴史提法諾 , PALOMBA, STEFANO , 柯勤派維爾 , KOLCHIN, PAVEL , 哈里勞米克海爾 , HAURYLAU, MIKHAIL , 達納羅伯特 M , DANEN, ROBERT M. , 碩爾特大衛 W , SHORTT, DAVID W.
IPC分类号： G01N21/01 , G01N21/64 , G01N21/88

2. 发明专利

TWI664415B 用於判定晶圓上缺陷之資訊之系統及方法有权
简体标题：用于判定晶圆上缺陷之信息之系统及方法
公开(公告)号：TWI664415B
公开(公告)日：2019-07-01
申请号：TW103137472
申请日：2014-10-29
申请人：美商克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：帕倫巴史提法諾 , PALOMBA, STEFANO , 柯勤派維爾 , KOLCHIN, PAVEL , 哈里勞米克海爾 , HAURYLAU, MIKHAIL , 達納羅伯特M , DANEN, ROBERT M. , 碩爾特大衛W , SHORTT, DAVID W.
IPC分类号： G01N21/01 , G01N21/64 , G01N21/88

3. 发明专利

TWI688760B 使用表面增強電場之缺陷偵測有权
简体标题：使用表面增强电场之缺陷侦测
公开(公告)号：TWI688760B
公开(公告)日：2020-03-21
申请号：TW103108473
申请日：2014-03-11
申请人：美商克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：趙國衡 , ZHAO, GUOHENG , 碩爾特大衛W , SHORTT, DAVID W.
IPC分类号： G01N21/552 , G01N21/68 , G01N21/88

4. 发明专利

TWI621153B 用來使用雷射支持之電漿照明輸出對樣本成像之系統與方法有权
简体标题：用来使用激光支持之等离子照明输出对样本成像之系统与方法
公开(公告)号：TWI621153B
公开(公告)日：2018-04-11
申请号：TW103127980
申请日：2014-08-14
申请人：美商克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：碩爾特大衛W , SHORTT, DAVID W. , 藍居史蒂芬R , LANGE, STEVEN R. , 達斯汀馬修 , DERSTINE, MATTHEW , 葛洛斯肯尼斯P , GROSS, KENNETH P. , 趙偉 , ZHAO, WEI , 畢札爾伊爾亞 , BEZEL, ILYA , 斯奇密利尼亞納圖里 , SHCHEMELININ, ANATOLY
IPC分类号： H01J65/04 , H05G2/00
CPC分类号： G21K5/00

5. 发明专利

TW201515058A 用來使用雷射支持之電漿照明輸出對樣本成像之系統與方法审中-公开
简体标题：用来使用激光支持之等离子照明输出对样本成像之系统与方法
公开(公告)号：TW201515058A
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：TW103127980
申请日：2014-08-14
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：碩爾特大衛W , SHORTT, DAVID W. , 藍居史蒂芬R , LANGE, STEVEN R. , 達斯汀馬修 , DERSTINE, MATTHEW , 葛洛斯肯尼斯P , GROSS, KENNETH P. , 趙偉 , ZHAO, WEI , 畢札爾伊爾亞 , BEZEL, ILYA , 斯奇密利尼亞納圖里 , SHCHEMELININ, ANATOLY
IPC分类号： H01J65/04 , H05G2/00
CPC分类号： G21K5/00
摘要：本發明揭示使用來自一雷射支持之電漿之VUV光進行一樣本之檢測，其包含：產生包含一第一選定波長或波長範圍之幫浦照明；容納適用於電漿產生之一氣體容積；藉由將該幫浦照明聚焦至該氣體容積中而在該氣體容積內形成一電漿，進而產生包含一第二選定波長或波長範圍之寬頻輻射；使用自該電漿發射之該寬頻輻射經由一照明路徑對一樣本之一表面進行照明；使來自該樣本之一表面之照明集光；將該經集光照明經由一集光路徑聚焦至一偵測器上，以形成該樣本之該表面之至少一部分之影像；及使用一選定清洗氣體沖洗該照明路徑及/或該集光路徑。
简体摘要：本发明揭示使用来自一激光支持之等离子之VUV光进行一样本之检测，其包含：产生包含一第一选定波长或波长范围之帮浦照明；容纳适用于等离子产生之一气体容积；借由将该帮浦照明聚焦至该气体容积中而在该气体容积内形成一等离子，进而产生包含一第二选定波长或波长范围之宽带辐射；使用自该等离子发射之该宽带辐射经由一照明路径对一样本之一表面进行照明；使来自该样本之一表面之照明集光；将该经集光照明经由一集光路径聚焦至一侦测器上，以形成该样本之该表面之至少一部分之影像；及使用一选定清洗气体冲洗该照明路径及/或该集光路径。

6. 发明专利

TW201447271A 使用表面增強電場之缺陷偵測审中-公开
简体标题：使用表面增强电场之缺陷侦测
公开(公告)号：TW201447271A
公开(公告)日：2014-12-16
申请号：TW103108473
申请日：2014-03-11
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：趙國衡 , ZHAO, GUOHENG , 碩爾特大衛W , SHORTT, DAVID W.
IPC分类号： G01N21/552 , G01N21/68 , G01N21/88
CPC分类号： G01N21/94 , G01N21/33 , G01N21/47 , G01N21/8806 , G01N21/9501 , G01N2021/8848 , G01N2201/06113
摘要：本發明揭示一種用於偵測來自一晶圓上已由一漸逝波所感應之一增強電場激發之粒子之散射光的系統及方法。一固體浸沒透鏡接近於晶圓表面定位。該透鏡之前平坦表面平行於該晶圓表面使得維持一空氣間隙。一深紫外線光源發射透過該固體浸沒透鏡以臨界角照射該表面藉此產生一漸逝波之一雷射束。在該晶圓表面處產生該漸逝波所感應之一增強電場。該空氣間隙距離小於由該DUV光源發射之波長。該固體浸沒透鏡由一透鏡支撐件支撐。由該增強電場激發之該等粒子之該散射光藉由該固體浸沒透鏡耦合至遠場且由一第一透鏡及一第二透鏡收集。一偵測器接收所收集信號且產生一對應偵測器信號。一處理器接收並分析該偵測器信號以識別缺陷。
简体摘要：本发明揭示一种用于侦测来自一晶圆上已由一渐逝波所感应之一增强电场激发之粒子之散射光的系统及方法。一固体浸没透镜接近于晶圆表面定位。该透镜之前平坦表面平行于该晶圆表面使得维持一空气间隙。一深紫外线光源发射透过该固体浸没透镜以临界角照射该表面借此产生一渐逝波之一激光束。在该晶圆表面处产生该渐逝波所感应之一增强电场。该空气间隙距离小于由该DUV光源发射之波长。该固体浸没透镜由一透镜支撑件支撑。由该增强电场激发之该等粒子之该散射光借由该固体浸没透镜耦合至远场且由一第一透镜及一第二透镜收集。一侦测器接收所收集信号且产生一对应侦测器信号。一处理器接收并分析该侦测器信号以识别缺陷。

7. 发明专利

TW201522938A 判定晶圓上缺陷之資訊审中-公开
简体标题：判定晶圆上缺陷之信息
公开(公告)号：TW201522938A
公开(公告)日：2015-06-16
申请号：TW103137472
申请日：2014-10-29
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：帕倫巴史提法諾 , PALOMBA, STEFANO , 柯勤派維爾 , KOLCHIN, PAVEL , 哈里勞米克海爾 , HAURYLAU, MIKHAIL , 達納羅伯特M , DANEN, ROBERT M. , 碩爾特大衛W , SHORTT, DAVID W.
IPC分类号： G01N21/01 , G01N21/64 , G01N21/88
CPC分类号： G01N21/9501 , G01N21/64 , G01N21/6489 , G01N21/94 , G01N2201/0612 , G01N2201/12
摘要：本發明揭示用於判定一晶圓上缺陷之資訊之系統及方法。一種系統包含經組態以將具有一或多個照明波長之光引導至一晶圓之一照明子系統。該一或多個照明波長經選定以使該晶圓上之一或多種材料發螢光而不使該晶圓上之一或多種其他材料發螢光。該系統亦包含一偵測子系統，該偵測子系統經組態以僅偵測來自一或多種材料之螢光，或偵測來自該晶圓之非螢光而不偵測來自一或多種材料之螢光。另外，該系統包含一電腦子系統，該電腦子系統經組態以使用由該偵測子系統回應於所偵測之螢光或所偵測之非螢光所產生之輸出來判定該晶圓上缺陷之資訊。
简体摘要：本发明揭示用于判定一晶圆上缺陷之信息之系统及方法。一种系统包含经组态以将具有一或多个照明波长之光引导至一晶圆之一照明子系统。该一或多个照明波长经选定以使该晶圆上之一或多种材料发萤光而不使该晶圆上之一或多种其他材料发萤光。该系统亦包含一侦测子系统，该侦测子系统经组态以仅侦测来自一或多种材料之萤光，或侦测来自该晶圆之非萤光而不侦测来自一或多种材料之萤光。另外，该系统包含一电脑子系统，该电脑子系统经组态以使用由该侦测子系统回应于所侦测之萤光或所侦测之非萤光所产生之输出来判定该晶圆上缺陷之信息。

8. 发明专利

TW201448678A 用於控制一光維持電漿中之對流之方法及系統审中-公开
简体标题：用于控制一光维持等离子中之对流之方法及系统
公开(公告)号：TW201448678A
公开(公告)日：2014-12-16
申请号：TW103111853
申请日：2014-03-28
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：畢札爾伊爾亞 , BEZEL, ILYA , 斯奇密利尼亞納圖里 , SHCHEMELININ, ANATOLY , 達斯汀馬修 , DERSTINE, MATTHEW , 葛洛斯肯恩 , GROSS, KEN , 碩爾特大衛W , SHORTT, DAVID W. , 趙偉 , ZHAO, WEI , 奇瑪吉亞納特 , CHIMMALGI, ANANT , 王金誠 , WANG, JINCHENG
IPC分类号： H05H1/46
CPC分类号： H01J65/042 , H01J61/28 , H01J61/523 , H01J65/00 , H05H1/24
摘要：一種用於控制一光維持電漿中之對流之系統，其包含：經組態以產生照明之一照明源、包含用於容納一氣體體積之一球管之一電漿室、經配置以將來自該照明源之照明集中於該氣體體積中以便在被容納於該球管內之該氣體體積內產生一電漿之一收集器元件。此外，該電漿室經安置於該收集器元件之一凹形區域內，其中該收集器元件包含一開口，用以將該電漿之一煙流之一部分傳播至在該收集元件之該凹形區域外之一區域。
简体摘要：一种用于控制一光维持等离子中之对流之系统，其包含：经组态以产生照明之一照明源、包含用于容纳一气体体积之一球管之一等离子室、经配置以将来自该照明源之照明集中于该气体体积中以便在被容纳于该球管内之该气体体积内产生一等离子之一收集器组件。此外，该等离子室经安置于该收集器组件之一凹形区域内，其中该收集器组件包含一开口，用以将该等离子之一烟流之一部分传播至在该收集组件之该凹形区域外之一区域。

9. 发明专利

TWI613936B 用於控制一光維持電漿中之對流之方法及系統有权
简体标题：用于控制一光维持等离子中之对流之方法及系统
公开(公告)号：TWI613936B
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW103111853
申请日：2014-03-28
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：畢札爾伊爾亞 , BEZEL, ILYA , 斯奇密利尼亞納圖里 , SHCHEMELININ, ANATOLY , 達斯汀馬修 , DERSTINE, MATTHEW , 葛洛斯肯恩 , GROSS, KEN , 碩爾特大衛W , SHORTT, DAVID W. , 趙偉 , ZHAO, WEI , 奇瑪吉亞納特 , CHIMMALGI, ANANT , 王金誠 , WANG, JINCHENG
IPC分类号： H05H1/46
CPC分类号： H01J65/042 , H01J61/28 , H01J61/523 , H01J65/00 , H05H1/24

10. 发明专利

TWI590194B 使用缺陷特定及多通道資訊檢測晶圓上之缺陷有权
简体标题：使用缺陷特定及多信道信息检测晶圆上之缺陷
公开(公告)号：TWI590194B
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW103103822
申请日：2014-02-05
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：吳肯翁 , WU, KENONG , 高理升 , GAO, LISHENG , 陳葛雷斯秀玲 , CHEN, GRACE HSIU-LING , 碩爾特大衛W , SHORTT, DAVID W.
IPC分类号： G06T7/00
CPC分类号： G06T7/0008 , G01N21/8806 , G01N21/8851 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/8822 , G01N2021/8848 , G06T7/001 , G06T2207/30148 , H01L22/12 , H01L22/34

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