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    • 6. 发明专利
    • 半導體裝置之製造方法及黏著薄片
    • 半导体设备之制造方法及黏着薄片
    • TW201842596A
    • 2018-12-01
    • TW107111208
    • 2018-03-30
    • 日商琳得科股份有限公司LINTEC CORPORATION
    • 阿久津高志AKUTSU, TAKASHI岡本直也OKAMOTO, NAOYA中山武人NAKAYAMA, TAKEHITO
    • H01L21/56H01L23/31C09J7/25C09J7/40B32B7/06
    • 本發明提供半導體裝置之製造方法及該製造方法所用之黏著薄片,該半導體裝置之製造方法係使用黏著薄片來製造半導體裝置之方法,該黏著薄片具有:黏著劑層、與包含膨脹性粒子且為非黏著性的基材,具有下述步驟(1)~(4),   步驟(1):將形成有開口部的框構件貼合於黏著劑層的黏著表面之步驟;   步驟(2):將半導體晶片載置於在前述框構件的前述開口部露出的前述黏著劑層的黏著表面的一部分之步驟;   步驟(3):以密封材來被覆前述半導體晶片、前述框構件、與前述黏著劑層的黏著表面中的前述半導體晶片的周邊部,使該密封材硬化,得到前述半導體晶片被硬化密封材所密封而成的硬化密封體之步驟;   步驟(4):使前述膨脹性粒子膨脹,將前述黏著薄片從前述硬化密封體上剝離之步驟。   該製造方法可抑制扇出型封裝之製造步驟中之半導體晶片發生位置偏移,且生產性優異,所得之半導體裝置之再配線層形成面之平坦性優異。
    • 本发明提供半导体设备之制造方法及该制造方法所用之黏着薄片,该半导体设备之制造方法系使用黏着薄片来制造半导体设备之方法,该黏着薄片具有:黏着剂层、与包含膨胀性粒子且为非黏着性的基材,具有下述步骤(1)~(4),   步骤(1):将形成有开口部的框构件贴合于黏着剂层的黏着表面之步骤;   步骤(2):将半导体芯片载置于在前述框构件的前述开口部露出的前述黏着剂层的黏着表面的一部分之步骤;   步骤(3):以密封材来被覆前述半导体芯片、前述框构件、与前述黏着剂层的黏着表面中的前述半导体芯片的周边部,使该密封材硬化,得到前述半导体芯片被硬化密封材所密封而成的硬化密封体之步骤;   步骤(4):使前述膨胀性粒子膨胀,将前述黏着薄片从前述硬化密封体上剥离之步骤。   该制造方法可抑制扇出型封装之制造步骤中之半导体芯片发生位置偏移,且生产性优异,所得之半导体设备之再配线层形成面之平坦性优异。
    • 9. 发明专利
    • 保護膜及其製造方法、保護膜用積層體、表面保護物品
    • 保护膜及其制造方法、保护膜用积层体、表面保护物品
    • TW202003745A
    • 2020-01-16
    • TW108112492
    • 2019-04-10
    • 日商捷恩智股份有限公司JNC CORPORATION
    • 飯塚洋介IIZUKA, HIROYUKI宮内英紀MIYAUCHI, HIDEKI大熊康之OHGUMA, KOHJI伊藤功一ITOH, KOICHI
    • C09J7/25C09J7/29C09J133/08B32B3/30B32B27/40B32B27/00C09J183/08C09D143/04C09D133/14C09D133/12C09D4/02C09D175/16C09D7/40
    • 本發明的課題在於提供一種使用包含熱塑性聚胺基甲酸酯的樹脂且耐污染性、耐衝擊性、施工性、防眩性優異的保護膜。進而,本發明的課題在於提供一種貼附特性優異且糊劑殘餘得到抑制的保護膜。本發明的保護膜包括:基材膜,由包含熱塑性聚胺基甲酸酯的樹脂所形成;以及黏著層,所述基材膜於與所述第一面為相反之側的第二面側具有所述熱塑性聚胺基甲酸酯與硬化性樹脂組成物混合存在的表面層,所述硬化性樹脂組成物含有選自由氟倍半矽氧烷及氟倍半矽氧烷聚合物所組成的群組中的至少一種氟化合物、以及硬化性樹脂,具有形成於所述基材膜的第一面側的耐衝擊性賦予層,或基材膜的第二面側的光澤度值未滿20。本發明的保護膜較佳為所述基材膜的厚度為50 μm~300 μm,所述耐衝擊性賦予層的厚度為20 μm~300 μm,所述黏著層的厚度為10 μm~100 μm,所述黏著層的表面粗糙度為300 nm~800nm。
    • 本发明的课题在于提供一种使用包含热塑性聚胺基甲酸酯的树脂且耐污染性、耐冲击性、施工性、防眩性优异的保护膜。进而,本发明的课题在于提供一种贴附特性优异且煳剂残余得到抑制的保护膜。本发明的保护膜包括:基材膜,由包含热塑性聚胺基甲酸酯的树脂所形成;以及黏着层,所述基材膜于与所述第一面为相反之侧的第二面侧具有所述热塑性聚胺基甲酸酯与硬化性树脂组成物混合存在的表面层,所述硬化性树脂组成物含有选自由氟倍半硅氧烷及氟倍半硅氧烷聚合物所组成的群组中的至少一种氟化合物、以及硬化性树脂,具有形成于所述基材膜的第一面侧的耐冲击性赋予层,或基材膜的第二面侧的光泽度值未满20。本发明的保护膜较佳为所述基材膜的厚度为50 μm~300 μm,所述耐冲击性赋予层的厚度为20 μm~300 μm,所述黏着层的厚度为10 μm~100 μm,所述黏着层的表面粗糙度为300 nm~800nm。