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    • 2. 发明专利
    • 有顏色的夜光膜
    • 有颜色的夜光膜
    • TW202022085A
    • 2020-06-16
    • TW107143232
    • 2018-12-03
    • 勤倫有限公司
    • 姚明賢
    • C09K11/00C09K11/02C09J7/29B32B27/18B32B27/00
    • 本發明係關於一種夜光膜,包含有:一夜光層,具有複數微膠囊夜光顆粒,各該微膠囊夜光顆粒具有一或多個夜光粒子,以及一包覆層,包覆該一或多個夜光粒子,且該包覆層係透明無色;一色彩層,具有至少一種顏色;該夜光層係設於該色彩層之一表面。藉此,於正常光線下,該色彩層的顏色為該夜光膜的外觀色彩;光線係容易穿透該微膠囊夜光顆粒之包覆層,使該夜光膜具有較佳之蓄存能量效率、發光輝度與發光時間。
    • 本发明系关于一种夜光膜,包含有:一夜光层,具有复数微胶囊夜光颗粒,各该微胶囊夜光颗粒具有一或多个夜光粒子,以及一包覆层,包覆该一或多个夜光粒子,且该包覆层系透明无色;一色彩层,具有至少一种颜色;该夜光层系设于该色彩层之一表面。借此,于正常光线下,该色彩层的颜色为该夜光膜的外观色彩;光线系容易穿透该微胶囊夜光颗粒之包覆层,使该夜光膜具有较佳之蓄存能量效率、发光辉度与发光时间。
    • 3. 发明专利
    • 黏著薄片用基材及電子零件加工用黏著薄片
    • 黏着薄片用基材及电子零件加工用黏着薄片
    • TW202018034A
    • 2020-05-16
    • TW108122764
    • 2019-06-28
    • 日商琳得科股份有限公司LINTEC CORPORATION
    • 高野健TAKANO, KEN
    • C09J7/29B32B27/08H01L23/29
    • 本發明之電子零件加工用之黏著薄片用基材(1),其係具有: 具有第1薄膜面(11A)及第2薄膜面(11B)的聚酯薄膜(11),第1寡聚物密封層(21),第2寡聚物密封層(22), 聚酯薄膜(11)為退火處理完成, 第1寡聚物密封層(21)及第2寡聚物密封層(22)各自獨立為使包含硬化性成分之寡聚物密封層形成用組成物硬化的硬化皮膜, 第1寡聚物密封層(21)及第2寡聚物密封層(22)實質上不含填充材, 第1寡聚物密封層(21)之第1基材面(21A)之均方根高度Rq1及第2寡聚物密封層(22)之第2基材面(22A)之均方根高度Rq2之至少一者為0.031μm以上。
    • 本发明之电子零件加工用之黏着薄片用基材(1),其系具有: 具有第1薄膜面(11A)及第2薄膜面(11B)的聚酯薄膜(11),第1寡聚物密封层(21),第2寡聚物密封层(22), 聚酯薄膜(11)为退火处理完成, 第1寡聚物密封层(21)及第2寡聚物密封层(22)各自独立为使包含硬化性成分之寡聚物密封层形成用组成物硬化的硬化皮膜, 第1寡聚物密封层(21)及第2寡聚物密封层(22)实质上不含填充材, 第1寡聚物密封层(21)之第1基材面(21A)之均方根高度Rq1及第2寡聚物密封层(22)之第2基材面(22A)之均方根高度Rq2之至少一者为0.031μm以上。
    • 6. 发明专利
    • 工件加工用片材及加工完成的工件的製造方法
    • 工件加工用片材及加工完成的工件的制造方法
    • TW202010811A
    • 2020-03-16
    • TW108101472
    • 2019-01-15
    • 日商琳得科股份有限公司LINTEC CORPORATION
    • 小笠原孝文OGASAWARA, TAKAFUMI坂本美紗季SAKAMOTO, MISAKI佐伯尚哉SAIKI, NAOYA
    • C09J7/29C09J7/35H01L21/301
    • 一種工件加工用片材,其係具備基材和黏著劑層之工件加工用片材,其中前述黏著劑層由活性能量射線固化性黏著劑所構成,前述黏著劑層中與前述基材為相反側的表面的水接觸角超過80°,前述工件加工用片材對矽晶圓的黏著力為5000mN/25mm以下,在前述黏著劑層中與前述基材為相反側的表面上積層包含甲基乙基酮的不織布,且在23℃、相對濕度為50%的環境下靜置15分鐘之後,使用前述不織布擦拭之前述表面,並藉由在23℃、相對濕度為50%的環境下靜置1小時而乾燥之前述表面所測量到的水接觸角為50°以上、80°以下。這種工件加工用片材,能夠將附著於加工後的工件的源自黏著劑層之黏著劑藉由流水良好地去除,而且可以將加工後的工件良好地分離。
    • 一种工件加工用片材,其系具备基材和黏着剂层之工件加工用片材,其中前述黏着剂层由活性能量射线固化性黏着剂所构成,前述黏着剂层中与前述基材为相反侧的表面的水接触角超过80°,前述工件加工用片材对硅晶圆的黏着力为5000mN/25mm以下,在前述黏着剂层中与前述基材为相反侧的表面上积层包含甲基乙基酮的不织布,且在23℃、相对湿度为50%的环境下静置15分钟之后,使用前述不织布擦拭之前述表面,并借由在23℃、相对湿度为50%的环境下静置1小时而干燥之前述表面所测量到的水接触角为50°以上、80°以下。这种工件加工用片材,能够将附着于加工后的工件的源自黏着剂层之黏着剂借由流水良好地去除,而且可以将加工后的工件良好地分离。
    • 9. 发明专利
    • 具有障壁黏著層之全聚乙烯層壓膜結構
    • 具有障壁黏着层之全聚乙烯层压膜结构
    • TW201910461A
    • 2019-03-16
    • TW107123214
    • 2018-07-04
    • 美商陶氏全球科技有限責任公司DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC
    • 塞海諾比斯 卡耶SEHANOBISH, KALYAN馬倫 阿米拉AMARINE, AMIRA A.梵西 丹尼爾VINCI, DANIELE
    • C09J7/24B32B27/32C09J7/29C09J7/30C09J9/00C09J175/06B32B7/12B65D65/40B65D75/28
    • 揭示一種適用於可撓性封裝之可再循環全聚乙烯層壓膜結構。所述結構包括基本上由乙烯類聚合物組成之膜層及安置於所述膜層之表面上之障壁黏著層,其中所述結構具有根據ASTM方法D3985所量測,不超過100 O2/平方公尺/天之氧氣透過率。揭示包括以下之適用於可撓性封裝之可再循環全聚乙烯層壓膜結構:(A) 基本上由乙烯類聚合物組成之密封膜層;(B)基本上由乙烯類聚合物組成之中間膜層;(C)基本上由乙烯類聚合物組成之結構膜層;及(D)障壁黏著層,其中所述可再循環全聚乙烯層壓膜結構具有根據ASTM方法D3985所量測,不超過100 O2/平方公尺/天之氧氣透過率。亦揭示包括所揭示之層壓膜結構之製品,諸如可撓性封裝及直立式小袋。
    • 揭示一种适用于可挠性封装之可再循环全聚乙烯层压膜结构。所述结构包括基本上由乙烯类聚合物组成之膜层及安置于所述膜层之表面上之障壁黏着层,其中所述结构具有根据ASTM方法D3985所量测,不超过100 O2/平方公尺/天之氧气透过率。揭示包括以下之适用于可挠性封装之可再循环全聚乙烯层压膜结构:(A) 基本上由乙烯类聚合物组成之密封膜层;(B)基本上由乙烯类聚合物组成之中间膜层;(C)基本上由乙烯类聚合物组成之结构膜层;及(D)障壁黏着层,其中所述可再循环全聚乙烯层压膜结构具有根据ASTM方法D3985所量测,不超过100 O2/平方公尺/天之氧气透过率。亦揭示包括所揭示之层压膜结构之制品,诸如可挠性封装及直立式小袋。