专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI695442B 清潔方法有权
简体标题：清洁方法
公开(公告)号：TWI695442B
公开(公告)日：2020-06-01
申请号：TW106142334
申请日：2017-12-04
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：田村辰也 , TAMURA, TATSUYA , 梅原隆人 , UMEHARA, TAKAHITO
IPC分类号： H01L21/67 , C23C16/455 , H01L21/02 , B08B1/00

2. 实用新型

TWM580575U 清洗擦拭用棉球有权
公开(公告)号：TWM580575U
公开(公告)日：2019-07-11
申请号：TW108203131
申请日：2019-03-13
申请人：陳家豪
发明人：陳家豪
IPC分类号： B65H54/58 , B65H54/56 , B08B1/00

3. 发明专利

TW201919785A 清潔核反應器之噴射泵總成之噴嘴之方法审中-公开
简体标题：清洁核反应器之喷射泵总成之喷嘴之方法
公开(公告)号：TW201919785A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107129758
申请日：2018-08-27
申请人：美商奇異日立核能美國有限公司 , GE-HITACHI NUCLEAR ENERGY AMERICAS LLC
发明人：威爾許克里斯多夫馬丁 , WELSH, CHRISTOPHER MARTIN
IPC分类号： B08B5/02 , B08B1/00 , G21C13/02
摘要：本發明揭示一種清潔一核反應器之一噴射泵總成之方法，該方法可包括藉由注射一氣體以沖洗出該噴射泵總成之填充有一第一液體之一內部中的該第一液體而抽空該內部以提供一經抽空表面。另外，該方法可包括將一第二液體之一噴射流引導至該經抽空表面上。
简体摘要：本发明揭示一种清洁一核反应器之一喷射泵总成之方法，该方法可包括借由注射一气体以冲洗出该喷射泵总成之填充有一第一液体之一内部中的该第一液体而抽空该内部以提供一经抽空表面。另外，该方法可包括将一第二液体之一喷射流引导至该经抽空表面上。

4. 发明专利

TWI653099B 擦拭機構及使用該擦拭機構之晶圓殘膠清潔裝置有权
简体标题：擦拭机构及使用该擦拭机构之晶圆残胶清洁设备
公开(公告)号：TWI653099B
公开(公告)日：2019-03-11
申请号：TW105114525
申请日：2016-05-11
申请人：萬潤科技股份有限公司 , ALL RING TECH CO.,LTD.
发明人：許耀廷 , 薛全萌
IPC分类号： B08B1/00 , B08B11/00 , H01L21/67

5. 发明专利

TW201817362A 洗牆機之刷輪著力深度控制方法及其裝置审中-公开
简体标题：洗墙机之刷轮着力深度控制方法及其设备
公开(公告)号：TW201817362A
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：TW105136347
申请日：2016-11-09
申请人：高建文 , KAO, CHIEN WEN
发明人：高建文 , KAO, CHIEN WEN
IPC分类号： A47L11/38 , B08B1/00
摘要：本發明提供一種洗牆機之刷輪著力深度控制方法，包括使用單一刷輪的輪面提供一著力點接觸牆面，並在該刷輪等圓周的至少一法線方向提供一抗力點接觸牆面，以控制該抗力點沿所述法線方向延伸至該刷輪輪面的距離，作為該刷輪輪面接觸牆面時的著力深度。本發明還提供實施上述方法的控制裝置，以改善傳統洗牆機於洗牆過程中容易在牆面上生成斑馬狀水垢紋路的問題。
简体摘要：本发明提供一种洗墙机之刷轮着力深度控制方法，包括使用单一刷轮的轮面提供一着力点接触墙面，并在该刷轮等圆周的至少一法线方向提供一抗力点接触墙面，以控制该抗力点沿所述法线方向延伸至该刷轮轮面的距离，作为该刷轮轮面接触墙面时的着力深度。本发明还提供实施上述方法的控制设备，以改善传统洗墙机于洗墙过程中容易在墙面上生成斑马状水垢纹路的问题。

6. 发明专利

TW201816102A 對基板施加處理劑之方法审中-公开
简体标题：对基板施加处理剂之方法
公开(公告)号：TW201816102A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106127624
申请日：2017-08-15
申请人：英商克塞羅斯公司 , XEROS LIMITED
发明人：拉維瑞艾丹 , LAVERY, AIDAN , 喬德胡瑞米林 , CHOWDHURY, MEHRIN
IPC分类号： C11D17/04 , C11D3/37 , C11D3/38 , C11D11/00 , B08B1/00 , B08B3/04 , B08B3/10 , D06M23/08 , D06L1/00 , D06P1/52
摘要：本發明提供一種對基材施加處理劑之方法，其中該處理劑在第一pH下結合固態高分子粒子，及其中將該基材在使得該處理劑從該固態高分子處理粒子釋放的條件下，接觸該固態高分子處理粒子。
简体摘要：本发明提供一种对基材施加处理剂之方法，其中该处理剂在第一pH下结合固态高分子粒子，及其中将该基材在使得该处理剂从该固态高分子处理粒子释放的条件下，接触该固态高分子处理粒子。

7. 发明专利

TW201741125A 具有釋汙力的消費性擦洗物品及其製造方法审中-公开
简体标题：具有释污力的消费性擦洗物品及其制造方法
公开(公告)号：TW201741125A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW106101752
申请日：2017-01-18
申请人： 3M新設資產公司 , 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY
发明人：寇爾史特瓦特漢瑞 , CORN, STEWART HENRY , 聖克魯斯溫蒂安 , SANTA CRUZ, WENDY ANN , 柯里馬修史考特 , COLE, MATTHEW SCOTT , 包威爾丹納德約翰 , POWELL, DENNARD JOHN , 葛尼斯伊布拉音姆舍大特 , GUNES, IBRAHIM SEDAT
IPC分类号： B32B5/26 , B08B1/00 , A47L13/16 , A47L17/08
CPC分类号： A47L13/16 , A47L17/08 , B32B5/26
摘要：一種擦洗物品，其包括一基材、一釋汙塗層及一紋理層。該釋汙塗層係施加至該基材，並存在於該基材的至少一主表面上，且該紋理層係形成於與該基材相對之該釋汙塗層上。在一些實施例中，該紋理層係印刷至該釋汙塗層上。該基材可採取多種形式，例如非織物、織物(諸如編織或針織)、發泡體、膜、及海綿材料、或其組合。
简体摘要：一种擦洗物品，其包括一基材、一释污涂层及一纹理层。该释污涂层系施加至该基材，并存在于该基材的至少一主表面上，且该纹理层系形成于与该基材相对之该释污涂层上。在一些实施例中，该纹理层系印刷至该释污涂层上。该基材可采取多种形式，例如非织物、织物(诸如编织或针织)、发泡体、膜、及海绵材料、或其组合。

8. 发明专利

TW201739524A 晶圓殘膠清潔方法及裝置审中-公开
简体标题：晶圆残胶清洁方法及设备
公开(公告)号：TW201739524A
公开(公告)日：2017-11-16
申请号：TW105114522
申请日：2016-05-11
申请人：萬潤科技股份有限公司 , ALL RING TECH CO.,LTD.
发明人：鄭偉呈 , 許耀廷 , 薛全萌
IPC分类号： B08B1/00 , B08B11/00 , H01L21/67 , G01N21/94
摘要：本發明提供一種晶圓殘膠清潔方法及裝置，包括：一機台上設有一移載區間；一龍門軌架將機台分隔出一第一工作區以及一第二工作區；一檢測機構，設於該龍門軌架一側；一取放機構，設於機台該第一工作區，包括相隔間距設置的二夾座；一載台，可受驅動而位移於第一工作區、第二工作區間，並自取放機構承接待施作工件或將待施作工件交付取放機構；一擦拭機構，設於該龍門軌架另一側，設有一壓抵座架及一拭材組件；該壓抵座架設有一第一壓抵組件，該拭材組件提供一拭材繞經其上；該第一壓抵組件可受驅動壓抵拭材對載台上的待施作工件進行殘膠清潔。
简体摘要：本发明提供一种晶圆残胶清洁方法及设备，包括：一机台上设有一移载区间；一龙门轨架将机台分隔出一第一工作区以及一第二工作区；一检测机构，设于该龙门轨架一侧；一取放机构，设于机台该第一工作区，包括相隔间距设置的二夹座；一载台，可受驱动而位移于第一工作区、第二工作区间，并自取放机构承接待施作工件或将待施作工件交付取放机构；一擦拭机构，设于该龙门轨架另一侧，设有一压抵座架及一拭材组件；该压抵座架设有一第一压抵组件，该拭材组件提供一拭材绕经其上；该第一压抵组件可受驱动压抵拭材对载台上的待施作工件进行残胶清洁。

9. 发明专利

TWI600628B 玻璃基板之製造方法、及玻璃基板之製造裝置有权
简体标题：玻璃基板之制造方法、及玻璃基板之制造设备
公开(公告)号：TWI600628B
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW104128508
申请日：2015-08-28
申请人：安瀚視特控股股份有限公司 , AVANSTRATE INC.
发明人：伊崎靖浩 , IZAKI, NOBUHIRO
IPC分类号： C03C23/00 , B08B3/04 , B08B11/04 , B08B1/00 , G02B5/20 , G02B5/22

10. 发明专利

TWI594032B 定長型光纖清潔裝置有权
简体标题：定长型光纤清洁设备
公开(公告)号：TWI594032B
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW104128309
申请日：2015-08-28
申请人：萬業科技股份有限公司
发明人：楊念祖
IPC分类号： G02B6/36 , B08B1/00

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式