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    • 2. 发明专利
    • 表面保護薄膜
    • 表面保护薄膜
    • TW201832938A
    • 2018-09-16
    • TW106145388
    • 2017-12-22
    • 日商日東電工股份有限公司NITTO DENKO CORPORATION
    • 渡部奈津子WATANABE, NATSUKO三井數馬MITSUI, KAZUMA野中崇弘NONAKA, TAKAHIRO
    • B32B27/36B32B27/08B32B5/18B32B7/12B32B7/06C09J133/08C09J175/04C09J183/04C09J7/02G02B5/30
    • 本發明之課題在於提供一種附分離件之光學用表面保護薄膜,其藉由在構成積層於光學用表面保護薄膜之分離件的聚酯系基材設置孔洞來降低聚酯系基材的比重,可降低分離件本身的重量,而具優異作業性,並且利用因具有孔洞而緩衝性優異的分離件可抑制因分離件所致的凹痕產生。 本發明之解決手段是一種附分離件之光學用表面保護薄膜,具有光學用表面保護薄膜及分離件,該光學用表面保護薄膜係於基材薄膜的至少單面具有黏著劑層者,且該分離件位於前述基材薄膜之與黏著劑層接觸之面為相反之面上;該附分離件之光學用表面保護薄膜之特徵在於:前述分離件具有脫模層與聚酯系基材,前述聚酯系基材中具有孔洞,且前述聚酯系基材的比重為1.2g/cm3以下。
    • 本发明之课题在于提供一种附分离件之光学用表面保护薄膜,其借由在构成积层于光学用表面保护薄膜之分离件的聚酯系基材设置孔洞来降低聚酯系基材的比重,可降低分离件本身的重量,而具优异作业性,并且利用因具有孔洞而缓冲性优异的分离件可抑制因分离件所致的凹痕产生。 本发明之解决手段是一种附分离件之光学用表面保护薄膜,具有光学用表面保护薄膜及分离件,该光学用表面保护薄膜系于基材薄膜的至少单面具有黏着剂层者,且该分离件位于前述基材薄膜之与黏着剂层接触之面为相反之面上;该附分离件之光学用表面保护薄膜之特征在于:前述分离件具有脱模层与聚酯系基材,前述聚酯系基材中具有孔洞,且前述聚酯系基材的比重为1.2g/cm3以下。
    • 3. 发明专利
    • 表面保護薄膜
    • 表面保护薄膜
    • TW201831628A
    • 2018-09-01
    • TW106145369
    • 2017-12-22
    • 日商日東電工股份有限公司NITTO DENKO CORPORATION
    • 渡邊奈津子WATANABE, NATSUKO三井數馬MITSUI, KAZUMA野中崇弘NONAKA, TAKAHIRO
    • C09J7/02C09J133/04B65D85/38
    • 本發明之課題係提供一種附分離件之光學用表面保護薄膜,係在使用自動貼合機調整附分離件之光學用表面保護薄膜之位置,而於光學構件表面貼合剝離分離件後之光學構件用表面保護薄膜時,具優異之利用分離件之位置調整性,而可於光學構件表面以正確位置貼附光學用表面保護薄膜。 本發明之解決手段係一種附分離件之光學用表面保護薄膜,具有光學用表面保護薄膜及分離件,該光學用表面保護薄膜係於基材薄膜的至少單面具有黏著劑層者,且該分離件位於前述基材薄膜之與黏著劑層接觸之面為相反之面上;該附分離件之光學用表面保護薄膜之特徵在於:前述分離件具有脫模層與基材,前述分離件之霧度在90%以上,且全光線透射率在50%以下。
    • 本发明之课题系提供一种附分离件之光学用表面保护薄膜,系在使用自动贴合机调整附分离件之光学用表面保护薄膜之位置,而于光学构件表面贴合剥离分离件后之光学构件用表面保护薄膜时,具优异之利用分离件之位置调整性,而可于光学构件表面以正确位置贴附光学用表面保护薄膜。 本发明之解决手段系一种附分离件之光学用表面保护薄膜,具有光学用表面保护薄膜及分离件,该光学用表面保护薄膜系于基材薄膜的至少单面具有黏着剂层者,且该分离件位于前述基材薄膜之与黏着剂层接触之面为相反之面上;该附分离件之光学用表面保护薄膜之特征在于:前述分离件具有脱模层与基材,前述分离件之雾度在90%以上,且全光线透射率在50%以下。
    • 5. 发明专利
    • 表面保護薄膜
    • 表面保护薄膜
    • TW201832915A
    • 2018-09-16
    • TW106145387
    • 2017-12-22
    • 日商日東電工股份有限公司NITTO DENKO CORPORATION
    • 渡部奈津子WATANABE, NATSUKO三井數馬MITSUI, KAZUMA野中崇弘NONAKA, TAKAHIRO
    • B32B5/18B32B27/36B32B27/08B32B7/12B32B7/06C09J133/08C09J7/02G02B5/30
    • 本發明之課題係提供一種附分離件之光學用表面保護薄膜,其藉由特定構成積層於光學用表面保護薄膜之分離件的聚酯系基材的厚度,並設置孔洞,來抑制分離件對黏著劑層的剝離力,使剝離性及作業性優異,並利用因具有孔洞而緩衝性優異之分離件而可抑制分離件所致的凹痕產生。 本發明之解決手段為一種附分離件之光學用表面保護薄膜,具有光學用表面保護薄膜及分離件,該光學用表面保護薄膜係於基材薄膜的至少單面具有黏著劑層者,且該分離件位於前述基材薄膜之與黏著劑層接觸之面為相反之面上;該附分離件之光學用表面保護薄膜之特徵在於:前述分離件具有脫模層與聚酯系基材,前述聚酯系基材具有孔洞,前述聚酯系基材之厚度為25~100μm,且前述分離件對前述黏著劑層之180°起始剝離力在0.7N/50mm以下。
    • 本发明之课题系提供一种附分离件之光学用表面保护薄膜,其借由特定构成积层于光学用表面保护薄膜之分离件的聚酯系基材的厚度,并设置孔洞,来抑制分离件对黏着剂层的剥离力,使剥离性及作业性优异,并利用因具有孔洞而缓冲性优异之分离件而可抑制分离件所致的凹痕产生。 本发明之解决手段为一种附分离件之光学用表面保护薄膜,具有光学用表面保护薄膜及分离件,该光学用表面保护薄膜系于基材薄膜的至少单面具有黏着剂层者,且该分离件位于前述基材薄膜之与黏着剂层接触之面为相反之面上;该附分离件之光学用表面保护薄膜之特征在于:前述分离件具有脱模层与聚酯系基材,前述聚酯系基材具有孔洞,前述聚酯系基材之厚度为25~100μm,且前述分离件对前述黏着剂层之180°起始剥离力在0.7N/50mm以下。