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1. 实用新型

TWM588627U 隱形眼鏡移印裝置有权
简体标题：隐形眼镜移印设备
公开(公告)号：TWM588627U
公开(公告)日：2020-01-01
申请号：TW108214430
申请日：2019-11-01
申请人：明基材料股份有限公司 , BENQ MATERIALS CORPORATION
发明人：胡毓祺 , HU, YU-CHI , 劉培毅 , LIU, PEI-YI
IPC分类号： B41F17/00

2. 发明专利

TW201910141A 發泡墊套色印刷方法及裝置审中-公开
简体标题：发泡垫套色印刷方法及设备
公开(公告)号：TW201910141A
公开(公告)日：2019-03-16
申请号：TW106125932
申请日：2017-08-01
申请人：王惠利 , 王虹雅
发明人：王惠利 , 王虹雅
IPC分类号： B41M1/26 , B41F17/00
摘要：一種發泡墊套色印刷方法及裝置，可供墊體以表面朝上而置入治具之容槽，且墊體周圍無間隙地被側牆阻擋，而隨移動機構作動而沿輸送路徑移動治具，讓墊體表面經滾筒同步轉動而先後輥過，讓各輥筒之油墨分別印至墊體之表面，而在墊體之表面形成複數滾筒所包括之印刷圖樣，以完成墊體表面之套色印刷，解決習知墊體在輥筒印刷位移而無法套色印刷的問題。
简体摘要：一种发泡垫套色印刷方法及设备，可供垫体以表面朝上而置入治具之容槽，且垫体周围无间隙地被侧墙阻挡，而随移动机构作动而沿输送路径移动治具，让垫体表面经滚筒同步转动而先后辊过，让各辊筒之油墨分别印至垫体之表面，而在垫体之表面形成复数滚筒所包括之印刷图样，以完成垫体表面之套色印刷，解决习知垫体在辊筒印刷位移而无法套色印刷的问题。

3. 实用新型

TWM520016U 一種立體列印機構有权
简体标题：一种三維打印机构
公开(公告)号：TWM520016U
公开(公告)日：2016-04-11
申请号：TW104220298
申请日：2015-12-17
申请人：賴昱珅 , LAI, YU SHEN
发明人：賴昱珅 , LAI, YU SHEN
IPC分类号： B29C69/00 , B41F17/00

4. 实用新型

TW349477U 失效
公开(公告)号：TW349477U
公开(公告)日：1999-01-01
申请号：TW85218019
申请日：1996-11-22
申请人： FU SHI-QING
发明人： FU SHI-QING
IPC分类号： B41F17/00

5. 发明专利

TW201731702A 用於印刷線路製程的印章及其製造方法以及印刷線路製程审中-公开
简体标题：用于印刷线路制程的印章及其制造方法以及印刷线路制程
公开(公告)号：TW201731702A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW105107123
申请日：2016-03-09
申请人：華邦電子股份有限公司 , WINBOND ELECTRONICS CORP.
发明人：何羽軒 , HO, YU-HSUAN
IPC分类号： B41F17/00 , H05K3/00
摘要：本發明提供一種用於印刷線路製程的印章及其製造方法以及印刷線路製程，所述印章包括：主體結構、微米凸起結構以及多個奈米椎體結構。微米凸起結構位於主體結構上。多個奈米椎體結構位於主體結構上且圍繞微米凸起結構。
简体摘要：本发明提供一种用于印刷线路制程的印章及其制造方法以及印刷线路制程，所述印章包括：主体结构、微米凸起结构以及多个奈米椎体结构。微米凸起结构位于主体结构上。多个奈米椎体结构位于主体结构上且围绕微米凸起结构。

6. 发明专利

TWI596014B 具有均勻膜厚與矩形剖面之圖案膜之形成方法及形成裝置有权
简体标题：具有均匀膜厚与矩形剖面之图案膜之形成方法及形成设备
公开(公告)号：TWI596014B
公开(公告)日：2017-08-21
申请号：TW104102649
申请日：2015-01-26
申请人：獨立行政法人產業技術總合研究所 , NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY
发明人：日下靖之 , KUSAKA, YASUYUKI , 牛島洋史 , USHIJIMA, HIROSHI , 藤田真理子 , FUJITA, MARIKO
IPC分类号： B41F17/00
CPC分类号： B41M1/02 , B41F17/001 , B41F17/24 , B41M1/04 , B41N7/06 , B41N10/02 , H05K3/1275 , H05K2203/0134

7. 发明专利

TW201720262A 配線構造體及其製造方法、半導體裝置、多層配線構造體及其製造方法、半導體元件搭載用基板、圖案構造體的形成方法、壓印用的模具及其製造方法、壓印模具組、以及多層配線基板的製造方法审中-公开
简体标题：配线构造体及其制造方法、半导体设备、多层配线构造体及其制造方法、半导体组件搭载用基板、图案构造体的形成方法、压印用的模具及其制造方法、压印模具组、以及多层配线基板的制造方法
公开(公告)号：TW201720262A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW105131372
申请日：2016-09-29
申请人：大日本印刷股份有限公司 , DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：葛西諒平 , KASAI, RYOHEI , 古川正 , FURUKAWA, TADASHI , 古堅亮 , FURUGEN, RYO , 外田鉄兵 , SOTODA, TEPPEI , 細田哲史 , HOSODA, TETSUSHI , 古瀬綾子 , FURUSE, AYAKO
IPC分类号： H05K3/46 , H05K3/42 , H01L21/60 , G03F7/20 , H01L23/12 , B41F17/00
CPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027 , H01L21/3205 , H01L21/768 , H01L23/522 , H01L2224/16225 , H01L2924/15311
摘要：模具係具有：模具用基材；及位於該模具用基材之主面的凹凸構造者；凹凸構造具有：複數個配線形成用的線狀之凸形狀部；及焊墊部形成用的圓形狀之凸形狀部；在焊墊部形成用的圓形狀之凸形狀部之頂部平面具備遮光層。
简体摘要：模具系具有：模具用基材；及位于该模具用基材之主面的凹凸构造者；凹凸构造具有：复数个配线形成用的线状之凸形状部；及焊垫部形成用的圆形状之凸形状部；在焊垫部形成用的圆形状之凸形状部之顶部平面具备遮光层。

8. 发明专利

TWI469878B 墨水杯具有权
公开(公告)号：TWI469878B
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：TW100140548
申请日：2011-11-07
申请人：耐基創新公司 , NIKE INNOVATE C. V.
发明人：圖馬克布萊德利C , TUTMARK, BRADLEY C.
IPC分类号： B41F17/00 , B41F31/02 , B41F31/24
CPC分类号： B41F17/001 , B41F31/02 , B41F31/24

9. 实用新型

TWM481826U 建立三維模型之機構平台失效
简体标题：创建三维模型之机构平台
公开(公告)号：TWM481826U
公开(公告)日：2014-07-11
申请号：TW103203071
申请日：2014-02-21
申请人：中華學校財團法人中華科技大學 , CHINA UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
发明人：李昆益 , 苗延浩 , 陳秋成 , 周顥霖 , 陳柏樫 , 李政哲 , 朱宜臻 , 朱淑美 , 朱麗玲 , 張敏蕾 , 李欣容 , 李欣哲 , 李偉裕
IPC分类号： B41F17/00 , B41J2/315

10. 发明专利

TW202014310A 非平面圖案化奈米結構化表面及用於製作其之印刷方法审中-公开
简体标题：非平面图案化奈米结构化表面及用于制作其之印刷方法
公开(公告)号：TW202014310A
公开(公告)日：2020-04-16
申请号：TW108122590
申请日：2019-06-27
申请人：美商3M新設資產公司 , 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY
发明人：朱詹姆士 , ZHU, JAMES , 史丹斯維卡爾克瑞斯多弗 , STENSVAD, KARL KRISTOFER , 藍司大衛麥可 , LENTZ, DAVID MICHAEL , 麥茲勒湯瑪士喬瑟夫 , METZLER, THOMAS JOSEPH , 大衛摩西斯米卡拉 , DAVID, MOSES MEKALA , 提姆珍妮佛安潔莉塔 , TIMM, JENNIFER ANGELITA , 彼屈艾克泰倫斯 A , PECHACEK, TERRANCE A.
IPC分类号： B41C1/18 , B41F17/00 , B41K1/22
摘要：一種施加一圖案至具有一曲率半徑之一非平面表面之方法。具有一主表面之一印模具有延伸遠離一基部表面的圖案元件之一浮雕圖案。各圖案元件具有具有0至5微米之一橫向尺寸的一壓印表面。經施加在該壓印表面上之一油墨包括一官能化分子，該官能化分子具有化學地黏合至該非平面表面的一官能基。該印模經定位以起始該非平面表面與該印模之該主表面之間之輥壓接觸。該等圖案元件之該壓印表面接觸該非平面表面以在該非平面表面上形成該官能化材料之一自組裝單層，且賦予該圖案元件配置。當該印模之該主表面接觸該非平面表面時，控制該壓印表面相對於該非平面表面的一相對位置。
简体摘要：一种施加一图案至具有一曲率半径之一非平面表面之方法。具有一主表面之一印模具有延伸远离一基部表面的图案组件之一浮雕图案。各图案组件具有具有0至5微米之一横向尺寸的一压印表面。经施加在该压印表面上之一油墨包括一官能化分子，该官能化分子具有化学地黏合至该非平面表面的一官能基。该印模经定位以起始该非平面表面与该印模之该主表面之间之辊压接触。该等图案组件之该压印表面接触该非平面表面以在该非平面表面上形成该官能化材料之一自组装单层，且赋予该图案组件配置。当该印模之该主表面接触该非平面表面时，控制该压印表面相对于该非平面表面的一相对位置。

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