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1. 发明专利

TWI462781B 用於轉移經圖案化材料之方法及系統有权
简体标题：用于转移经图案化材料之方法及系统
公开(公告)号：TWI462781B
公开(公告)日：2014-12-01
申请号：TW094136870
申请日：2005-10-21
申请人：美國麻省理工學院 , MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY
发明人：柯伊蘇利文賽斯 , COE-SULLIVAN, SETH , 巴文迪蒙吉G. , BAWENDI, MOUNGI G. , 布羅維克維拉迪米爾 , BULOVIC, VLADIMIR
IPC分类号： B05D1/28 , G02B5/18
CPC分类号： H05B33/10 , B41J2/0057 , B41M1/02 , B41M3/003 , B41M5/0256 , B82Y20/00 , B82Y30/00 , H01L21/6715 , H01L51/5012 , H01L51/502 , H01L51/56 , H05B33/145

2. 发明专利

TW201146078A 凸版印刷版、使用凸版印刷版之印刷裝置、薄膜之製造方法，及有機電致發光元件之製造方法 RELIEF PRINTING BRAYER, PRINTING DEVICE USING THE SAME, METHOD OF FORMING FILM AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC EL ELEMENT 审中-公开
简体标题：凸版印刷版、使用凸版印刷版之印刷设备、薄膜之制造方法，及有机电致发光组件之制造方法 RELIEF PRINTING BRAYER, PRINTING DEVICE USING THE SAME, METHOD OF FORMING FILM AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC EL ELEMENT
公开(公告)号：TW201146078A
公开(公告)日：2011-12-16
申请号：TW100106148
申请日：2011-02-24
申请人：住友化學股份有限公司
发明人：六原行一
IPC分类号： H05B , B41F , B41M
CPC分类号： B41N1/12 , B41M1/02 , H01L51/0004
摘要：本發明之凸版印刷版係用於使用表面平坦之轉印滾筒之凸版印刷法者,且具有在表面形成有預定之凹陷部之凸部。凸部係具有以成點對稱之方式配置之複數個前述凹陷部。凸版印刷版係具有彼此隔開預定間隔,且在預定方向延伸之複數個凸部。凸部係具有朝預定方向延伸的凹陷部、或朝與預定方向垂直之方向延伸的凹陷部。
简体摘要：本发明之凸版印刷版系用于使用表面平坦之转印滚筒之凸版印刷法者,且具有在表面形成有预定之凹陷部之凸部。凸部系具有以成点对称之方式配置之复数个前述凹陷部。凸版印刷版系具有彼此隔开预定间隔,且在预定方向延伸之复数个凸部。凸部系具有朝预定方向延伸的凹陷部、或朝与预定方向垂直之方向延伸的凹陷部。

3. 发明专利

TW200726646A 可再作圖像的印刷件 REIMAGEABLE PRINTING MEMBER 审中-公开
简体标题：可再作图像的印刷件 REIMAGEABLE PRINTING MEMBER
公开(公告)号：TW200726646A
公开(公告)日：2007-07-16
申请号：TW095136147
申请日：2006-09-29
申请人：全錄股份有限公司 XEROX CORPORATION
发明人：加布里爾依夫台姆 IFTIME, GABRIEL , 保羅F. 史密斯 SMITH, PAUL F. , 彼得M. 卡茲梅爾 KAZMAIER, PETER M. , 哈迪K. 馬哈巴狄 MAHABADI, HADI K.
IPC分类号： B32B , G03F , G02F
CPC分类号： B41N1/00 , B41M1/02
摘要：一種可再作圖像的印刷件例如供使用於軟版印刷術中者(flexography)包括具有複數的孔之一層,其中該等孔包括尺寸改變材料及該尺寸改變材料上之印刷材料在其中。因此,該等孔藏置垂直可膨脹之單元,其頂部位能自孔的開口突出在該層的頂面上。可將每一個孔個別定址來提供啓動尺寸改變材料中之尺寸改變之激勵。以此種方式,可使所選擇之單元以將圖像之相對部位印刷在使與該印刷構件接觸之圖像接受基板上。
简体摘要：一种可再作图像的印刷件例如供使用于软版印刷术中者(flexography)包括具有复数的孔之一层,其中该等孔包括尺寸改变材料及该尺寸改变材料上之印刷材料在其中。因此,该等孔藏置垂直可膨胀之单元,其顶部位能自孔的开口突出在该层的顶面上。可将每一个孔个别寻址来提供启动尺寸改变材料中之尺寸改变之激励。以此种方式,可使所选择之单元以将图像之相对部位印刷在使与该印刷构件接触之图像接受基板上。

4. 发明专利

TW200628524A 在基板上形成圖案化氟聚合物薄膜的方法 PROCESS FOR FORMING A PATTERNED FLUOROPOLYMER FILM ON A SUBSTRATE 审中-公开
简体标题：在基板上形成图案化氟聚合物薄膜的方法 PROCESS FOR FORMING A PATTERNED FLUOROPOLYMER FILM ON A SUBSTRATE
公开(公告)号：TW200628524A
公开(公告)日：2006-08-16
申请号：TW094145436
申请日：2005-12-21
申请人：杜邦股份有限公司 E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY
发明人：威廉喬治歐布瑞恩 O'BRIEN, WILLIAM GEORGE
IPC分类号： C08J , C09D , B41M , G02B
CPC分类号： B41M1/30 , B05D1/28 , B05D1/283 , B05D7/04 , B41M1/02 , B41M1/04 , B41M1/34 , B41M3/003 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , G02B1/11 , G02B1/111 , G02F1/133502
摘要：本發明揭示一在一基板上形成圖案化氟聚合物薄膜之方法，其經由一圖案化凸版印刷版來凸版印刷一氟聚合物溶液，並從該溶液乾燥溶劑以形成該圖案化氟聚合物薄膜。此等氟聚合物薄膜適合作為用於光學顯示器之基板上的抗反射層或疏水層。
简体摘要：本发明揭示一在一基板上形成图案化氟聚合物薄膜之方法，其经由一图案化凸版印刷版来凸版印刷一氟聚合物溶液，并从该溶液干燥溶剂以形成该图案化氟聚合物薄膜。此等氟聚合物薄膜适合作为用于光学显示器之基板上的抗反射层或疏水层。

5. 发明专利

TWI526322B 凸版印刷裝置及使用其之印刷物及有機電致發光元件之製造方法有权
简体标题：凸版印刷设备及使用其之印刷物及有机电致发光组件之制造方法
公开(公告)号：TWI526322B
公开(公告)日：2016-03-21
申请号：TW100110949
申请日：2011-03-30
申请人：凸版印刷股份有限公司 , TOPPAN PRINTING CO., LTD.
发明人：三橋則登 , MIHASHI, NORITAKA , 狩野勝幸 , KANO, KATSUYUKI , 小室俊介 , KOMURO, SHUNSUKE
IPC分类号： B41F5/24 , H05B33/10
CPC分类号： B41F5/02 , B41F31/022 , B41F31/08 , B41F35/02 , B41F35/04 , B41M1/02 , B41M1/04 , B41P2235/26 , H01L51/0004

6. 发明专利

TW201536567A 具有均勻膜厚與矩形剖面之圖案膜之形成方法及形成裝置审中-公开
简体标题：具有均匀膜厚与矩形剖面之图案膜之形成方法及形成设备
公开(公告)号：TW201536567A
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：TW104102649
申请日：2015-01-26
申请人：獨立行政法人產業技術總合研究所 , NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY
发明人：日下靖之 , KUSAKA, YASUYUKI , 牛島洋史 , USHIJIMA, HIROSHI , 藤田真理子 , FUJITA, MARIKO
IPC分类号： B41F17/00
CPC分类号： B41M1/02 , B41F17/001 , B41F17/24 , B41M1/04 , B41N7/06 , B41N10/02 , H05K3/1275 , H05K2203/0134
摘要：本發明係提供一種不依存於圖案大小而具有幾乎一定的膜厚，且圖案的剖面形狀為矩形，而且可得到較反轉轉印印刷法更高的印墨使用效率之圖案膜之形成方法及形成裝置。本發明之圖案膜形成方法，係包含：(甲)將印墨塗布於由溶劑吸收性聚矽氧橡膠所構成且具有平滑表面之氈體而形成印墨膜之步驟；(乙)將凸版壓抵於形成在氈體的平滑表面上之印墨膜以將印墨膜轉印至凸版的凸部之步驟；以及(丙)將轉印至凸版的凸部表面之印墨膜壓抵於被轉印物以將印墨膜轉印至被轉印物表面之步驟。
简体摘要：本发明系提供一种不依存于图案大小而具有几乎一定的膜厚，且图案的剖面形状为矩形，而且可得到较反转转印印刷法更高的印墨使用效率之图案膜之形成方法及形成设备。本发明之图案膜形成方法，系包含：(甲)将印墨涂布于由溶剂吸收性聚硅氧橡胶所构成且具有平滑表面之毡体而形成印墨膜之步骤；(乙)将凸版压抵于形成在毡体的平滑表面上之印墨膜以将印墨膜转印至凸版的凸部之步骤；以及(丙)将转印至凸版的凸部表面之印墨膜压抵于被转印物以将印墨膜转印至被转印物表面之步骤。

7. 发明专利

TWI278395B 樹脂塗布基板製造裝置有权
简体标题：树脂涂布基板制造设备
公开(公告)号：TWI278395B
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：TW092129911
申请日：2003-10-28
申请人：三菱重工業股份有限公司 MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD. , 光村印刷股份有限公司 MITSUMURA PRINTING CO., LTD.
发明人：小野秀次郎 , 中屋芳紀 NAKAYA, YOSHINORI , 濱中聖之進 , 川田明洋
IPC分类号： B41F , G02B
CPC分类号： B44C3/04 , B41M1/02 , B41M3/003
摘要：本發明係提供一種可高精度凸版反轉印刷的樹脂塗布基板製造裝置，以及可提高彩色濾光片等製品品質的樹脂塗布基板。樹脂塗布基板係在將複數種樹脂對配置以規則性分別利用凸版反轉印刷塗布於基板上的樹脂塗布基板方面，經塗布的樹脂單獨層構成分別均勻且平坦形成膜厚，而其樹脂塗布基板製造裝置具備有：設置樹脂轉印機構的可動框架；及使可動框架對固定框架移動的移動機構；移動機構具備有：設置於固定框架上，並支撐著可動框架的平行成對導軌；在固定框架，具備一體固定框架後再施行研磨加工，將成對導軌分別在垂直方向與水平方向支撐著的成對水平面與成對垂直面，而且具備按壓導軌的水平面按壓機構及垂直面按壓機構。
简体摘要：本发明系提供一种可高精度凸版反转印刷的树脂涂布基板制造设备，以及可提高彩色滤光片等制品品质的树脂涂布基板。树脂涂布基板系在将复数种树脂对配置以守则性分别利用凸版反转印刷涂布于基板上的树脂涂布基板方面，经涂布的树脂单独层构成分别均匀且平坦形成膜厚，而其树脂涂布基板制造设备具备有：设置树脂转印机构的可动框架；及使可动框架对固定框架移动的移动机构；移动机构具备有：设置于固定框架上，并支撑着可动框架的平行成对导轨；在固定框架，具备一体固定框架后再施行研磨加工，将成对导轨分别在垂直方向与水平方向支撑着的成对水平面与成对垂直面，而且具备按压导轨的水平面按压机构及垂直面按压机构。

8. 发明专利

TW200502098A 樹脂塗布基板及其製造裝置审中-公开
简体标题：树脂涂布基板及其制造设备
公开(公告)号：TW200502098A
公开(公告)日：2005-01-16
申请号：TW092129911
申请日：2003-10-28
申请人：三菱重工業股份有限公司 MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD. , 光村印刷股份有限公司 MITSUMURA PRINTING CO., LTD.
发明人：小野秀次郎 , 中屋芳紀 , 濱中聖之進 , 川田明洋
IPC分类号： B41F , G02B
CPC分类号： B44C3/04 , B41M1/02 , B41M3/003
摘要：本發明係提供一種可高精度凸版反轉印刷的樹脂塗布基板製造裝置，以及可提高彩色濾光片等製品品質的樹脂塗布基板。樹脂塗布基板係在將複數種樹脂對配置以規則性分別利用凸版反轉印刷塗布於基板上的樹脂塗布基板方面，經塗布的樹脂單獨層構成分別均勻且平坦形成膜厚，而其樹脂塗布基板製造裝置具備有：設置樹脂轉印機構的可動框架；及使可動框架對固定框架移動的移動機構；移動機構具備有：設置於固定框架上，並支撐著可動框架的平行成對導軌；在固定框架，具備一體固定框架後再施行研磨加工，將成對導軌分別在垂直方向與水平方向支撐著的成對水平面與成對垂直面，而且具備按壓導軌的水平面按壓機構及垂直面按壓機構。
简体摘要：本发明系提供一种可高精度凸版反转印刷的树脂涂布基板制造设备，以及可提高彩色滤光片等制品品质的树脂涂布基板。树脂涂布基板系在将复数种树脂对配置以守则性分别利用凸版反转印刷涂布于基板上的树脂涂布基板方面，经涂布的树脂单独层构成分别均匀且平坦形成膜厚，而其树脂涂布基板制造设备具备有：设置树脂转印机构的可动框架；及使可动框架对固定框架移动的移动机构；移动机构具备有：设置于固定框架上，并支撑着可动框架的平行成对导轨；在固定框架，具备一体固定框架后再施行研磨加工，将成对导轨分别在垂直方向与水平方向支撑着的成对水平面与成对垂直面，而且具备按压导轨的水平面按压机构及垂直面按压机构。

9. 发明专利

TWI558577B 印刷方法有权
公开(公告)号：TWI558577B
公开(公告)日：2016-11-21
申请号：TW103118029
申请日：2014-05-23
申请人：秀峰股份有限公司 , SHUHOU CO., LTD.
发明人：村岡貢治 , MURAOKA, KOJI
IPC分类号： B41M1/40 , B41F17/34
CPC分类号： B41F3/00 , B41F17/001 , B41F17/006 , B41F17/34 , B41M1/02 , B41M1/04 , B41M1/10 , B41M1/40

10. 发明专利

TW201213146A 凸版印刷裝置及使用其之印刷物及有機電致發光元件之製造方法 LETTERPRESS PRINTING DEVICE, METHOD BY USING THE SAME FOR PRODUCING PRINT AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT 审中-公开
简体标题：凸版印刷设备及使用其之印刷物及有机电致发光组件之制造方法 LETTERPRESS PRINTING DEVICE, METHOD BY USING THE SAME FOR PRODUCING PRINT AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT
公开(公告)号：TW201213146A
公开(公告)日：2012-04-01
申请号：TW100110949
申请日：2011-03-30
申请人：凸版印刷股份有限公司
发明人：三橋則登 , 狩野勝幸 , 小室俊介
IPC分类号： B41F
CPC分类号： B41F5/02 , B41F31/022 , B41F31/08 , B41F35/02 , B41F35/04 , B41M1/02 , B41M1/04 , B41P2235/26 , H01L51/0004
摘要：本發明之課題係提供一種凸版印刷裝置及印刷物之製造方法，其能夠使起因於印刷裝置之污染物混入印刷圖案得以減低，進一步以面內均一且高位置精確度地在被印刷物形成微細之圖案。本發明之解決手段係提供一種凸版印刷裝置，其特徵為具備：旋轉式之版軀體、配置於版軀體上之凸版、在背面實施凹凸加工且將墨水供應至凸版的網紋輥、及在網紋輥表面塗布墨水而形成墨水塗膜之塗布裝置。還有，使用如此之凸版印刷裝置而製造印刷物。
简体摘要：本发明之课题系提供一种凸版印刷设备及印刷物之制造方法，其能够使起因于印刷设备之污染物混入印刷图案得以减低，进一步以面内均一且高位置精确度地在被印刷物形成微细之图案。本发明之解决手段系提供一种凸版印刷设备，其特征为具备：旋转式之版躯体、配置于版躯体上之凸版、在背面实施凹凸加工且将墨水供应至凸版的网纹辊、及在网纹辊表面涂布墨水而形成墨水涂膜之涂布设备。还有，使用如此之凸版印刷设备而制造印刷物。

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