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1. 发明专利

TWI700177B 層壓外裝材有权
简体标题：层压外装材
公开(公告)号：TWI700177B
公开(公告)日：2020-08-01
申请号：TW105129648
申请日：2016-09-12
申请人：日商昭和電工包裝股份有限公司 , SHOWA DENKO PACKAGING CO., LTD.
发明人：熊木輝利 , KUMAKI, TERUTOSHI
IPC分类号： B32B15/08 , B32B7/12 , B32B3/30 , H01M2/20

2. 发明专利

TW202026149A 疊層膜、邊緣清洗裝置及經清洗之疊層膜的製造方法审中-公开
简体标题：叠层膜、边缘清洗设备及经清洗之叠层膜的制造方法
公开(公告)号：TW202026149A
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：TW108126689
申请日：2019-07-29
申请人：日商東洋紡股份有限公司 , TOYOBO CO., LTD.
发明人：奧山哲雄 , OKUYAMA, TETSUO , 德田桂也 , TOKUDA, KAYA , 山下全廣 , YAMASHITA, MASAHIRO
IPC分类号： B32B7/12 , B32B27/00 , B32B37/12 , B32B38/16 , B32B38/18 , B32B43/00 , B08B1/02 , B81B3/00 , B81C1/00
摘要：本發明提供一種疊層膜，於將耐熱高分子膜貼合至支持體之際，可抑制在耐熱高分子膜的外周附近與支持體之間產生氣泡。本發明之疊層膜，具備：保護膜，具有基材、及設在基材上之黏接劑層；以及耐熱高分子膜，疊層在黏接劑層上；且側面之高度10μm以上的突起、並且係源自黏接劑層或源自來自外部之附著物者的數量，係10個/cm以下。
简体摘要：本发明提供一种叠层膜，于将耐热高分子膜贴合至支持体之际，可抑制在耐热高分子膜的外周附近与支持体之间产生气泡。本发明之叠层膜，具备：保护膜，具有基材、及设在基材上之黏接剂层；以及耐热高分子膜，叠层在黏接剂层上；且侧面之高度10μm以上的突起、并且系源自黏接剂层或源自来自外部之附着物者的数量，系10个/cm以下。

3. 发明专利

TWI697532B 包含低介電性接著劑層的疊層體有权
简体标题：包含低介电性接着剂层的叠层体
公开(公告)号：TWI697532B
公开(公告)日：2020-07-01
申请号：TW105114487
申请日：2016-05-11
申请人：日商東洋紡股份有限公司 , TOYOBO CO., LTD.
发明人：三上忠彥 , MIKAMI, TADAHIKO , 伊藤武 , ITO, TAKESHI , 薗田遼 , SONODA, RYO , 坂田秀行 , SAKATA, HIDEYUKI
IPC分类号： C09J123/26 , C09J7/00 , B32B7/12 , B32B15/08 , H05K1/02

4. 发明专利

TW202022005A 包括含脲二酮材料及可熱活化胺的聚合材料、兩部分組成物、及方法审中-公开
简体标题：包括含脲二酮材料及可热活化胺的聚合材料、两部分组成物、及方法
公开(公告)号：TW202022005A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：TW108134383
申请日：2019-09-24
申请人：美商3M新設資產公司 , 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY
发明人：懷特寇爾比琳 , WHITE, KOLBY LYN , 克里格馬修約翰 , KRYGER, MATTHEW JOHN , 諾爾喬瑟夫道格拉斯 , RULE, JOSEPH DOUGLAS , 庫洛普麥克安卓 , KROPP, MICHAEL ANDREW , 榮格亞徳理安湯馬士 , JUNG, ADRIAN THOMAS
IPC分类号： C08G18/22 , C08G18/32 , C08G18/42 , C08G18/48 , C08G18/79 , C08G59/40 , C09J175/04 , C09J163/00 , C09J11/06 , C09K3/10 , B32B15/04 , B32B7/12
摘要：本揭露提供一種聚合材料，該聚合材料包括其包括組分之可聚合組成物之聚合反應產物、及可熱活化胺固化劑，且具有90%或更大的固體含量。該等組分包括含脲二酮材料，該含脲二酮材料包括與自身反應之二異氰酸酯的反應產物；第一含羥基化合物；及可選的第二含羥基化合物，其具有單個OH基團。該第一含羥基化合物具有多於一個OH基團，且該可選的第二含羥基化合物係一級醇或二級醇。本揭露亦提供一種兩部分組成物，其中該聚合材料係包括在該第一部分中，且該第二部分包括至少一個液體胺。此外，提供一種黏著兩個基材的方法，其包括獲得兩部分組成物；將該第一部分的至少一部分與該第二部分的至少一部分組合以形成混合物；將該混合物的至少一部分設置在第一基材上；及使第二基材與設置在該第一基材上的該混合物接觸。本揭露亦提供一種聚合材料及一種固化兩部分組成物之方法。有利的是，根據本揭露之兩部分組成物可用作塗層及黏著劑系統，該系統具有兩步驟固化的處理及性能，其類似於現有的兩部分胺甲酸酯系統，但對水的敏感度較低。
简体摘要：本揭露提供一种聚合材料，该聚合材料包括其包括组分之可聚合组成物之聚合反应产物、及可热活化胺固化剂，且具有90%或更大的固体含量。该等组分包括含脲二酮材料，该含脲二酮材料包括与自身反应之二异氰酸酯的反应产物；第一含羟基化合物；及可选的第二含羟基化合物，其具有单个OH基团。该第一含羟基化合物具有多于一个OH基团，且该可选的第二含羟基化合物系一级醇或二级醇。本揭露亦提供一种两部分组成物，其中该聚合材料系包括在该第一部分中，且该第二部分包括至少一个液体胺。此外，提供一种黏着两个基材的方法，其包括获得两部分组成物；将该第一部分的至少一部分与该第二部分的至少一部分组合以形成混合物；将该混合物的至少一部分设置在第一基材上；及使第二基材与设置在该第一基材上的该混合物接触。本揭露亦提供一种聚合材料及一种固化两部分组成物之方法。有利的是，根据本揭露之两部分组成物可用作涂层及黏着剂系统，该系统具有两步骤固化的处理及性能，其类似于现有的两部分胺甲酸酯系统，但对水的敏感度较低。

5. 发明专利

TWI695870B 接著劑組成物、積層體、蓄電裝置用包裝材、蓄電裝置用容器及蓄電裝置有权
简体标题：接着剂组成物、积层体、蓄电设备用包装材、蓄电设备用容器及蓄电设备
公开(公告)号：TWI695870B
公开(公告)日：2020-06-11
申请号：TW105109185
申请日：2016-03-24
申请人：日商東洋油墨SC控股股份有限公司 , TOYO INK SC HOLDINGS CO., LTD. , 日商東洋莫頓股份有限公司 , TOYO-MORTON, LTD. , 日商東洋科美股份有限公司 , TOYOCHEM CO., LTD.
发明人：中里睦 , NAKAZATO, ATSUSHI
IPC分类号： C09J123/26 , C09J163/00 , B32B7/12 , H01M2/02

6. 发明专利

TWI695781B 一種多層發泡材料及其製造方法有权
简体标题：一种多层发泡材料及其制造方法
公开(公告)号：TWI695781B
公开(公告)日：2020-06-11
申请号：TW108115242
申请日：2019-05-02
申请人：大洋塑膠工業股份有限公司 , OCEAN PLASTICS CO., LTD.
发明人：劉耀中 , LIU, YAO CHUNG , 陳欽明 , CHEN CHIN-MING
IPC分类号： B32B5/32 , B32B7/02 , B32B7/12 , B32B27/12 , B32B27/40 , B32B37/14 , B32B37/26 , B32B38/00 , D06N3/14 , D06N7/04

7. 发明专利

TWI695047B 附分離器黏著劑層及其製造方法、附有附分離器黏著劑層之偏光薄膜及其製造方法、以及圖像顯示裝置有权
简体标题：附分离器黏着剂层及其制造方法、附有附分离器黏着剂层之偏光薄膜及其制造方法、以及图像显示设备
公开(公告)号：TWI695047B
公开(公告)日：2020-06-01
申请号：TW103121363
申请日：2014-06-20
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：喜多川丈治 , KITAGAWA, TAKEHARU , 木田友樹 , KIDA, YUKI , 秋月伸介 , AKIZUKI, SHINSUKE , 保井淳 , YASUI, ATSUSHI , 外山雄祐 , TOYAMA, YUSUKE , 石井孝証 , ISHII, TAKAAKI
IPC分类号： C09J133/00 , C09J4/00 , C09J11/06 , C09J7/20 , B32B27/06 , B32B27/18 , B32B7/12 , B32B7/06 , B32B37/12 , G02B1/10 , G02B5/30 , G02F1/1335

8. 发明专利

TWI694929B 具優良剝離性之離型膜有权
简体标题：具优良剥离性之离型膜
公开(公告)号：TWI694929B
公开(公告)日：2020-06-01
申请号：TW105125127
申请日：2016-08-08
申请人：日商藤森工業股份有限公司 , FUJIMORI KOGYO CO., LTD.
发明人：宮坂洋之 , MIYASAKA, HIROYUKI , 林益史 , HAYASHI, MASUSHI
IPC分类号： B32B7/06 , B32B7/12 , C08K7/16 , C09J11/00

9. 发明专利

TWI693268B 半導體晶圓表面保護膜以及半導體裝置的製造方法有权
简体标题：半导体晶圆表面保护膜以及半导体设备的制造方法
公开(公告)号：TWI693268B
公开(公告)日：2020-05-11
申请号：TW105120959
申请日：2016-07-01
申请人：日商三井化學東賽璐股份有限公司 , MITSUI CHEMICALS TOHCELLO, INC.
发明人：鎌田潤 , KAMADA, JUN , 川崎登 , KAWASAKI, NOBORU , 宇杉真一 , USUGI, SHINICHI , 助川誠 , SUKEGAWA, MAKOTO , 木下仁 , KINOSHITA, JIN , 五十嵐康二 , IGARASHI, KOUJI , 森本哲光 , MORIMOTO, AKIMITSU
IPC分类号： C09J7/20 , B32B7/12 , H01L21/67

10. 实用新型

TWM593941U 抗紅外線膠合玻璃有权
简体标题：抗红外线胶合玻璃
公开(公告)号：TWM593941U
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：TW109200341
申请日：2020-01-08
申请人：旺毅企業有限公司
发明人：林明達
IPC分类号： B32B17/00 , B32B7/12 , E04B1/90

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