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1. 发明专利

TW202003222A 積層體及其製造方法审中-公开
简体标题：积层体及其制造方法
公开(公告)号：TW202003222A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108118405
申请日：2019-05-28
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：仲俊之 , NAKA, TOSHIYUKI
IPC分类号： B32B7/02 , B32B7/06 , B32B7/12 , B32B37/26
摘要：一種積層體，係依序含有第1基材層、第1功能層、接著層、第2功能層及第2基材層，其中，在前述積層體之寬度方向之至少一端部中，前述接著層之端部的位置滿足下述[a]至[c]之所有關係[a]與前述第1基材層之端部的位置相同、或位於較前述第1基材層之端部的位置靠寬度方向內側處；[b]位於較前述第1功能層之端部的位置靠寬度方向外側處；以及[c]與前述第2功能層之端部的位置相同、或位於較前述第2功能層之端部的位置靠寬度方向內側處。
简体摘要：一种积层体，系依序含有第1基材层、第1功能层、接着层、第2功能层及第2基材层，其中，在前述积层体之宽度方向之至少一端部中，前述接着层之端部的位置满足下述[a]至[c]之所有关系[a]与前述第1基材层之端部的位置相同、或位于较前述第1基材层之端部的位置靠宽度方向内侧处；[b]位于较前述第1功能层之端部的位置靠宽度方向外侧处；以及[c]与前述第2功能层之端部的位置相同、或位于较前述第2功能层之端部的位置靠宽度方向内侧处。

2. 发明专利

TW201919913A 顯示裝置及其製造方法审中-公开
简体标题：显示设备及其制造方法
公开(公告)号：TW201919913A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107144202
申请日：2014-11-28
申请人：日商半導體能源研究所股份有限公司 , SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.
发明人：山崎舜平 , YAMAZAKI, SHUNPEI , 大野正勝 , OHNO, MASAKATSU , 安達広樹 , ADACHI, HIROKI , 井戶尻悟 , IDOJIRI, SATORU , 武島幸市 , TAKESHIMA, KOICHI
IPC分类号： B32B37/14 , B32B37/26 , B32B38/00 , B23K26/0622 , B23K26/064 , B23K26/53 , H05B33/10 , H01L51/50 , H01L27/32
摘要：本發明的一個方式的目的之一是提供一種顯示品質良好且良率高的撓性顯示裝置。在第一基板上形成第一有機樹脂層，在第一有機樹脂層上形成第一絕緣膜，在第一絕緣膜上形成第一元件層，在第二基板上形成第二有機樹脂層，在第二有機樹脂層上形成第二絕緣膜，在第二絕緣膜上形成第二元件層，以第一元件層及第二元件層被密封的方式貼合第一基板與第二基板，進行使第一有機樹脂層與第一基板的緊密性降低而分離第一基板的第一分離製程，藉由第一黏合層黏合第一有機樹脂層與第一撓性基板，進行使第二有機樹脂層與第二基板的緊密性降低而分離第二基板的第二分離製程，並且，藉由第二黏合層黏合第二有機樹脂層與第二撓性基板。
简体摘要：本发明的一个方式的目的之一是提供一种显示品质良好且良率高的挠性显示设备。在第一基板上形成第一有机树脂层，在第一有机树脂层上形成第一绝缘膜，在第一绝缘膜上形成第一组件层，在第二基板上形成第二有机树脂层，在第二有机树脂层上形成第二绝缘膜，在第二绝缘膜上形成第二组件层，以第一组件层及第二组件层被密封的方式贴合第一基板与第二基板，进行使第一有机树脂层与第一基板的紧密性降低而分离第一基板的第一分离制程，借由第一黏合层黏合第一有机树脂层与第一挠性基板，进行使第二有机树脂层与第二基板的紧密性降低而分离第二基板的第二分离制程，并且，借由第二黏合层黏合第二有机树脂层与第二挠性基板。

3. 发明专利

TWI653150B 薄玻璃複合體及存放薄玻璃膜之方法有权
简体标题：薄玻璃复合体及存放薄玻璃膜之方法
公开(公告)号：TWI653150B
公开(公告)日：2019-03-11
申请号：TW104111370
申请日：2015-04-09
申请人：德商特薩股份有限公司 , TESA SE
发明人：凱特泰根布雀克勞斯 , KEITE-TELGENBUESCHER, KLAUS , 雀斯基塔尼塔 , CZESKI, TANITA , 修克里斯丁 , SCHUH, CHRISTIAN
IPC分类号： B32B7/02 , B32B17/06 , B32B7/12 , B32B7/06 , C09J9/00 , C09J11/00 , B32B37/12 , B32B37/26 , B65H18/00

4. 发明专利

TWI651205B 樹脂膜形成用薄片層積體有权
简体标题：树脂膜形成用薄片层积体
公开(公告)号：TWI651205B
公开(公告)日：2019-02-21
申请号：TW104102643
申请日：2015-01-27
申请人：琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：柄澤泰紀 , KARASAWA, YASUNORI , 山岸正憲 , YAMAGISHI, MASANORI
IPC分类号： B32B37/26 , H01L23/29

5. 发明专利

TW201902955A 轉印型感光性膜、硬化膜圖案的形成方法、硬化膜、積層體及觸控面板审中-公开
简体标题：转印型感光性膜、硬化膜图案的形成方法、硬化膜、积层体及触摸皮肤
公开(公告)号：TW201902955A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107110631
申请日：2018-03-28
申请人：日商日立化成股份有限公司 , HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD.
发明人：南征志 , MINAMI, MASASHI , 向郁夫 , MUKAI, IKUO , 吉田英樹 , YOSHIDA, HIDEKI , 渡邊治 , WATANABE, OSAMU , 渡部和仁 , WATANABE, KAZUHITO , 渡邊匠 , WATANABE, TAKUMI , 鮎瀬友洋 , AYUGASE, TOMOHIRO , 海老原雅彦 , EBIHARA, MASAHIKO , 奥田唯史 , OKUDA, TADASHI
IPC分类号： C08F220/06 , C08F220/18 , C08F220/32 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/033 , G03F7/09 , G03F7/038 , G03F7/20 , B32B27/20 , B32B27/30 , B32B37/26 , B32B38/10 , G06F3/041 , G06F3/044
摘要：轉印型感光性膜具備支撐膜及設於該支撐膜上的第一樹脂層，第一樹脂層包含具有三環癸烷骨架或三環癸烯骨架的光聚合性化合物、以及醯基氧化膦系光聚合起始劑。
简体摘要：转印型感光性膜具备支撑膜及设于该支撑膜上的第一树脂层，第一树脂层包含具有三环癸烷骨架或三环癸烯骨架的光聚合性化合物、以及酰基氧化膦系光聚合起始剂。

6. 发明专利

TWI642550B 基於糖的奈米材料的轉移方法有权
简体标题：基于糖的奈米材料的转移方法
公开(公告)号：TWI642550B
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW106105232
申请日：2017-02-17
申请人：鴻海精密工業股份有限公司 , HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
发明人：張麗娜 , ZHANG, LI-NA , 張曉瑞 , ZHANG, XIAO-RUI , 顧小華 , GU, XIAO-HUA , 姜開利 , JIANG, KAI-LI , 范守善 , FAN, SHOU-SHAN
IPC分类号： B32B37/15 , B32B37/26 , B32B38/10 , B82Y30/00 , B82Y40/00

7. 发明专利

TW201842099A 偏光薄膜用硬化型樹脂組成物、偏光薄膜及其製造方法审中-公开
简体标题：偏光薄膜用硬化型树脂组成物、偏光薄膜及其制造方法
公开(公告)号：TW201842099A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107109426
申请日：2018-03-20
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：齊藤武士 , SAITO, TAKESHI
IPC分类号： C09D201/00 , C09D7/63 , B32B27/16 , B32B27/18 , B32B27/00 , B32B27/30 , B32B37/15 , B32B37/26 , G02B1/14 , G02B5/30
摘要：一種偏光薄膜用硬化型樹脂組成物，含有活性能量線硬化性成分(A)及具有甲醯基之化合物(B)，且具有甲醯基之化合物(B)的含量為1~900ppm。所述偏光薄膜用硬化型樹脂組成物適宜用於於聚乙烯醇系偏光件之至少單面形成硬化物層。
简体摘要：一种偏光薄膜用硬化型树脂组成物，含有活性能量线硬化性成分(A)及具有甲酰基之化合物(B)，且具有甲酰基之化合物(B)的含量为1~900ppm。所述偏光薄膜用硬化型树脂组成物适宜用于于聚乙烯醇系偏光件之至少单面形成硬化物层。

8. 发明专利

TW201838808A 黏著片的剝離方法审中-公开
简体标题：黏着片的剥离方法
公开(公告)号：TW201838808A
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：TW107111491
申请日：2018-03-31
申请人：日商琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：上村和恵 , UEMURA, KAZUE
IPC分类号： B32B7/06 , B32B37/26
摘要：一種黏著片的剝離方法，是將至少具備黏著劑層2之黏著片1、與被黏貼在前述黏著劑層的黏著面之被黏著物W、W’剝離之黏著片1的剝離方法，其特徵在於：黏著劑層 2是在內部具有氣室3，藉由對至少黏貼有被黏著物W、W’之黏著片1進行使氣室3中的氣體膨脹之減壓處理，來使黏著劑層2黏著力降低而將黏著片1與被黏著物W、W’剝離。使用此種方法時，能夠藉由新穎的作用機制而在所需要的時序使黏著力降低。
简体摘要：一种黏着片的剥离方法，是将至少具备黏着剂层2之黏着片1、与被黏贴在前述黏着剂层的黏着面之被黏着物W、W’剥离之黏着片1的剥离方法，其特征在于：黏着剂层 2是在内部具有气室3，借由对至少黏贴有被黏着物W、W’之黏着片1进行使气室3中的气体膨胀之减压处理，来使黏着剂层2黏着力降低而将黏着片1与被黏着物W、W’剥离。使用此种方法时，能够借由新颖的作用机制而在所需要的时序使黏着力降低。

9. 发明专利

TWI634012B 用於印刷電路板的油墨保護膜有权
简体标题：用于印刷电路板的油墨保护膜
公开(公告)号：TWI634012B
公开(公告)日：2018-09-01
申请号：TW106101658
申请日：2017-01-18
申请人：台虹科技股份有限公司 , TAIFLEX SCIENTIFIC CO., LTD.
发明人：吳耀明 , WU, YAO-MING , 田豐榮 , TIEN, FENG-JUNG , 陳文建 , CHEN, WEN-CHIEN , 施玉真 , SHIH, YU-CHEN , 吳淑萍 , WU, SU-PING , 林聖欽 , LIN, SHENG-CHIN
IPC分类号： B32B7/02 , B32B7/06 , B32B27/00 , B32B37/06 , B32B37/15 , B32B37/26 , H05K3/28

10. 发明专利

TWI616339B 基板貼合裝置、顯示面板製造裝置及顯示面板製造方法有权
简体标题：基板贴合设备、显示皮肤制造设备及显示皮肤制造方法
公开(公告)号：TWI616339B
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW103141299
申请日：2014-11-28
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：田辺昌平 , TANABE, SHOHEI , 瀧澤洋次 , TAKIZAWA, YOJI , 西垣寿 , NISHIGAKI, HISASHI
IPC分类号： B32B37/12 , B32B37/26 , C09J5/00

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