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1. 发明专利

TW201841242A 液體處理裝置审中-公开
简体标题：液体处理设备
公开(公告)号：TW201841242A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107103140
申请日：2018-01-30
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：脇山輝史 , WAKIYAMA, TERUFUMI , 伊藤規宏 , ITO, NORIHIRO
IPC分类号： H01L21/304 , F26B5/08 , F26B21/14
摘要：本發明提供一種液體處理裝置，其可以抑制液體附著在基板之底面的問題。依本發明一實施形態之液體處理裝置，具備：基板固持部、驅動部、軸部、以及噴嘴。基板固持部，係水平固持基板。驅動部，係在以基板固持部固持基板的狀態下，使基板及基板固持部旋轉。軸部，包含基板固持部所固持之基板的旋轉軸，沿著旋轉軸之軸向延伸，並且設於比基板更為下方處。噴嘴，係朝向基板之底面噴出液體。又，噴嘴具備：基部，安裝於軸部之上端；以及液體供給部，從基部朝向基板之徑向外側延伸，並且形成有朝向基板噴出液體之噴出口。又，軸部及基部，具備排出路，其沿著軸向形成，並將朝向基板之底面噴出後之液體排出。又，基部具備：凹部，朝向下方凹陷，以使液體流向排出路。
简体摘要：本发明提供一种液体处理设备，其可以抑制液体附着在基板之底面的问题。依本发明一实施形态之液体处理设备，具备：基板固持部、驱动部、轴部、以及喷嘴。基板固持部，系水平固持基板。驱动部，系在以基板固持部固持基板的状态下，使基板及基板固持部旋转。轴部，包含基板固持部所固持之基板的旋转轴，沿着旋转轴之轴向延伸，并且设于比基板更为下方处。喷嘴，系朝向基板之底面喷出液体。又，喷嘴具备：基部，安装于轴部之上端；以及液体供给部，从基部朝向基板之径向外侧延伸，并且形成有朝向基板喷出液体之喷出口。又，轴部及基部，具备排出路，其沿着轴向形成，并将朝向基板之底面喷出后之液体排出。又，基部具备：凹部，朝向下方凹陷，以使液体流向排出路。

2. 发明专利

TW201807369A 脫水處理裝置审中-公开
简体标题：脱水处理设备
公开(公告)号：TW201807369A
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW105127667
申请日：2016-08-29
申请人：細田工業股份有限公司 , HOSODA KOGYO CO.,LTD
发明人：石黒理 , ISHIGURO, OSAMU , 小森健司 , KOMORI, KENJI , 植田淳子 , UEDA, ATSUKO
IPC分类号： F26B5/08 , B04B3/00
CPC分类号： A23N12/08 , B04B3/00 , F26B5/08
摘要：本發明之目的在於提供一種脫水處理裝置，其可抑制在收容於容器本體之食材之量變化、或旋轉容器本體之旋轉數變動之情況下所產生之振動。脫水處理裝置1之特徵在於具備：基台4，其設置於預先設定之水平之設置面上；第1旋轉軸6，其繞基台4之垂直之軸線L可旋轉地配設；容器本體2，其具有複數個透孔部34，且繞第1旋轉軸6可旋轉地配設；驅動機構5，其將第1旋轉軸6繞軸線L旋轉驅動；及支持體7，其配設於第1旋轉軸6，支持容器本體2；且支持體7具備抵接片58、60，抵接片58、60包含至少1個具有與容器本體2抵接之外周面之抵接部57、59，抵接部57、59以在軸線L上從前述容器本體2之下部朝向上部嵌合之狀態支持容器本體2。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种脱水处理设备，其可抑制在收容于容器本体之食材之量变化、或旋转容器本体之旋转数变动之情况下所产生之振动。脱水处理设备1之特征在于具备：基台4，其设置于预先设置之水平之设置面上；第1旋转轴6，其绕基台4之垂直之轴线L可旋转地配设；容器本体2，其具有复数个透孔部34，且绕第1旋转轴6可旋转地配设；驱动机构5，其将第1旋转轴6绕轴线L旋转驱动；及支持体7，其配设于第1旋转轴6，支持容器本体2；且支持体7具备抵接片58、60，抵接片58、60包含至少1个具有与容器本体2抵接之外周面之抵接部57、59，抵接部57、59以在轴线L上从前述容器本体2之下部朝向上部嵌合之状态支持容器本体2。

3. 发明专利

TW202015118A 基板處理方法及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TW202015118A
公开(公告)日：2020-04-16
申请号：TW108126464
申请日：2019-07-26
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：加藤雅彦 , KATO, MASAHIKO , 髙橋弘明 , TAKAHASHI, HIROAKI , 藤原直澄 , FUJIWARA, NAOZUMI , 尾辻正幸 , OTSUJI, MASAYUKI , 佐佐木悠太 , SASAKI, YUTA , 山口佑 , YAMAGUCHI, YU
IPC分类号： H01L21/304 , F26B5/08 , F26B3/12
摘要：本發明之基板處理方法包含：乾燥前處理液膜形成工序，其係將包含不經過液體而自固體變成氣體之昇華性物質與使上述昇華性物質溶解之溶劑的溶液即乾燥前處理液供給至形成有圖案之基板之表面，藉此，於上述基板之表面上形成覆蓋上述基板之表面之上述乾燥前處理液之液膜；及乾燥前處理液膜排除工序，其係使上述溶劑自上述液膜蒸發而於上述基板之表面上形成包含上述昇華性物質之凝固體，且使上述凝固體昇華，藉此，自上述基板之表面上將上述液膜排除。上述乾燥前處理液膜排除工序包含：區域並存狀態產生工序，其係產生上述凝固體昇華而上述基板之表面乾燥之乾燥區域、殘存有上述凝固體之凝固體殘存區域、及殘存有上述液膜之液殘存區域依次自上述基板之表面之中央部朝向上述基板之表面之周緣部排列的區域並存狀態；及乾燥區域擴大工序，其係一面維持上述區域並存狀態一面以上述凝固體殘存區域朝向上述基板之表面之周緣部移動之方式將上述乾燥區域擴大。
简体摘要：本发明之基板处理方法包含：干燥前处理液膜形成工序，其系将包含不经过液体而自固体变成气体之升华性物质与使上述升华性物质溶解之溶剂的溶液即干燥前处理液供给至形成有图案之基板之表面，借此，于上述基板之表面上形成覆盖上述基板之表面之上述干燥前处理液之液膜；及干燥前处理液膜排除工序，其系使上述溶剂自上述液膜蒸发而于上述基板之表面上形成包含上述升华性物质之凝固体，且使上述凝固体升华，借此，自上述基板之表面上将上述液膜排除。上述干燥前处理液膜排除工序包含：区域并存状态产生工序，其系产生上述凝固体升华而上述基板之表面干燥之干燥区域、残存有上述凝固体之凝固体残存区域、及残存有上述液膜之液残存区域依次自上述基板之表面之中央部朝向上述基板之表面之周缘部排列的区域并存状态；及干燥区域扩大工序，其系一面维持上述区域并存状态一面以上述凝固体残存区域朝向上述基板之表面之周缘部移动之方式将上述干燥区域扩大。

4. 发明专利

TWI476053B 旋轉處理裝置有权
简体标题：旋转处理设备
公开(公告)号：TWI476053B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：TW101144478
申请日：2012-11-28
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：古矢正明 , FURUYA, MASAAKI
IPC分类号： B08B1/04 , F26B5/08

5. 发明专利

TW202015150A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW202015150A
公开(公告)日：2020-04-16
申请号：TW108128585
申请日：2019-08-12
申请人：日商芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：森秀樹 , MORI, HIDEKI , 古矢正明 , FURUYA, MASAAKI , 小林信雄 , KOBAYASHI, NOBUO
IPC分类号： H01L21/67 , F26B5/08 , B05C5/02
摘要： [課題]有效率地進行霧氣回收，而且尤其是在使用酸性處理液及鹼性處理液的情況下，也可以抑制在排氣通路及處理室內之酸及鹼的霧氣造成的鹽產生，可以達到在同一處理室內之根據各種處理液的基板處理。 [解決手段]有關實施形態之基板處理裝置，為對基板依序供給複數種處理液來處理基板之基板處理裝置，並且構成為具有：處理室，進行基板的處理；旋轉台，在處理室內保持基板並旋轉驅動；處理液供給部，對保持在旋轉台並呈旋轉狀態的基板供給處理液；複數個附可開關之閘門的排氣通路，讓處理液的霧氣從處理室流出到外部；以及閘門開關切換組件(升降汽缸、控制部)，因應基板的旋轉方向切換閘門的開關。
简体摘要： [课题]有效率地进行雾气回收，而且尤其是在使用酸性处理液及碱性处理液的情况下，也可以抑制在排气通路及处理室内之酸及碱的雾气造成的盐产生，可以达到在同一处理室内之根据各种处理液的基板处理。 [解决手段]有关实施形态之基板处理设备，为对基板依序供给复数种处理液来处理基板之基板处理设备，并且构成为具有：处理室，进行基板的处理；旋转台，在处理室内保持基板并旋转驱动；处理液供给部，对保持在旋转台并呈旋转状态的基板供给处理液；复数个附可开关之闸门的排气通路，让处理液的雾气从处理室流出到外部；以及闸门开关切换组件(升降汽缸、控制部)，因应基板的旋转方向切换闸门的开关。

6. 发明专利

TWI626413B 具有整合式向外突伸偏向器條帶之離心式顆粒乾燥機篩器有权
简体标题：具有集成式向外突伸偏向器条带之离心式颗粒干燥机筛器
公开(公告)号：TWI626413B
公开(公告)日：2018-06-11
申请号：TW103120054
申请日：2014-06-10
申请人：葛拉工業公司 , GALA INDUSTRIES, INC.
发明人：布萊安大衛E , BRYAN, DAVID E.
IPC分类号： F26B5/08 , F26B25/16 , F26B25/08

7. 发明专利

TWI437198B 具有整合式壓紋偏轉器長條之離心式小粒乾燥機篩板有权
简体标题：具有集成式压纹偏转器长条之离心式小粒干燥机筛板
公开(公告)号：TWI437198B
公开(公告)日：2014-05-11
申请号：TW097118097
申请日：2008-05-16
申请人：葛拉工業公司 , GALA INDUSTRIES, INC.
发明人：布萊安大衛E. , BRYAN, DAVID E.
IPC分类号： F26B5/08 , F26B25/08
CPC分类号： F26B17/24 , F26B5/08

8. 发明专利

TWI481490B 具有增進生產量之乾燥系統有权
简体标题：具有增进生产量之干燥系统
公开(公告)号：TWI481490B
公开(公告)日：2015-04-21
申请号：TW098129555
申请日：2009-09-02
申请人：葛拉工業公司 , GALA INDUSTRIES, INC.
发明人：艾倫查爾斯 , AARON, CHARLES E. , 伯斯德恩 , BOOTHE, DUANE A. , 林肯霍克約翰 , LINKENHOKER, JOHN M. , 莫瑞斯凱瑞 , MORRIS, KERRY P. , 漢那山姆 , HANNAH, SAMUEL F. , 史密斯威尼 , SMITH, WAYNE L. , 威瑞奇湯馬斯 , WENRICH, TOMAS C.
IPC分类号： B29B13/06 , F26B5/08
CPC分类号： F26B17/24 , B29B9/16 , F26B5/08

9. 发明专利

TW201504019A 聚醯胺顆粒之濕切及乾燥审中-公开
简体标题：聚酰胺颗粒之湿切及干燥
公开(公告)号：TW201504019A
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW103113262
申请日：2014-04-10
申请人：英威達技術有限公司 , INVISTA TECHNOLOGIES S.A.R.L.
发明人：柯爾曼查爾斯R , KELMAN, CHARLES R. , 米卡湯瑪斯A , MICKA, THOMAS A.
IPC分类号： B29B9/06 , B29B9/16 , B01J2/20 , F26B7/00 , F26B3/02 , F26B3/084 , F26B5/08 , F26B17/10 , F26B17/22 , F26B17/04 , F26B21/14
CPC分类号： B29B9/16 , B29B9/065 , F26B3/08 , F26B7/00 , F26B17/04 , F26B17/10
摘要：本文描述用於乾燥聚醯胺顆粒之系統及方法。在各種實施例中，本發明提供一種用於製造聚醯胺顆粒之系統。該系統可包括旋轉乾燥器，該旋轉乾燥器自濕聚醯胺顆粒移除大部分表面水以產生經部分乾燥之顆粒。該系統亦可包括流化床乾燥器，該流化床乾燥器乾燥及運送來自該旋轉乾燥器的該等經部分乾燥之顆粒以產生經乾燥之聚醯胺顆粒。
简体摘要：本文描述用于干燥聚酰胺颗粒之系统及方法。在各种实施例中，本发明提供一种用于制造聚酰胺颗粒之系统。该系统可包括旋转干燥器，该旋转干燥器自湿聚酰胺颗粒移除大部分表面水以产生经部分干燥之颗粒。该系统亦可包括流化床干燥器，该流化床干燥器干燥及运送来自该旋转干燥器的该等经部分干燥之颗粒以产生经干燥之聚酰胺颗粒。

10. 发明专利

TW201343274A 旋轉處理裝置及旋轉處理方法审中-公开
简体标题：旋转处理设备及旋转处理方法
公开(公告)号：TW201343274A
公开(公告)日：2013-11-01
申请号：TW101144478
申请日：2012-11-28
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：古矢正明 , FURUYA, MASAAKI
IPC分类号： B08B1/04 , F26B5/08
摘要：本發明提供可以實現基板的均勻處理的旋轉處理裝置及旋轉處理方法。相關於實施形態的旋轉處理裝置(1)，係使基板(W)旋轉而進行處理的旋轉處理裝置，具備：被設為可旋轉的旋轉體(4a)，於該旋轉體(4a)的旋轉方向隔著特定間隔設為可升降，支撐基板(W)的周緣部之至少3個基板支撐構件(4f)，於旋轉體(4a)的旋轉方向隔著特定間隔設為可偏心旋轉，藉由偏心旋轉分別抵接於基板(W)的外周面而抓持著基板(W)之至少3個夾銷(21)，使3個基板支撐構件(4f)同步升降的升降機構，以及使3個夾銷(21)同步偏心旋轉的旋轉機構。
简体摘要：本发明提供可以实现基板的均匀处理的旋转处理设备及旋转处理方法。相关于实施形态的旋转处理设备(1)，系使基板(W)旋转而进行处理的旋转处理设备，具备：被设为可旋转的旋转体(4a)，于该旋转体(4a)的旋转方向隔着特定间隔设为可升降，支撑基板(W)的周缘部之至少3个基板支撑构件(4f)，于旋转体(4a)的旋转方向隔着特定间隔设为可偏心旋转，借由偏心旋转分别抵接于基板(W)的外周面而抓持着基板(W)之至少3个夹销(21)，使3个基板支撑构件(4f)同步升降的直升电梯构，以及使3个夹销(21)同步偏心旋转的旋转机构。

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