基本信息:
- 专利标题： 基板處理裝置及基板處理方法
- 专利标题（中）：基板处理设备及基板处理方法
- 申请号：TW108128585 申请日：2019-08-12
- 公开(公告)号：TW202015150A 公开(公告)日：2020-04-16
- 发明人： 森秀樹 , MORI, HIDEKI , 古矢正明 , FURUYA, MASAAKI , 小林信雄 , KOBAYASHI, NOBUO
- 申请人： 日商芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
- 专利权人： 日商芝浦機械電子裝置股份有限公司,SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
- 当前专利权人： 日商芝浦機械電子裝置股份有限公司,SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
- 代理人： 劉法正; 尹重君
- 优先权： 2018-167612 20180907
- 主分类号： H01L21/67
- IPC分类号： H01L21/67 ; F26B5/08 ; B05C5/02
摘要：
[課題]有效率地進行霧氣回收，而且尤其是在使用酸性處理液及鹼性處理液的情況下，也可以抑制在排氣通路及處理室內之酸及鹼的霧氣造成的鹽產生，可以達到在同一處理室內之根據各種處理液的基板處理。 [解決手段]有關實施形態之基板處理裝置，為對基板依序供給複數種處理液來處理基板之基板處理裝置，並且構成為具有：處理室，進行基板的處理；旋轉台，在處理室內保持基板並旋轉驅動；處理液供給部，對保持在旋轉台並呈旋轉狀態的基板供給處理液；複數個附可開關之閘門的排氣通路，讓處理液的霧氣從處理室流出到外部；以及閘門開關切換組件(升降汽缸、控制部)，因應基板的旋轉方向切換閘門的開關。
摘要（中）：
[课题]有效率地进行雾气回收，而且尤其是在使用酸性处理液及碱性处理液的情况下，也可以抑制在排气通路及处理室内之酸及碱的雾气造成的盐产生，可以达到在同一处理室内之根据各种处理液的基板处理。 [解决手段]有关实施形态之基板处理设备，为对基板依序供给复数种处理液来处理基板之基板处理设备，并且构成为具有：处理室，进行基板的处理；旋转台，在处理室内保持基板并旋转驱动；处理液供给部，对保持在旋转台并呈旋转状态的基板供给处理液；复数个附可开关之闸门的排气通路，让处理液的雾气从处理室流出到外部；以及闸门开关切换组件(升降汽缸、控制部)，因应基板的旋转方向切换闸门的开关。
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/67 | .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置 |