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1. 实用新型

TWM488657U 網版曬版用輻射乾燥裝置有权
简体标题：网版晒版用辐射干燥设备
公开(公告)号：TWM488657U
公开(公告)日：2014-10-21
申请号：TW103206825
申请日：2014-04-18
申请人：倉和精密製造(蘇州)有限公司 , 倉和股份有限公司
发明人：郭新建
IPC分类号： G03F7/00 , F26B3/28

2. 实用新型

TWM534994U 懸吊轉動式均溫烘焙裝置及運用其之負壓輻射加熱乾燥烘焙機有权
简体标题：悬吊转动式均温烘焙设备及运用其之负压辐射加热干燥烘焙机
公开(公告)号：TWM534994U
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：TW105207324
申请日：2016-05-19
申请人：祐麟實業有限公司 , YOW LIN INDUSTRIAL CO., LTD
发明人：蔡宜良
IPC分类号： A23L3/54 , F26B3/28

3. 发明专利

TW201536433A 用於塗佈或上漆操作中的ＬＥＤ－ＵＶ固化機械审中-公开
简体标题：用于涂布或上漆操作中的ＬＥＤ－ＵＶ固化机械
公开(公告)号：TW201536433A
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：TW104101736
申请日：2015-01-20
申请人：韓率照明股份有限公司 , HANSOL LIGHTING INC.
发明人：金澈 , KIM, CHEOL , 池有相 , JI, YOU-SANG , 申東澈 , SHIN, DONG-CHEOL
IPC分类号： B05D3/06 , F26B3/28
CPC分类号： B05D3/067
摘要：本文中揭露一種用於使所塗佈或所上漆的溶液固化的LED-UV固化機械，包含：主體，安裝於輸送機上；熱處理部分，處於主體的上表面上；LED-UV光源；以及至少一個熱輻射器，其中在將用於塗佈或上漆的溶液(揮發性溶劑+溶質)塗覆至產品的表面上後，塗覆至表面上的溶液的揮發性溶劑藉由通過熱處理部分而蒸發，揮發性溶劑已被蒸發的溶液中的溶質在固化部分中與照射至其的UV光反應，以使得可發生具有強黏著的固化，自LED-UV光源產生的熱經由熱輻射器而有效地散佈且接著排出至外部，以使得LED-UV固化機械的壽命得以延長，經由LED-UV固化機械的透鏡釋放的少量熱被傳遞至產品的表面以改良所塗佈或所上漆的溶液的固化效率，且由於溶液的性質，揮發性溶劑能夠與經由LED-UV固化機械的透鏡釋放的少量熱反應。
简体摘要：本文中揭露一种用于使所涂布或所上漆的溶液固化的LED-UV固化机械，包含：主体，安装于输送机上；热处理部分，处于主体的上表面上；LED-UV光源；以及至少一个热辐射器，其中在将用于涂布或上漆的溶液(挥发性溶剂+溶质)涂覆至产品的表面上后，涂覆至表面上的溶液的挥发性溶剂借由通过热处理部分而蒸发，挥发性溶剂已被蒸发的溶液中的溶质在固化部分中与照射至其的UV光反应，以使得可发生具有强黏着的固化，自LED-UV光源产生的热经由热辐射器而有效地散布且接着排出至外部，以使得LED-UV固化机械的寿命得以延长，经由LED-UV固化机械的透镜释放的少量热被传递至产品的表面以改良所涂布或所上漆的溶液的固化效率，且由于溶液的性质，挥发性溶剂能够与经由LED-UV固化机械的透镜释放的少量热反应。

4. 实用新型

TWM565292U 貨櫃型太陽能源烘乾系統有权
简体标题：货柜型太阳能源烘干系统
公开(公告)号：TWM565292U
公开(公告)日：2018-08-11
申请号：TW107202393
申请日：2018-02-14
申请人：四季洋圃生物機電股份有限公司
发明人：楊境界
IPC分类号： F26B3/28

5. 实用新型

TWM489270U 乾燥箱結構失效
简体标题：干燥箱结构
公开(公告)号：TWM489270U
公开(公告)日：2014-11-01
申请号：TW103208324
申请日：2014-05-13
申请人：南開科技大學 , NAN KAI UNIVERSITY OF TECHNOLOGY
发明人：李明諒
IPC分类号： F26B3/28

6. 实用新型

TWM483085U 美體健康塑身儀失效
简体标题：美体健康塑身仪
公开(公告)号：TWM483085U
公开(公告)日：2014-08-01
申请号：TW103204272
申请日：2014-03-13
申请人：王緒睿
发明人：王緒睿
IPC分类号： A61L2/08 , F26B3/28

7. 实用新型

TWM590234U 臥式傳送物件的紫外線乾燥裝置有权
简体标题：卧式发送对象的紫外线干燥设备
公开(公告)号：TWM590234U
公开(公告)日：2020-02-01
申请号：TW108213510
申请日：2019-10-14
申请人：科嶠工業股份有限公司 , ASIA NEO TECH INDUSTRIAL CO., LTD.
发明人：林豐正 , LIN, FENG JENG
IPC分类号： F26B3/28 , F26B15/04

8. 发明专利

TWI590318B 基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI590318B
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW103107697
申请日：2014-03-06
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：宮崎邦浩 , MIYAZAKI, KUNIHIRO , 林航之介 , HAYASHI, KONOSUKE , 大田垣崇 , OOTAGAKI, TAKASHI , 長嶋裕次 , NAGASHIMA, YUJI
IPC分类号： H01L21/304 , F26B3/28 , F26B5/16
CPC分类号： F26B3/30 , F26B3/28 , F26B5/005 , F26B7/00 , F26B11/18 , H01L21/02057 , H01L21/67034 , H01L21/67115

9. 发明专利

TWI532966B 具有多個紫外線-燈之紫外線光源及使用紫外光對產品進行技術處理的裝置有权
简体标题：具有多个紫外线-灯之紫外线光源及使用紫外光对产品进行技术处理的设备
公开(公告)号：TWI532966B
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：TW098141693
申请日：2009-12-07
申请人：歐斯朗股份有限公司 , OSRAM GESELLSCHAFT MIT BESCHRAENKTER HAFTUNG
发明人：羅瑟奧利佛 , ROSIER, OLIVER , 如德考斯基西格瑪 , RUDAKOWSKI, SIEGMAR , 威寇特任霍德 , WITTKOETTER, REINHOLD
IPC分类号： F26B3/28
CPC分类号： F26B3/28

10. 发明专利

TW201508830A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201508830A
公开(公告)日：2015-03-01
申请号：TW103107697
申请日：2014-03-06
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：宮崎邦浩 , MIYAZAKI, KUNIHIRO , 林航之介 , HAYASHI, KONOSUKE , 大田垣崇 , OOTAGAKI, TAKASHI , 長嶋裕次 , NAGASHIMA, YUJI
IPC分类号： H01L21/304 , F26B3/28 , F26B5/16
CPC分类号： F26B3/30 , F26B3/28 , F26B5/005 , F26B7/00 , F26B11/18 , H01L21/02057 , H01L21/67034 , H01L21/67115
摘要：提供可以邊抑制圖案之崩壞邊進行良好的基板乾燥之基板處理裝置及基板處理方法。與實施型態有關之基板處理裝置(1)具備支撐基板(W)之平台(4)；和對其平台(4)上之基板(W)之表面供給揮發性溶媒之溶媒供給部(8)；和對被供給揮發性溶媒之基板(W)照射光，並對基板(W)加熱以使被供給其揮發性溶媒之基板(W)之表面產生氣層而使揮發性溶媒液珠化之照射部(10)。
简体摘要：提供可以边抑制图案之崩坏边进行良好的基板干燥之基板处理设备及基板处理方法。与实施型态有关之基板处理设备(1)具备支撑基板(W)之平台(4)；和对其平台(4)上之基板(W)之表面供给挥发性溶媒之溶媒供给部(8)；和对被供给挥发性溶媒之基板(W)照射光，并对基板(W)加热以使被供给其挥发性溶媒之基板(W)之表面产生气层而使挥发性溶媒液珠化之照射部(10)。

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