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1. 发明专利

TWI589611B 光學用聚合物及成形此聚合物之光學元件有权
简体标题：光学用聚合物及成形此聚合物之光学组件
公开(公告)号：TWI589611B
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW102147380
申请日：2013-12-20
申请人：日本傑恩股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：佐藤鮎美 , SATO, AYUMI , 原內洋輔 , HARAUCHI, YOSUKE , 西岡寬哉 , NISHIOKA, HIROYA , 寳川卓士 , HOUKAWA, TAKASHI , 梅田謙治 , UMEDA, KENJI , 小松原拓也 , KOMATSUBARA, TAKUYA
IPC分类号： C08F32/08 , G02B1/04 , C08L101/12
CPC分类号： G02B1/041 , C08F232/08 , C08G61/08 , C08G2261/3324 , C08G2261/418 , G02B13/0015 , C08L23/18

2. 发明专利

TW201502153A 水溶性降莰烯型聚合物及其光可成像組成物审中-公开
简体标题：水溶性降莰烯型聚合物及其光可成像组成物
公开(公告)号：TW201502153A
公开(公告)日：2015-01-16
申请号：TW103117991
申请日：2014-05-23
申请人：普羅梅勒斯有限公司 , PROMERUS LLC
发明人：羅德斯賴瑞 , RHODES, LARRY , 史密斯史蒂芬 , SMITH, STEVEN , 伯爾坤修 , BURGOON, HUGH , 藤田和義 , FUJITA, KAZUYOSHI
IPC分类号： C08F32/08 , C08F2/10 , C08J3/24 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC分类号： C08F32/04 , C08F4/70 , C08F132/04 , C08F232/08 , G03C1/73 , G03F7/0045 , G03F7/0395 , G03F7/20 , C08F232/04
摘要：本發明之具體實例涵蓋水溶性多環乙烯基加成聚合物，其具有衍生自涵蓋醣類官能部分之降莰烯型單體之降莰烯型重複單元。本發明之具體實例亦涵蓋具有低催化劑裝載量之低分子量及高分子量聚合物。
简体摘要：本发明之具体实例涵盖水溶性多环乙烯基加成聚合物，其具有衍生自涵盖糖类官能部分之降莰烯型单体之降莰烯型重复单元。本发明之具体实例亦涵盖具有低催化剂装载量之低分子量及高分子量聚合物。

3. 发明专利

TW201443131A 上層膜形成用組成物及使用其之光阻圖案形成方法审中-公开
简体标题：上层膜形成用组成物及使用其之光阻图案形成方法
公开(公告)号：TW201443131A
公开(公告)日：2014-11-16
申请号：TW103109460
申请日：2014-03-14
申请人： AZ電子材料盧森堡有限公司 , AZ ELECTRONIC MATERIALS (LUXEMBOURG) S. A. R. L.
发明人：王曉偉 , WANG, XIAOWEI , 岡安哲雄 , OKAYASU, TETSUO , 帕洛斯基喬治 , PAWLOWSKI, GEORG , 絹田貴史 , KINUTA, TAKAFUMI
IPC分类号： C08L29/12 , C08L45/00 , C08F32/08 , C08F16/36 , G03F7/11 , G03F1/22 , G03F7/38 , G03F7/30 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/091 , C08F20/10 , C08G63/133 , C09D4/00 , G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/322
摘要：本發明提供一種上層膜形成用組成物及使用其之光阻圖案形成方法，該上層膜形成用組成物係於使用極紫外線曝光之圖案形成方法中，能形成粗糙度或圖案形狀優良的圖案。一種上層膜形成用組成物，其特徵為由含有具有親水性基之聯伸三苯衍生物與溶劑而成；及藉由將該組成物塗布於光阻表面並曝光顯影而形成圖案之方法。該組成物亦能進一步含有聚合物。
简体摘要：本发明提供一种上层膜形成用组成物及使用其之光阻图案形成方法，该上层膜形成用组成物系于使用极紫外线曝光之图案形成方法中，能形成粗糙度或图案形状优良的图案。一种上层膜形成用组成物，其特征为由含有具有亲水性基之联伸三苯衍生物与溶剂而成；及借由将该组成物涂布于光阻表面并曝光显影而形成图案之方法。该组成物亦能进一步含有聚合物。

4. 发明专利

TW201411899A 有機電子裝置中之介電結構的表面改質方法审中-公开
简体标题：有机电子设备中之介电结构的表面改质方法
公开(公告)号：TW201411899A
公开(公告)日：2014-03-16
申请号：TW102131702
申请日：2013-09-03
申请人：馬克專利公司 , MERCK PATENT GMBH
发明人：貝可隆湯瑪士 , BACKLUND, TOMAS , 梅伊菲力蒲艾德華 , MAY, PHILIP EDWARD
IPC分类号： H01L51/00 , C08F32/08
CPC分类号： H01L51/0043 , H01L51/0015 , H01L51/052 , H01L51/0529 , H01L51/0541 , H01L51/107 , Y02E10/549
摘要：本發明係關於一種改變有機電子(OE)裝置中，更特定而言有機場效電晶體(OFET)中之介電結構(例如介電層或阻擋層結構)之表面能的方法。
简体摘要：本发明系关于一种改变有机电子(OE)设备中，更特定而言有机场效应管(OFET)中之介电结构(例如介电层或阻挡层结构)之表面能的方法。

5. 发明专利

TW201400517A 聚合物組成物、架橋性樹脂成形體、架橋樹脂成形體及層積體审中-公开
简体标题：聚合物组成物、架桥性树脂成形体、架桥树脂成形体及层积体
公开(公告)号：TW201400517A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW102110429
申请日：2013-03-25
申请人：日本傑恩股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：星野学 , HOSHINO, MANABU
IPC分类号： C08F32/08 , B32B27/32
CPC分类号： C08J5/24 , B32B27/26 , B32B27/325 , C08F283/14 , C08G61/08 , C08G2261/418 , C08J2333/10 , C08L65/00 , C08G2261/1426 , C08G2261/60 , C08G2261/76 , C08J3/24 , C08J5/04 , B32B27/28
摘要：本發明係一種聚合性組成物，其特徵在於：其係含有：包含下式(I)所示之化合物及其他的環烯烴化合物之環烯烴單體混合物；複分解聚合觸媒；及架橋劑之聚合性組成物，其係藉由在170℃以下進行之開環聚合反應，生成在於100℃及140℃之彈性模數均為1.0×108Pa以下的架橋性樹脂，並且，藉由上述架橋性樹脂之架橋反應，生成玻璃轉移點(Tg)在160℃以上的架橋樹脂；一種架橋性樹脂成形體，其係藉由使該聚合性組成物塊狀聚合而得；一種架橋樹脂成形體，其係藉由使該架橋性樹脂成形體架橋而得；及一種層積體，其係層積該等樹脂成形體而成。根據本發明，可提供有用於製造在於高頻區域的介電正接極小、耐熱性、配線嵌入性、及剝離強度優良的層積體之聚合性組成物；將該聚合性組成物塊狀聚合而得之架橋性樹脂成形體；藉由使該架橋性樹脂成形體架橋而得之架橋樹脂成形體；及層積該等樹脂成形體而成之層積體。式中，R1、R2及R3係分別獨立地表示，氫原子或碳數1~20之烴基，R4係表示氫原子或甲基，A係表示單鍵結或碳數1~20之2價的有機基，p係表示0、1或2。
简体摘要：本发明系一种聚合性组成物，其特征在于：其系含有：包含下式(I)所示之化合物及其他的环烯烃化合物之环烯烃单体混合物；复分解聚合触媒；及架桥剂之聚合性组成物，其系借由在170℃以下进行之开环聚合反应，生成在于100℃及140℃之弹性模数均为1.0×108Pa以下的架桥性树脂，并且，借由上述架桥性树脂之架桥反应，生成玻璃转移点(Tg)在160℃以上的架桥树脂；一种架桥性树脂成形体，其系借由使该聚合性组成物块状聚合而得；一种架桥树脂成形体，其系借由使该架桥性树脂成形体架桥而得；及一种层积体，其系层积该等树脂成形体而成。根据本发明，可提供有用于制造在于高频区域的介电正接极小、耐热性、配线嵌入性、及剥离强度优良的层积体之聚合性组成物；将该聚合性组成物块状聚合而得之架桥性树脂成形体；借由使该架桥性树脂成形体架桥而得之架桥树脂成形体；及层积该等树脂成形体而成之层积体。式中，R1、R2及R3系分别独立地表示，氢原子或碳数1~20之烃基，R4系表示氢原子或甲基，A系表示单键结或碳数1~20之2价的有机基，p系表示0、1或2。

6. 发明专利

TWI416259B 化學增幅型負型光阻組成物及圖型之形成方法有权
简体标题：化学增幅型负型光阻组成物及图型之形成方法
公开(公告)号：TWI416259B
公开(公告)日：2013-11-21
申请号：TW097111189
申请日：2008-03-28
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：武田隆信 , TAKEDA, TAKANOBU , 渡邊保 , WATANABE, TAMOTSU , 小板橋龍二 , KOITABASHI, RYUJI , 增永惠一 , MASUNAGA, KEIICHI , 田中啓順 , TANAKA, AKINOBU , 渡邊修 , WATANABE, OSAMU
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/027 , C08F12/24 , C08F12/04 , C08F32/08 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0382 , G03F7/20

7. 发明专利

TWI403523B 包含極性官能基之富外式環合降冰片烯單體之製備方法，其所製成之聚合物及其製備方法有权
简体标题：包含极性官能基之富外式环合降冰片烯单体之制备方法，其所制成之聚合物及其制备方法
公开(公告)号：TWI403523B
公开(公告)日：2013-08-01
申请号：TW096123116
申请日：2007-06-26
申请人： LG化學公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：崔大勝 , CHOI, DAI-SEUNG , 鄭惠英 , JUNG, HYE-YOUNG , 洪性敦 , HONG, SUNG-DON , 李貞旼 , LEE, JUNG-MIN , 李熹溱 , LEE, HEE-JEAN , 全成浩 , CHUN, SUNG-HO
IPC分类号： C08F32/08 , C08F232/08
CPC分类号： C08F32/08 , C07C67/293 , C07C2602/42 , Y10T428/10 , Y10T428/1086 , C07C69/007 , C07C69/145

8. 发明专利

TWI694091B 環烯烴系樹脂膜及使用其之偏光板有权
简体标题：环烯烃系树脂膜及使用其之偏光板
公开(公告)号：TWI694091B
公开(公告)日：2020-05-21
申请号：TW104141586
申请日：2015-12-10
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD.
发明人：藤長将司 , FUJINAGA, MASASHI
IPC分类号： C08F32/08 , C08F16/06 , C08J5/18 , G02B5/30 , B32B27/08

9. 发明专利

TW201910362A 作為光學材料之聚環烯烴聚合物組成物审中-公开
简体标题：作为光学材料之聚环烯烃聚合物组成物
公开(公告)号：TW201910362A
公开(公告)日：2019-03-16
申请号：TW107127638
申请日：2018-08-08
申请人：美商普羅梅勒斯有限公司 , PROMERUS LLC
发明人：羅得思拉里F , RHODES, LARRY F. , 伯透非阿列克 , BURTOVYY, OLEKSANDR , 鄭偉 , ZHANG, WEI
IPC分类号： C08F32/08 , C08K5/00 , C08K3/22 , C08F4/72 , C08F2/44 , C08J5/18 , H01L51/50
摘要：依本發明之實施形態包含組成物，該組成物包含一種以上的單體以及潛伏催化劑和熱活化劑或光活化劑，當前述組成物加熱至50℃至100℃或更高的溫度時進行開環移位聚合(ROMP)而形成基本上透明的薄膜。或者，本發明的組成物在經受合適的輻射時亦進行聚合。其中所採用之單體具有1.4至1.6範圍的折射率，因此能夠調整該等組成物來形成具有不同折射率之透明薄膜。本發明的組成物還包含形成透明薄膜並進一步提高組成物的折射率之無機奈米粒子。因此，本發明的組成物在包括如塗料、膠囊化劑、填料、調平劑等之各種光電子應用中有用。
简体摘要：依本发明之实施形态包含组成物，该组成物包含一种以上的单体以及潜伏催化剂和热活化剂或光活化剂，当前述组成物加热至50℃至100℃或更高的温度时进行开环移位聚合(ROMP)而形成基本上透明的薄膜。或者，本发明的组成物在经受合适的辐射时亦进行聚合。其中所采用之单体具有1.4至1.6范围的折射率，因此能够调整该等组成物来形成具有不同折射率之透明薄膜。本发明的组成物还包含形成透明薄膜并进一步提高组成物的折射率之无机奈米粒子。因此，本发明的组成物在包括如涂料、胶囊化剂、填料、调平剂等之各种光电子应用中有用。

10. 发明专利

TW201843130A 用於控制和抑制單體聚合的組合物、其使用方法及其製備方法审中-公开
简体标题：用于控制和抑制单体聚合的组合物、其使用方法及其制备方法
公开(公告)号：TW201843130A
公开(公告)日：2018-12-16
申请号：TW107111964
申请日：2018-04-03
申请人：印度商多爾夫凱塔爾化學製品(I)私人有限公司 , DORF KETAL CHEMICALS (INDIA) PRIVATE LIMITED
发明人：蘇布拉馬尼亞姆馬赫什 , SUBRAMANIYAM, MAHESH
IPC分类号： C07C7/20 , C07C15/44 , C07C15/46 , C07C13/465 , C08F2/40 , C08F12/36 , C08F12/06 , C08F32/08
摘要：本發明係關於一種用於控制及抑制單體聚合之添加劑組合物，其中該組合物包含(a)包含兒茶酚化合物之酚化合物與(b1)脂族三級胺、(b2)脂族三級胺之經氧化物處理之衍生物、或(b3)其混合物的組合，其中脂族三級胺在該脂族三級胺之烷基鏈中含有一或多個羥基。在一個實施例中，本發明亦關於一種用於藉由利用本發明之添加劑組合物來控制及抑制單體聚合之方法。在另一實施例中，本發明亦關於一種使用本發明之添加劑組合物控制及抑制單體聚合之方法。在另一實施例中，本發明亦關於用於控制及抑制初級分餾器(或乙烯設備)中的單體聚合之方法，及用於操作初級分餾器之方法，及用於減少初級分餾器中的積垢及聚合物沉積之方法，及用以延長初級分餾器或乙烯設備之運轉長度之方法。
简体摘要：本发明系关于一种用于控制及抑制单体聚合之添加剂组合物，其中该组合物包含(a)包含儿茶酚化合物之酚化合物与(b1)脂族三级胺、(b2)脂族三级胺之经氧化物处理之衍生物、或(b3)其混合物的组合，其中脂族三级胺在该脂族三级胺之烷基链中含有一或多个羟基。在一个实施例中，本发明亦关于一种用于借由利用本发明之添加剂组合物来控制及抑制单体聚合之方法。在另一实施例中，本发明亦关于一种使用本发明之添加剂组合物控制及抑制单体聚合之方法。在另一实施例中，本发明亦关于用于控制及抑制初级分馏器(或乙烯设备)中的单体聚合之方法，及用于操作初级分馏器之方法，及用于减少初级分馏器中的积垢及聚合物沉积之方法，及用以延长初级分馏器或乙烯设备之运转长度之方法。

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