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1. 发明专利

TWI700181B 積層膜有权
简体标题：积层膜
公开(公告)号：TWI700181B
公开(公告)日：2020-08-01
申请号：TW105105432
申请日：2016-02-24
申请人：日商東洋紡股份有限公司 , TOYOBO CO., LTD. , 日商三井化學股份有限公司 , MITSUI CHEMICALS, INC.
发明人：山崎敦史 , YAMAZAKI, ATSUSHI , 小林正典 , KOBAYASHI, MASANORI , 甲田千佳子 , KODA, CHIKAKO , 內田隆 , UCHIDA, TAKASHI
IPC分类号： B32B27/06 , B32B9/04

2. 发明专利

TW202017743A 有效抑制串音的電磁波屏蔽複合結構审中-公开
简体标题：有效抑制串音的电磁波屏蔽复合结构
公开(公告)号：TW202017743A
公开(公告)日：2020-05-16
申请号：TW107139521
申请日：2018-11-07
申请人：禾達材料科技股份有限公司 , HOTEK MATERIAL TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：吳家鈺 , WU, CHIA YU
IPC分类号： B32B9/04 , B32B15/08 , B32B27/00 , H05K9/00 , H01B11/00 , H01B7/02 , H01P3/00
摘要：本發明公開一種有效抑制串音的電磁波屏蔽複合結構，其包括隔離層、碳膜層以及金屬層，碳膜層以及金屬層分別設置於隔離層兩相對表面，使隔離層夾置於碳膜層以及金屬層之間。其中，隔離層是一絕緣高電阻材料，碳膜層是一次高導電性、低電阻高頻吸收材料。金屬層是一高導電性、低電阻金屬材料。本發明復公開一種傳輸線包括導線組以及設置在導線組上的電磁波屏蔽複合結構。本發明所提供的電磁波屏蔽複合結構可符合結構的輕薄化，緻密性、可撓曲性及高附著性(無脫現象)，從而提升產品信賴性，均勻分布、阻抗變化小而品質穩定，節省材料並適合自動化大量生產。
简体摘要：本发明公开一种有效抑制串音的电磁波屏蔽复合结构，其包括隔离层、碳膜层以及金属层，碳膜层以及金属层分别设置于隔离层两相对表面，使隔离层夹置于碳膜层以及金属层之间。其中，隔离层是一绝缘高电阻材料，碳膜层是一次高导电性、低电阻高频吸收材料。金属层是一高导电性、低电阻金属材料。本发明复公开一种传输线包括导线组以及设置在导线组上的电磁波屏蔽复合结构。本发明所提供的电磁波屏蔽复合结构可符合结构的轻薄化，致密性、可挠曲性及高附着性(无脱现象)，从而提升产品信赖性，均匀分布、阻抗变化小而品质稳定，节省材料并适合自动化大量生产。

3. 实用新型

TWM594539U 手機攝像鏡頭保護貼之防曝裝置（二）有权
简体标题：手机摄像镜头保护贴之防曝设备（二）
公开(公告)号：TWM594539U
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：TW108212865
申请日：2019-09-27
申请人：林家豪
发明人：林家豪
IPC分类号： B32B7/06 , B32B7/12 , B32B9/04 , B32B33/00 , B32B38/14 , G03B11/04 , G03B17/56 , G03B19/14 , H04M1/02

4. 发明专利

TW201920991A 具有保留光學性質的防刮物件审中-公开
简体标题：具有保留光学性质的防刮对象
公开(公告)号：TW201920991A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107130772
申请日：2014-09-12
申请人：美商康寧公司 , CORNING INCORPORATED
发明人：科赫三世卡爾威廉 , KOCH III,KARL WILLIAM , 波森查爾斯安德魯 , PAULSON,CHARLES ANDREW , 布萊斯詹姆士喬瑟夫 , PRICE,JAMES JOSEPH
IPC分类号： G02B1/10 , B32B7/02 , B32B9/04
摘要：本揭示內容之一或多個態樣係關於一種物件，其包括安置於一基板上之一光學膜結構，該基板可包括可為非晶形或結晶的一強化或非強化基板，以使得該物件展現防刮性且保留與不具有安置於其上的該光學膜結構之該基板相同或較之改良的光學性質。在一或多個實施例中，該物件展現在可見光譜(例如，380 nm-780 nm)範圍內85%或85%以上之一平均透射率。該光學膜結構之實施例包括含鋁氧化物、含鋁氮氧化物、含鋁氮化物(例如，AlN)及其組合。本文揭示的該等光學膜結構亦包括一透明電介質，其包括諸如氧化矽、氧化鍺、氧化鋁及其組合的氧化物。本案亦提供形成此等物件之方法。
简体摘要：本揭示内容之一或多个态样系关于一种对象，其包括安置于一基板上之一光学膜结构，该基板可包括可为非晶形或结晶的一强化或非强化基板，以使得该对象展现防刮性且保留与不具有安置于其上的该光学膜结构之该基板相同或较之改良的光学性质。在一或多个实施例中，该对象展现在可见光谱(例如，380 nm-780 nm)范围内85%或85%以上之一平均透射率。该光学膜结构之实施例包括含铝氧化物、含铝氮氧化物、含铝氮化物(例如，AlN)及其组合。本文揭示的该等光学膜结构亦包括一透明电介质，其包括诸如氧化硅、氧化锗、氧化铝及其组合的氧化物。本案亦提供形成此等对象之方法。

5. 发明专利

TW201910259A 光學膜、光學膜組件及其製造方法审中-公开
简体标题：光学膜、光学膜组件及其制造方法
公开(公告)号：TW201910259A
公开(公告)日：2019-03-16
申请号：TW106127096
申请日：2017-08-10
申请人：國立中央大學
发明人：陳昇暉 , 詹世豪 , 曾少澤 , 廖博輝
IPC分类号： C01B21/068 , G02B1/00 , B32B9/04 , C23C14/35 , C23C14/02 , C23C14/06 , C23C14/54
摘要：本發明提供一種光學膜、光學膜組件及其製造方法，該光學膜的材質為氮化矽，並滿足以下(I)至(III)之條件：(I) 該光學膜的密度介於2.7至4.2 g．cm-3之間；(II) 該光學膜的折射率介於1.6至2.1之間；以及(III) 該光學膜的硬度介於18 GPa至30 GPa之間。
简体摘要：本发明提供一种光学膜、光学膜组件及其制造方法，该光学膜的材质为氮化硅，并满足以下(I)至(III)之条件：(I) 该光学膜的密度介于2.7至4.2 g．cm-3之间；(II) 该光学膜的折射率介于1.6至2.1之间；以及(III) 该光学膜的硬度介于18 GPa至30 GPa之间。

6. 发明专利

TW201902671A 依天然材料模製且經冷燒結製造之結構化陶瓷複合物审中-公开
简体标题：依天然材料模制且经冷烧结制造之结构化陶瓷复合物
公开(公告)号：TW201902671A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW106144450
申请日：2017-12-18
申请人：荷蘭商薩比克環球科技公司 , SABIC GLOBAL TECHNOLOGIES B.V.
发明人：巴賈吉德凡卓 , BAJAJ, DEVENDRA
IPC分类号： B32B3/12 , B32B3/26 , B32B7/12 , B32B9/00 , B32B9/04 , B29C70/64
摘要：本文描述單層及多層冷燒結陶瓷複合物及用於自嵌入開孔非陶瓷基材之孔內的無機化合物製造其之方法。冷燒結方法及基於開孔基材之微架構的多樣性允許製造具有優良強度、韌性及抗裂紋擴展性之多種單層及多層冷燒結陶瓷複合物。
简体摘要：本文描述单层及多层冷烧结陶瓷复合物及用于自嵌入开孔非陶瓷基材之孔内的无机化合物制造其之方法。冷烧结方法及基于开孔基材之微架构的多样性允许制造具有优良强度、韧性及抗裂纹扩展性之多种单层及多层冷烧结陶瓷复合物。

7. 发明专利

TWI645969B 多層石墨烯軟板轉印方法及石墨烯軟板組有权
简体标题：多层石墨烯软板转印方法及石墨烯软板组
公开(公告)号：TWI645969B
公开(公告)日：2019-01-01
申请号：TW106135087
申请日：2017-10-13
申请人：律勝科技股份有限公司
发明人：蘇清源 , 張媛婷 , 賴柏宏
IPC分类号： B32B37/12 , B32B37/26 , B32B38/00 , B32B9/04 , B32B7/12 , B32B27/00 , C09J163/00 , C09J179/08 , H05K1/03

8. 发明专利

TWI642553B 含有環糊精之片材有权
简体标题：含有环煳精之片材
公开(公告)号：TWI642553B
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW105111033
申请日：2016-04-08
申请人：王子控股股份有限公司 , OJI HOLDINGS CORPORATION
发明人：本多櫻 , HONDA, SAKURA , 中山靖章 , NAKAYAMA, YASUFUMI , 廣松稔典 , HIROMATSU, TOSHINORI
IPC分类号： B32B9/02 , B32B9/04

9. 发明专利

TW201833297A 含矽樹脂組成物、含矽樹脂薄膜、二氧化矽薄膜、發光顯示元件面板及發光顯示裝置审中-公开
简体标题：含硅树脂组成物、含硅树脂薄膜、二氧化硅薄膜、发光显示组件皮肤及发光显示设备
公开(公告)号：TW201833297A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW106145945
申请日：2017-12-27
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：野田国宏 , NODA, KUNIHIRO , 千坂博樹 , CHISAKA, HIROKI , 塩田大 , SHIOTA, DAI
IPC分类号： C09K11/02 , C08L83/00 , C08J5/18 , C08J7/00 , C01B33/113 , G02B5/00 , B32B9/04 , G02F1/13357 , H01L27/32
摘要：本發明的課題為提供一種抑制破裂的發生，並且可以良好分散的狀態形成包含量子點之含矽樹脂薄膜或二氧化矽薄膜之含矽樹脂組成物、與包含量子點之含矽樹脂薄膜及二氧化矽薄膜以及其製造方法、與發光顯示元件用之光學薄膜及層合體、與包含該光學薄膜或該層合體之發光顯示元件面板、與具備該發光顯示元件面板之發光顯示裝置、與前述之層合體之製造方法。　　作為解決手段為在包含含矽樹脂(A)、與量子點(B)、與溶劑(S)之含矽樹脂組成物，作為含矽樹脂(A)，係使用選自矽氧烷樹脂及聚矽烷中之1種以上，將特定構造之環烷基乙酸酯含有在溶劑(S)。作為環烷基乙酸酯，適合使用環己基乙酸酯。
简体摘要：本发明的课题为提供一种抑制破裂的发生，并且可以良好分散的状态形成包含量子点之含硅树脂薄膜或二氧化硅薄膜之含硅树脂组成物、与包含量子点之含硅树脂薄膜及二氧化硅薄膜以及其制造方法、与发光显示组件用之光学薄膜及层合体、与包含该光学薄膜或该层合体之发光显示组件皮肤、与具备该发光显示组件皮肤之发光显示设备、与前述之层合体之制造方法。　　作为解决手段为在包含含硅树脂(A)、与量子点(B)、与溶剂(S)之含硅树脂组成物，作为含硅树脂(A)，系使用选自硅氧烷树脂及聚硅烷中之1种以上，将特定构造之环烷基乙酸酯含有在溶剂(S)。作为环烷基乙酸酯，适合使用环己基乙酸酯。

10. 发明专利

TW201825627A 轉印片及其製造方法、放熱構件的形成方法审中-公开
简体标题：转印片及其制造方法、放热构件的形成方法
公开(公告)号：TW201825627A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106143375
申请日：2017-12-11
申请人：日商捷恩智股份有限公司 , JNC CORPORATION
发明人：古賀真 , KOGA, SHIN , 藤原武 , FUJIWARA, TAKESHI
IPC分类号： C09J129/14 , C08F216/38 , C08F216/08 , C08F218/08 , C09J11/04 , C09J7/02 , C09J9/00 , B32B9/04 , B32B7/12 , B32B7/06 , H01L23/36 , H05K7/20
摘要：本發明提供一種更小型且高性能的放熱構件。一種轉印片，其依序積層有包含剝離性膜的剝離層、包含聚乙烯醇縮甲醛樹脂的第一接著劑層、包含碳材料的導熱材料層、包含聚乙烯醇縮甲醛樹脂的第二接著劑層而成。
简体摘要：本发明提供一种更小型且高性能的放热构件。一种转印片，其依序积层有包含剥离性膜的剥离层、包含聚乙烯醇缩甲醛树脂的第一接着剂层、包含碳材料的导热材料层、包含聚乙烯醇缩甲醛树脂的第二接着剂层而成。

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