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1. 发明专利

TWI684621B 含有含乙烯基之化合物的硬化性組成物有权
简体标题：含有含乙烯基之化合物的硬化性组成物
公开(公告)号：TWI684621B
公开(公告)日：2020-02-11
申请号：TW104131468
申请日：2015-09-23
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：千坂博樹 , CHISAKA, HIROKI , 野田国宏 , NODA, KUNIHIRO , 塩田大 , SHIOTA, DAI
IPC分类号： C08L29/10 , C08F16/12 , C08K5/3432 , C08K5/17 , C08K5/101 , G02B1/04

2. 发明专利

TWI682925B 咪唑化合物、金屬表面處理液、金屬之表面處理方法及層合體之製造方法有权
简体标题：咪唑化合物、金属表面处理液、金属之表面处理方法及层合体之制造方法
公开(公告)号：TWI682925B
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：TW104128396
申请日：2015-08-28
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：石川達郎 , ISHIKAWA, TATSURO , 野田国宏 , NODA, KUNIHIRO , 大內康秀 , OHUCHI, YASUHIDE , 千坂博樹 , CHISAKA, HIROKI , 塩田大 , SHIOTA, DAI , 前田幸嗣 , MAEDA, YUKITSUGU , 井本文 , IMOTO, TAKAFUMI , 藤田浩平 , FUJITA, KOUHEI , 赤井泰之 , AKAI, YASUYUKI
IPC分类号： C07D233/60 , C23F11/00 , G03F7/004 , C23C22/00 , G03F7/039 , H05K3/28

3. 发明专利

TW201839039A 圖型形成方法及聚矽烷樹脂前驅物之製造方法审中-公开
简体标题：图型形成方法及聚硅烷树脂前驱物之制造方法
公开(公告)号：TW201839039A
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：TW106145671
申请日：2017-12-26
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：塩田大 , SHIOTA, DAI , 千坂博樹 , CHISAKA, HIROKI , 野田国宏 , NODA, KUNIHIRO , 染谷和也 , SOMEYA, KAZUYA
IPC分类号： C08G77/42 , C08G77/60 , G03F7/11 , H01L21/027
摘要： [課題] 提供一種可抑制具備電極之支撐體上的顯影殘渣產生之圖型形成方法及可適合用於該圖型形成方法之聚矽烷-聚矽氧烷樹脂前驅物之製造方法。　　[解決手段] 一種圖型形成方法，其包含：於具備電極之支撐體上形成含矽組成物膜的步驟、於前述含矽組成物膜上形成樹脂組成物膜的步驟，及形成前述樹脂組成物膜之圖型的步驟。
简体摘要： [课题] 提供一种可抑制具备电极之支撑体上的显影残渣产生之图型形成方法及可适合用于该图型形成方法之聚硅烷-聚硅氧烷树脂前驱物之制造方法。　　[解决手段] 一种图型形成方法，其包含：于具备电极之支撑体上形成含硅组成物膜的步骤、于前述含硅组成物膜上形成树脂组成物膜的步骤，及形成前述树脂组成物膜之图型的步骤。

4. 发明专利

TW201833297A 含矽樹脂組成物、含矽樹脂薄膜、二氧化矽薄膜、發光顯示元件面板及發光顯示裝置审中-公开
简体标题：含硅树脂组成物、含硅树脂薄膜、二氧化硅薄膜、发光显示组件皮肤及发光显示设备
公开(公告)号：TW201833297A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW106145945
申请日：2017-12-27
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：野田国宏 , NODA, KUNIHIRO , 千坂博樹 , CHISAKA, HIROKI , 塩田大 , SHIOTA, DAI
IPC分类号： C09K11/02 , C08L83/00 , C08J5/18 , C08J7/00 , C01B33/113 , G02B5/00 , B32B9/04 , G02F1/13357 , H01L27/32
摘要：本發明的課題為提供一種抑制破裂的發生，並且可以良好分散的狀態形成包含量子點之含矽樹脂薄膜或二氧化矽薄膜之含矽樹脂組成物、與包含量子點之含矽樹脂薄膜及二氧化矽薄膜以及其製造方法、與發光顯示元件用之光學薄膜及層合體、與包含該光學薄膜或該層合體之發光顯示元件面板、與具備該發光顯示元件面板之發光顯示裝置、與前述之層合體之製造方法。　　作為解決手段為在包含含矽樹脂(A)、與量子點(B)、與溶劑(S)之含矽樹脂組成物，作為含矽樹脂(A)，係使用選自矽氧烷樹脂及聚矽烷中之1種以上，將特定構造之環烷基乙酸酯含有在溶劑(S)。作為環烷基乙酸酯，適合使用環己基乙酸酯。
简体摘要：本发明的课题为提供一种抑制破裂的发生，并且可以良好分散的状态形成包含量子点之含硅树脂薄膜或二氧化硅薄膜之含硅树脂组成物、与包含量子点之含硅树脂薄膜及二氧化硅薄膜以及其制造方法、与发光显示组件用之光学薄膜及层合体、与包含该光学薄膜或该层合体之发光显示组件皮肤、与具备该发光显示组件皮肤之发光显示设备、与前述之层合体之制造方法。　　作为解决手段为在包含含硅树脂(A)、与量子点(B)、与溶剂(S)之含硅树脂组成物，作为含硅树脂(A)，系使用选自硅氧烷树脂及聚硅烷中之1种以上，将特定构造之环烷基乙酸酯含有在溶剂(S)。作为环烷基乙酸酯，适合使用环己基乙酸酯。

5. 发明专利

TW201833193A 聚矽烷化合物、組合物、硬化物及基板之製造方法、以及陰離子聚合選擇促進劑审中-公开
简体标题：聚硅烷化合物、组合物、硬化物及基板之制造方法、以及阴离子聚合选择促进剂
公开(公告)号：TW201833193A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW106146242
申请日：2017-12-28
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：染谷和也 , SOMEYA, KAZUYA , 野田国宏 , NODA, KUNIHIRO , 千坂博樹 , CHISAKA, HIROKI , 塩田大 , SHIOTA, DAI
IPC分类号： C08G77/60 , C08L83/16 , C08K5/32 , C08K5/3412 , C09D183/16 , C09D7/12
摘要：本發明提供一種可抑制包含聚矽烷化合物之膜中之釋氣產生及微裂產生的聚矽烷化合物之製造方法、包含該聚矽烷化合物之組合物、硬化物及基板、以及聚矽烷化合物之製造中之陰離子聚合選擇促進劑。本發明之聚矽烷化合物之製造方法包括：於硝醯基化合物之存在下使鹵矽烷化合物進行反應。本發明之聚矽烷化合物之製造中之陰離子聚合選擇促進劑含有包含下述通式(A)所表示之結構之硝醯基化合物。 (式(A)中，Ra1、Ra2、Ra3及Ra4分別獨立地為氫原子或有機基。Ra1與Ra2可相互鍵結而形成環。又，Ra3與Ra4可相互鍵結而形成環)。
简体摘要：本发明提供一种可抑制包含聚硅烷化合物之膜中之释气产生及微裂产生的聚硅烷化合物之制造方法、包含该聚硅烷化合物之组合物、硬化物及基板、以及聚硅烷化合物之制造中之阴离子聚合选择促进剂。本发明之聚硅烷化合物之制造方法包括：于硝酰基化合物之存在下使卤硅烷化合物进行反应。本发明之聚硅烷化合物之制造中之阴离子聚合选择促进剂含有包含下述通式(A)所表示之结构之硝酰基化合物。 (式(A)中，Ra1、Ra2、Ra3及Ra4分别独立地为氢原子或有机基。Ra1与Ra2可相互键结而形成环。又，Ra3与Ra4可相互键结而形成环)。

6. 发明专利

TW201831600A 樹脂組合物、樹脂組合物之製造方法、膜形成方法及硬化物审中-公开
简体标题：树脂组合物、树脂组合物之制造方法、膜形成方法及硬化物
公开(公告)号：TW201831600A
公开(公告)日：2018-09-01
申请号：TW106145799
申请日：2017-12-26
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：野田国宏 , NODA, KUNIHIRO , 千坂博樹 , CHISAKA, HIROKI , 染谷和也 , SOMEYA, KAZUYA , 塩田大 , SHIOTA, DAI
IPC分类号： C08L83/00 , C08L83/04
摘要：本發明提供一種所形成之膜之面內均勻性優異之樹脂組合物、該樹脂組合物之製造方法、該樹脂組合物之硬化物及使用該樹脂組合物之膜形成方法。本發明之樹脂組合物係包括含矽樹脂成分及溶劑者，且上述含矽樹脂成分包含選自由下述(I)及(II)所組成之群中之至少一種： (I)具有聚矽烷結構(I-1)及聚矽氧烷結構(I-2)之聚矽烷-聚矽氧烷樹脂 (II)具有聚矽烷結構(II-1)之樹脂與具有聚矽氧烷結構(II-2)之樹脂之混合物，上述溶劑包含選自由萜烯化合物、以及含環狀骨架之乙酸酯化合物(其中，上述萜烯化合物除外)所組成之群中之至少一種溶劑，所述萜烯化合物具有選自由羥基及乙醯氧基所組成之群中之至少一種基。
简体摘要：本发明提供一种所形成之膜之面内均匀性优异之树脂组合物、该树脂组合物之制造方法、该树脂组合物之硬化物及使用该树脂组合物之膜形成方法。本发明之树脂组合物系包括含硅树脂成分及溶剂者，且上述含硅树脂成分包含选自由下述(I)及(II)所组成之群中之至少一种： (I)具有聚硅烷结构(I-1)及聚硅氧烷结构(I-2)之聚硅烷-聚硅氧烷树脂 (II)具有聚硅烷结构(II-1)之树脂与具有聚硅氧烷结构(II-2)之树脂之混合物，上述溶剂包含选自由萜烯化合物、以及含环状骨架之乙酸酯化合物(其中，上述萜烯化合物除外)所组成之群中之至少一种溶剂，所述萜烯化合物具有选自由羟基及乙酰氧基所组成之群中之至少一种基。

7. 发明专利

TW201808913A 咪唑化合物、金屬表面處理液、金屬之表面處理方法及層合體之製造方法审中-公开
简体标题：咪唑化合物、金属表面处理液、金属之表面处理方法及层合体之制造方法
公开(公告)号：TW201808913A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106142408
申请日：2015-08-28
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：石川達郎 , ISHIKAWA, TATSURO , 野田国宏 , NODA, KUNIHIRO , 大內康秀 , OHUCHI, YASUHIDE , 千坂博樹 , CHISAKA, HIROKI , 塩田大 , SHIOTA, DAI , 前田幸嗣 , MAEDA, YUKITSUGU , 井本文 , IMOTO, TAKAFUMI , 藤田浩平 , FUJITA, KOUHEI , 赤井泰之 , AKAI, YASUYUKI
IPC分类号： C07D233/60 , C23F11/14
CPC分类号： C07D233/60 , C08K5/3445 , C23C22/02 , C23C22/05 , C23F11/00 , G03F7/004 , G03F7/031 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/322 , G03F7/40 , H05K1/09 , H05K3/28 , H05K3/4644 , H05K2201/032
摘要：本發明係提供可供予遷移(migration)或配線表面之氧化之抑制效果優異之表面處理液的新規咪唑化合物，提供含有該咪唑化合物之金屬表面處理液，提供使用該金屬表面處理液之金屬之表面處理方法、及使用該表面處理液之層合體之製造方法。本發明係使用在所定之位置被所定之結構的芳香族基與可具有取代基之咪唑基取代之含有特定之結構之飽和脂肪酸或飽和脂肪酸酯之表面處理液，將金屬進行表面處理。
简体摘要：本发明系提供可供予迁移(migration)或配线表面之氧化之抑制效果优异之表面处理液的新规咪唑化合物，提供含有该咪唑化合物之金属表面处理液，提供使用该金属表面处理液之金属之表面处理方法、及使用该表面处理液之层合体之制造方法。本发明系使用在所定之位置被所定之结构的芳香族基与可具有取代基之咪唑基取代之含有特定之结构之饱和脂肪酸或饱和脂肪酸酯之表面处理液，将金属进行表面处理。

8. 发明专利

TWI699619B 圖案形成方法有权
简体标题：图案形成方法
公开(公告)号：TWI699619B
公开(公告)日：2020-07-21
申请号：TW105116918
申请日：2016-05-30
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：野田国宏 , NODA, KUNIHIRO , 千坂博樹 , CHISAKA, HIROKI , 塩田大 , SHIOTA, DAI
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/32

9. 发明专利

TWI684589B 光微影用顯影液及阻劑圖型形成方法有权
简体标题：光微影用显影液及阻剂图型形成方法
公开(公告)号：TWI684589B
公开(公告)日：2020-02-11
申请号：TW105106167
申请日：2016-03-01
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：千坂博樹 , CHISAKA, HIROKI , 野田国宏 , NODA, KUNIHIRO , 三隅浩一 , MISUMI, KOICHI , 塩田大 , SHIOTA, DAI
IPC分类号： C07D233/58 , G03F7/32 , H01L21/027

10. 发明专利

TW201947324A 感能量性組成物、硬化物，及圖型形成方法审中-公开
简体标题：感能量性组成物、硬化物，及图型形成方法
公开(公告)号：TW201947324A
公开(公告)日：2019-12-16
申请号：TW108114281
申请日：2019-04-24
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. , 學校法人東京理科大學 , TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE FOUNDATION
发明人：野田国宏 , NODA, KUNIHIRO , 塩田大 , SHIOTA, DAI , 有光晃二 , ARIMITSU, KOJI
IPC分类号： G03F7/075 , H01L21/027
摘要：本發明之課題在於提供一種硬化性優異之感能量性組成物、該組成物之硬化物，及圖型形成方法。其解決手段為一種感能量性組成物，其係包含選自由能形成聚矽烷化合物之矽烷化合物單體、矽烷化合物寡聚物及聚矽烷化合物所成群之至少1種之矽烷化合物(A)，以及下述式(1)所示之鹼產生劑(B)。 (上述式中，R1~R11係各自獨立表示氫原子、鹵素原子、硝基、烷基、芳基、芳基烷基或烷氧基，又，R5及R6係可隔著單鍵或2價連結基而互相連結，Zq+表示由pKa 24以上之鹼所構成之q價之相對陽離子，q表示1以上之整數。)
简体摘要：本发明之课题在于提供一种硬化性优异之感能量性组成物、该组成物之硬化物，及图型形成方法。其解决手段为一种感能量性组成物，其系包含选自由能形成聚硅烷化合物之硅烷化合物单体、硅烷化合物寡聚物及聚硅烷化合物所成群之至少1种之硅烷化合物(A)，以及下述式(1)所示之碱产生剂(B)。 (上述式中，R1~R11系各自独立表示氢原子、卤素原子、硝基、烷基、芳基、芳基烷基或烷氧基，又，R5及R6系可隔着单键或2价链接基而互相链接，Zq+表示由pKa 24以上之碱所构成之q价之相对阳离子，q表示1以上之整数。)

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