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    • 8. 发明专利
    • 表面處理銅箔、以及使用其之覆銅積層板及印刷配線板
    • 表面处理铜箔、以及使用其之覆铜积层板及印刷配线板
    • TW201920776A
    • 2019-06-01
    • TW107125309
    • 2018-07-23
    • 日商古河電氣工業股份有限公司FURUKAWA ELECTRIC CO., LTD.
    • 齋藤貴広SAITO, TAKAHIRO
    • C25D5/10C25D7/06B32B15/16B32B15/20H05K1/09
    • 本發明提供一種可兼顧優異的高頻特性與高密接性之表面處理銅箔等。本發明之表面處理銅箔係具有銅箔基體,且於該銅箔基體之至少一面,具有至少包含形成有粗化粒子之粗化處理層的表面處理皮膜之表面處理銅箔,其特徵在於:在藉由掃描式電子顯微鏡(SEM)觀察前述表面處理皮膜之表面所得的分析區域中,計算長邊方向尺寸t1為0.1 µm以上之粗化粒子之個數時,長邊方向尺寸t1為3.0 µm以下之粗化粒子之個數比率為99.0%以上,且前述個數比率中長邊方向尺寸t1為1.0至3.0 µm之粗化粒子所佔之個數比率為2.0至20.0%,長邊方向尺寸t1相對於短邊方向尺寸t2之比(t1/t2)為2以上之粗化粒子於前述長邊方向尺寸t1為1.0至3.0 µm之粗化粒子中所佔之個數比率為20%以上。
    • 本发明提供一种可兼顾优异的高频特性与高密接性之表面处理铜箔等。本发明之表面处理铜箔系具有铜箔基体,且于该铜箔基体之至少一面,具有至少包含形成有粗化粒子之粗化处理层的表面处理皮膜之表面处理铜箔,其特征在于:在借由扫描式电子显微镜(SEM)观察前述表面处理皮膜之表面所得的分析区域中,计算长边方向尺寸t1为0.1 µm以上之粗化粒子之个数时,长边方向尺寸t1为3.0 µm以下之粗化粒子之个数比率为99.0%以上,且前述个数比率中长边方向尺寸t1为1.0至3.0 µm之粗化粒子所占之个数比率为2.0至20.0%,长边方向尺寸t1相对于短边方向尺寸t2之比(t1/t2)为2以上之粗化粒子于前述长边方向尺寸t1为1.0至3.0 µm之粗化粒子中所占之个数比率为20%以上。