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    • 6. 发明专利
    • 貼附剝離用膠帶之方法及裝置 METHOD AND APPARATUS FOR ATTACHING A PEELING TAPE
    • 贴附剥离用胶带之方法及设备 METHOD AND APPARATUS FOR ATTACHING A PEELING TAPE
    • TWI326107B
    • 2010-06-11
    • TW095143270
    • 2006-11-22
    • 東京精密股份有限公司
    • 雨谷稔
    • H01LB65H
    • H01L21/67132Y10T156/1105Y10T156/1168Y10T156/1179Y10T156/17Y10T156/1734Y10T156/1788Y10T156/1906Y10T156/1978
    • 本發明提供一種剝離用膠帶貼附方法,其用於將一剝離用膠帶(4)貼附在一貼附於一晶圓(20)之表面上的表面保護膜(11)上,該晶圓承載於一活動台(31)上,其中該表面保護膜向上,且該剝離用膠帶供應於該晶圓之該表面保護膜上。該活動台以使該晶圓之一末端(28)定位於一剝離用膠帶貼附單元(46)之下之方式移動,且藉由使該剝離用膠帶貼附單元經由該剝離用膠帶擠壓於該晶圓之該表面保護膜而施加壓力。其後,該活動台朝該晶圓之另一末端(29)移動,且在該活動台自該剝離用膠帶貼附單元移動一預定距離後,該壓力被取消。因此,可防止該晶圓在貼附該剝離用膠帶時破裂。此外,本發明提供一種用於執行此方法之剝離用膠帶貼附裝置。 【創作特點】 為達成上述目的,根據本發明之一第一態樣,其中提供一種剝離用膠帶貼附裝置,其用於將一剝離用膠帶貼附在一貼附於一晶圓之表面上的表面保護膜上,該裝置包含:一水平活動台,其用於使該表面保護膜向上地承載該晶圓;一供應構件,其用於將該剝離用膠帶供應至承載於該活動台上之該晶圓之該表面保護膜上;一剝離用膠帶貼附構件,其用於將自該供應構件供應之該剝離用膠帶貼附在該晶圓之該表面保護膜上;及一擠壓構件,其用於藉由使該剝離用膠帶貼附構件經由該剝離用膠帶擠壓於該晶圓之該表面保護膜而施加一擠壓力,其中當該晶圓之一末端由該活動台定位於該剝離用膠帶貼附構件之下時,該擠壓構件藉由使該剝離用膠帶貼附構件經由該剝離用膠帶擠壓於該表面保護膜而施加擠壓力,且當該活動台自該剝離用膠帶貼附構件朝該晶圓之另一末端移動一預定距離時該擠壓力被取消。
      特定言之,在第一態樣中,藉由使該剝離用膠帶貼附構件僅在該晶圓之一末端附近擠壓於該表面保護膜而施加一擠壓力,從而防止整個晶圓上發生切口或裂縫。同樣,此精確控制操作可防止剝離用膠帶與分割膠帶彼此黏合。在取消該擠壓力後,該剝離用膠帶貼附構件較佳由其自身重力與該剝離用膠帶保持接觸。
      根據本發明之一第二態樣,其中提供一如第一態樣中所描述之剝離用膠帶貼附構件,其中當該擠壓力被取消時,一間隙形成於該剝離用膠帶貼附裝置與該表面保護膜之間。
      持定言之,在第二態樣中,由該剝離用膠帶貼附構件經由該剝離用膠帶施加在該表面保護膜上之力可減小至零,從而可進一步防止切口或裂縫或內部應變。
      根據本發明之一第三態樣,其中提供一如第一或第二態樣中所描述之剝離用膠帶貼附裝置,其中該晶圓之後表面經預先研磨,其中該表面保護膜貼附在該晶圓之正表面上。
      特定言之,在第三態樣中,即使在該晶圓之後表面經研磨至該研磨表面達到前表面之倒角部分之程度的情況下,仍可防止該晶圓形成碎片或裂縫或內部應變。該晶圓之厚度在該晶圓之後表面經研磨之情況下可為(例如)不超過100微米。
      根據本發明之一第四態樣,其中提供一如第一至第三態樣之任一者中所描述之剝離用膠帶貼附裝置,其中該剝離用膠帶貼附構件安裝在一可環繞該擠壓構件之樞軸樞轉之一樞轉構件的前端。
      特定言之,在第四態樣中,即使在該晶圓之表面上形成一相對較厚之半導體元件的狀況下,該活動台仍可平穩地移動。
      根據本發明之一第五態樣,其中提供一如第四態樣中所描述之剝離用膠帶貼附裝置,其中垂直於該活動台之移動方向之該樞轉構件之寬度小於或大體等於該剝離用膠帶的寬度。
      特定言之,在第五態樣中,盡可能地防止了自偏離該剝離用膠帶之寬度之部分產生之外來物質貼附在該晶圓上。
      根據本發明之一第六態樣,其中提供一如第一至第五態樣之任一者中所描述之剝離用膠帶貼附裝置,其進一步包含:一高度調整構件,其用於調整該剝離用膠帶貼附構件之高度;及一用於輸入該晶圓之厚度及該表面保護膜之厚度的輸入構件與一用於偵測自該供應構件供應之該剝離用膠帶之高度的高度偵測構件之至少一者,其中該高度調整構件基於自該輸入構件輸入之該晶圓之厚度及該表面保護膜之厚度及/或由該高度偵測構件偵測之該剝離用膠帶之高度來調整該剝離用膠帶貼附構件的高度。
      特定言之,在第六態樣中,根據該晶圓之後表面的研磨程度及所用表面保護膜之厚度及/或該剝離用膠帶之高度,可精確調整該擠壓構件之高度。
      根據本發明之一第七態樣,其中提供一如第一至第六態樣之任一者中所描述之剝離用膠帶貼附裝置,其中分割膠帶貼附在該晶圓之後表面上及一安裝框架之下表面上,使得該晶圓與該安裝框架彼此整合在一起,且對應於該分割膠帶在該安裝框架與該晶圓之間的一部分的一凹槽形成於該活動台的頂面上。
      特定言之,在第七態樣中,當承載該晶圓時相應分割膠帶之一部分落在該凹槽中,從而進一步防止該剝離用膠帶與該分割膠帶彼此黏合。
      根據本發明之一第八態樣,其中提供一如第一至第七態樣之任一者中所描述之剝離用膠帶貼附裝置,其中該擠壓構件為一空壓缸且該空壓缸具有一制動器,該制動器用於使該空壓缸的桿在其衝程末端之前停止。
      特定言之,在第八態樣中,該剝離用膠帶貼附構件可於衝程末端之前被固持,且因此該剝離用膠帶貼附構件可平穩地移動。
      根據本發明之一第九態樣,其中提供一種剝離用膠帶貼附方法,其用於將一剝離用膠帶貼附在一貼附於一晶圓之表面上的表面保護膜上,其包含以下步驟:將該晶圓承載於活動臺上,並使該表面保護膜朝向上;將該剝離用膠帶供應至該晶圓之該表面保護膜上;移動該活動台以使該晶圓之一末端定位於剝離用膠帶貼附構件之下;藉由使該剝離用膠帶貼附構件經由該剝離用膠帶擠壓於該晶圓之該表面保護膜而施加擠壓力;將該活動台朝該晶圓之另一末端移動;及當該活動台自該剝離用膠帶貼附構件移動一預定距離後取消該擠壓力。
      特定言之,在第九態樣中,藉由使該剝離用膠帶貼附構件僅在該晶圓之一末端附近擠壓於該表面保護膜而施加擠壓力,從而防止整個晶圓形成切口或裂縫。同樣,此精確控制操作可防止該剝離用膠帶與分割膠帶彼此黏合。在取消該擠壓力之後,該剝離用膠帶貼附構件較佳由其自身重力與該剝離用膠帶保持接觸。
      根據本發明之一第十態樣,其中提供一如第九態樣中所描述之剝離用膠帶貼附方法,其中當該擠壓力被取消時,一間隙形成於該剝離用膠帶貼附構件與該表面保護膜之間。
      特定言之,在第十態樣中,由該剝離用膠帶貼附構件經由該剝離用膠帶施加在該表面保護膜上的力可減小至零,從而進一步防止該晶圓形成碎片或裂縫或內部應變。
      根據本發明之一第十一態樣,其中提供一如第九或第十態樣中所描述之剝離用膠帶貼附方法,其進一步包含以下步驟:偵測該晶圓之厚度與該表面保護膜之厚度的輸入及/或該剝離用膠帶之高度;及基於該輸入晶圓厚度及該表面保護膜之該輸入厚度及/或該剝離用膠帶之該偵測高度來調整該剝離用膠帶貼附構件的高度。
      特定言之,在第十一態樣中,根據該晶圓之後表面的研磨程度及所使用之表面保護膜之厚度及/或該剝離用膠帶之高度,可精確調整該擠壓構件之高度。
      根據如圖示說明之本發明之例示性實施例的詳細描述,本發明之此等及其他目的、特徵及優點將更加顯而易見。
    • 本发明提供一种剥离用胶带贴附方法,其用于将一剥离用胶带(4)贴附在一贴附于一晶圆(20)之表面上的表面保护膜(11)上,该晶圆承载于一活动台(31)上,其中该表面保护膜向上,且该剥离用胶带供应于该晶圆之该表面保护膜上。该活动台以使该晶圆之一末端(28)定位于一剥离用胶带贴附单元(46)之下之方式移动,且借由使该剥离用胶带贴附单元经由该剥离用胶带挤压于该晶圆之该表面保护膜而施加压力。其后,该活动台朝该晶圆之另一末端(29)移动,且在该活动台自该剥离用胶带贴附单元移动一预定距离后,该压力被取消。因此,可防止该晶圆在贴附该剥离用胶带时破裂。此外,本发明提供一种用于运行此方法之剥离用胶带贴附设备。 【创作特点】 为达成上述目的,根据本发明之一第一态样,其中提供一种剥离用胶带贴附设备,其用于将一剥离用胶带贴附在一贴附于一晶圆之表面上的表面保护膜上,该设备包含:一水平活动台,其用于使该表面保护膜向上地承载该晶圆;一供应构件,其用于将该剥离用胶带供应至承载于该活动台上之该晶圆之该表面保护膜上;一剥离用胶带贴附构件,其用于将自该供应构件供应之该剥离用胶带贴附在该晶圆之该表面保护膜上;及一挤压构件,其用于借由使该剥离用胶带贴附构件经由该剥离用胶带挤压于该晶圆之该表面保护膜而施加一挤压力,其中当该晶圆之一末端由该活动台定位于该剥离用胶带贴附构件之下时,该挤压构件借由使该剥离用胶带贴附构件经由该剥离用胶带挤压于该表面保护膜而施加挤压力,且当该活动台自该剥离用胶带贴附构件朝该晶圆之另一末端移动一预定距离时该挤压力被取消。 特定言之,在第一态样中,借由使该剥离用胶带贴附构件仅在该晶圆之一末端附近挤压于该表面保护膜而施加一挤压力,从而防止整个晶圆上发生切口或裂缝。同样,此精确控制操作可防止剥离用胶带与分割胶带彼此黏合。在取消该挤压力后,该剥离用胶带贴附构件较佳由其自身重力与该剥离用胶带保持接触。 根据本发明之一第二态样,其中提供一如第一态样中所描述之剥离用胶带贴附构件,其中当该挤压力被取消时,一间隙形成于该剥离用胶带贴附设备与该表面保护膜之间。 持定言之,在第二态样中,由该剥离用胶带贴附构件经由该剥离用胶带施加在该表面保护膜上之力可减小至零,从而可进一步防止切口或裂缝或内部应变。 根据本发明之一第三态样,其中提供一如第一或第二态样中所描述之剥离用胶带贴附设备,其中该晶圆之后表面经预先研磨,其中该表面保护膜贴附在该晶圆之正表面上。 特定言之,在第三态样中,即使在该晶圆之后表面经研磨至该研磨表面达到前表面之倒角部分之程度的情况下,仍可防止该晶圆形成碎片或裂缝或内部应变。该晶圆之厚度在该晶圆之后表面经研磨之情况下可为(例如)不超过100微米。 根据本发明之一第四态样,其中提供一如第一至第三态样之任一者中所描述之剥离用胶带贴附设备,其中该剥离用胶带贴附构件安装在一可环绕该挤压构件之枢轴枢转之一枢转构件的前端。 特定言之,在第四态样中,即使在该晶圆之表面上形成一相对较厚之半导体组件的状况下,该活动台仍可平稳地移动。 根据本发明之一第五态样,其中提供一如第四态样中所描述之剥离用胶带贴附设备,其中垂直于该活动台之移动方向之该枢转构件之宽度小于或大体等于该剥离用胶带的宽度。 特定言之,在第五态样中,尽可能地防止了自偏离该剥离用胶带之宽度之部分产生之外来物质贴附在该晶圆上。 根据本发明之一第六态样,其中提供一如第一至第五态样之任一者中所描述之剥离用胶带贴附设备,其进一步包含:一高度调整构件,其用于调整该剥离用胶带贴附构件之高度;及一用于输入该晶圆之厚度及该表面保护膜之厚度的输入构件与一用于侦测自该供应构件供应之该剥离用胶带之高度的高度侦测构件之至少一者,其中该高度调整构件基于自该输入构件输入之该晶圆之厚度及该表面保护膜之厚度及/或由该高度侦测构件侦测之该剥离用胶带之高度来调整该剥离用胶带贴附构件的高度。 特定言之,在第六态样中,根据该晶圆之后表面的研磨程度及所用表面保护膜之厚度及/或该剥离用胶带之高度,可精确调整该挤压构件之高度。 根据本发明之一第七态样,其中提供一如第一至第六态样之任一者中所描述之剥离用胶带贴附设备,其中分割胶带贴附在该晶圆之后表面上及一安装框架之下表面上,使得该晶圆与该安装框架彼此集成在一起,且对应于该分割胶带在该安装框架与该晶圆之间的一部分的一凹槽形成于该活动台的顶面上。 特定言之,在第七态样中,当承载该晶圆时相应分割胶带之一部分落在该凹槽中,从而进一步防止该剥离用胶带与该分割胶带彼此黏合。 根据本发明之一第八态样,其中提供一如第一至第七态样之任一者中所描述之剥离用胶带贴附设备,其中该挤压构件为一空压缸且该空压缸具有一制动器,该制动器用于使该空压缸的杆在其冲程末端之前停止。 特定言之,在第八态样中,该剥离用胶带贴附构件可于冲程末端之前被固持,且因此该剥离用胶带贴附构件可平稳地移动。 根据本发明之一第九态样,其中提供一种剥离用胶带贴附方法,其用于将一剥离用胶带贴附在一贴附于一晶圆之表面上的表面保护膜上,其包含以下步骤:将该晶圆承载于活动台上,并使该表面保护膜朝向上;将该剥离用胶带供应至该晶圆之该表面保护膜上;移动该活动台以使该晶圆之一末端定位于剥离用胶带贴附构件之下;借由使该剥离用胶带贴附构件经由该剥离用胶带挤压于该晶圆之该表面保护膜而施加挤压力;将该活动台朝该晶圆之另一末端移动;及当该活动台自该剥离用胶带贴附构件移动一预定距离后取消该挤压力。 特定言之,在第九态样中,借由使该剥离用胶带贴附构件仅在该晶圆之一末端附近挤压于该表面保护膜而施加挤压力,从而防止整个晶圆形成切口或裂缝。同样,此精确控制操作可防止该剥离用胶带与分割胶带彼此黏合。在取消该挤压力之后,该剥离用胶带贴附构件较佳由其自身重力与该剥离用胶带保持接触。 根据本发明之一第十态样,其中提供一如第九态样中所描述之剥离用胶带贴附方法,其中当该挤压力被取消时,一间隙形成于该剥离用胶带贴附构件与该表面保护膜之间。 特定言之,在第十态样中,由该剥离用胶带贴附构件经由该剥离用胶带施加在该表面保护膜上的力可减小至零,从而进一步防止该晶圆形成碎片或裂缝或内部应变。 根据本发明之一第十一态样,其中提供一如第九或第十态样中所描述之剥离用胶带贴附方法,其进一步包含以下步骤:侦测该晶圆之厚度与该表面保护膜之厚度的输入及/或该剥离用胶带之高度;及基于该输入晶圆厚度及该表面保护膜之该输入厚度及/或该剥离用胶带之该侦测高度来调整该剥离用胶带贴附构件的高度。 特定言之,在第十一态样中,根据该晶圆之后表面的研磨程度及所使用之表面保护膜之厚度及/或该剥离用胶带之高度,可精确调整该挤压构件之高度。 根据如图标说明之本发明之例示性实施例的详细描述,本发明之此等及其他目的、特征及优点将更加显而易见。