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    • 2. 外观设计
    • 發光二極體照明燈管 LED LIGHTING TILES
    • 发光二极管照明灯管 LED LIGHTING TILES
    • TWD122777S
    • 2008-05-01
    • TW096301294
    • 2007-03-07
    • 克立公司 CREE, INC.
    • 約翰K 羅勃茲 ROBERTS, JOHN K.保羅E 席姆斯 SIMS, PAUL E.謙華 游 YOU, CHENHUA
    • 【物品用途】本創作係關於一種發光二極體照明燈管,其可選擇性地與其他的發光二極體照明燈管互連。該(等)發光二極體照明燈管一般係使用在照明應用中,例如包括諸如LCD顯示器之顯示器背光照明,以及一般的照明用途。【創作特點】本創作係關於一種發光二極體照明燈管,其具有複數個緊密相隔之跡線之電路跡線圖案,該等跡線係共同延伸在一大致呈長方形薄狀本體之主要表面上。在該發光二極體燈管之主要表面的每一長邊上,該等緊密相隔的跡線具有大致平行延伸一段距離的部分,然後併入至聚歛在一起而靠近複數個隔開之發光二極體接點區域之每一側邊的部分中。在該發光二極體燈管之主要表面之一長邊上的接點區域係相對於在該發光二極體燈管之另一長邊上之發光二極體接點區域而錯開。該等發光二極體接點區域可大致呈圓形。如某些圖式所示,該發光二極體燈管可包括設置在各別發光二極體接點區域上之一大致呈球狀的透射構件。
    • 【物品用途】本创作系关于一种发光二极管照明灯管,其可选择性地与其他的发光二极管照明灯管互连。该(等)发光二极管照明灯管一般系使用在照明应用中,例如包括诸如LCD显示器之显示器背光照明,以及一般的照明用途。【创作特点】本创作系关于一种发光二极管照明灯管,其具有复数个紧密相隔之迹线之电路迹线图案,该等迹线系共同延伸在一大致呈长方形薄状本体之主要表面上。在该发光二极管灯管之主要表面的每一长边上,该等紧密相隔的迹线具有大致平行延伸一段距离的部分,然后并入至聚敛在一起而靠近复数个隔开之发光二极管接点区域之每一侧边的部分中。在该发光二极管灯管之主要表面之一长边上的接点区域系相对于在该发光二极管灯管之另一长边上之发光二极管接点区域而错开。该等发光二极管接点区域可大致呈圆形。如某些图式所示,该发光二极管灯管可包括设置在各别发光二极管接点区域上之一大致呈球状的透射构件。
    • 5. 发明专利
    • 具有抑制少數載體射入之碳化矽接合障礙蕭特基二極體 SILICON CARBIDE JUNCTION BARRIER SCHOTTKY DIODES WITH SUPPRESSED MINORITY CARRIER INJECTION
    • 具有抑制少数载体射入之碳化硅接合障碍萧特基二极管 SILICON CARBIDE JUNCTION BARRIER SCHOTTKY DIODES WITH SUPPRESSED MINORITY CARRIER INJECTION
    • TW200735347A
    • 2007-09-16
    • TW095116669
    • 2006-05-10
    • 克立公司 CREE, INC.
    • 柳世衡 RYU, SEI-HYUNG安那K 阿加娃 AGARWAL, ANANT K.
    • H01L
    • H01L29/6606H01L29/0615H01L29/0619H01L29/1608H01L29/872
    • 本發明提供阻斷一接合障礙蕭特基(JBS)結構中之內建PiN二極體之電流傳導的整體結構。一蕭特基二極體可串聯併入PiN二極體,其中該蕭特基二極體與PiN二極體方向相反。一串聯電阻或絕緣層可提供於PiN二極體與一蕭特基接觸之間。本發明亦提供碳化矽蕭特基二極體及製造碳化矽蕭特基二極體之方法,該等碳化矽蕭特基二極體包括一安置於該二極體之一漂移區域中之碳化矽接合障礙區域。該接合障礙區域包括:一第一碳化矽區域,其在該二極體之該漂移區域中具有一第一摻雜濃度;及一第二碳化矽區域,其位於該漂移區域中且安置於該第一碳化矽區域與蕭特基二極體之蕭特基接觸之間。該第二區域與該第一碳化矽區域及該蕭特基接觸接觸。該第二碳化矽區域具有一小於該第一摻雜濃度之第二摻雜濃度。
    • 本发明提供阻断一接合障碍萧特基(JBS)结构中之内置PiN二极管之电流传导的整体结构。一萧特基二极管可串联并入PiN二极管,其中该萧特基二极管与PiN二极管方向相反。一串联电阻或绝缘层可提供于PiN二极管与一萧特基接触之间。本发明亦提供碳化硅萧特基二极管及制造碳化硅萧特基二极管之方法,该等碳化硅萧特基二极管包括一安置于该二极管之一漂移区域中之碳化硅接合障碍区域。该接合障碍区域包括:一第一碳化硅区域,其在该二极管之该漂移区域中具有一第一掺杂浓度;及一第二碳化硅区域,其位于该漂移区域中且安置于该第一碳化硅区域与萧特基二极管之萧特基接触之间。该第二区域与该第一碳化硅区域及该萧特基接触接触。该第二碳化硅区域具有一小于该第一掺杂浓度之第二掺杂浓度。
    • 9. 发明专利
    • 封裝發光裝置之晶片尺度方法及經晶片尺度封裝之發光裝置 CHIP-SCALE METHODS FOR PACKAGING LIGHT EMITTING DEVICES AND CHIP-SCALE PACKAGED LIGHT EMITTING DEVICES
    • 封装发光设备之芯片尺度方法及经芯片尺度封装之发光设备 CHIP-SCALE METHODS FOR PACKAGING LIGHT EMITTING DEVICES AND CHIP-SCALE PACKAGED LIGHT EMITTING DEVICES
    • TW200701493A
    • 2007-01-01
    • TW094122504
    • 2005-07-01
    • 克立公司 CREE, INC.
    • 詹姆士 艾柏森 IBBETSON, JAMES柏德 凱勒 KELLER, BERND普米特 帕雷克 PARIKH, PRIMIT
    • H01L
    • H01L33/62H01L33/0079H01L33/483H01L33/486H01L33/60H01L2224/32245H01L2224/32257H01L2224/48091H01L2224/48247H01L2224/73265H01L2924/00014H01L2924/00
    • 一種封裝發光裝置包括:一載體基板,其具有一頂表面與一底表面;第一及第二傳導性通孔,係從該基板之頂表面延伸至該基板之底表面;及一接合墊塊,其設於該基板之頂表面上且電接觸於該第一傳導性通孔。一具有第一及第二電極之二極體係安裝於該接合墊塊上,且該第一電極係電接觸於該接合墊塊。一鈍化層形成於該二極體上,以將該二極體之第二電極曝露。一傳導性跡線形成於該載體基板之頂表面上,且電接觸於該第二傳導性通孔與該第二電極。該傳導性跡線設於該鈍化層上且延伸通過該鈍化層以接觸該第二電極。一種將發光裝置封裝之方法包括:提供一磊晶圓,其包括一生長基板及一設於該生長基板上之取向附生結構;將一載體基板接合於該磊晶圓之取向附生結構;形成複數個穿過該載體基板之傳導性通孔;將複數個隔離二極體界定於該取向附生結構內;及將至少一該傳導性通孔電連接於該等複數個隔離二極體之各者。
    • 一种封装发光设备包括:一载体基板,其具有一顶表面与一底表面;第一及第二传导性通孔,系从该基板之顶表面延伸至该基板之底表面;及一接合垫块,其设于该基板之顶表面上且电接触于该第一传导性通孔。一具有第一及第二电极之二极管系安装于该接合垫块上,且该第一电极系电接触于该接合垫块。一钝化层形成于该二极管上,以将该二极管之第二电极曝露。一传导性迹线形成于该载体基板之顶表面上,且电接触于该第二传导性通孔与该第二电极。该传导性迹线设于该钝化层上且延伸通过该钝化层以接触该第二电极。一种将发光设备封装之方法包括:提供一磊晶圆,其包括一生长基板及一设于该生长基板上之取向附生结构;将一载体基板接合于该磊晶圆之取向附生结构;形成复数个穿过该载体基板之传导性通孔;将复数个隔离二极管界定于该取向附生结构内;及将至少一该传导性通孔电连接于该等复数个隔离二极管之各者。