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1. 发明专利

TWI391592B 處理溶液之具感測器的閥以及使用該閥處理基板的裝置與方法有权
简体标题：处理溶液之具传感器的阀以及使用该阀处理基板的设备与方法
公开(公告)号：TWI391592B
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：TW097138924
申请日：2008-10-09
申请人：細美事有限公司 , SEMES CO., LTD.
发明人：鄭惠善 , JUNG, HYE-SON , 秋永浩 , CHOO, YOUNG-HO
IPC分类号： F16K3/30 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67086 , H01L21/67253 , Y10T137/7303

2. 发明专利

TW200807530A 處理液供給機構、處理液供給方法及記憶媒體审中-公开
简体标题：处理液供给机构、处理液供给方法及记忆媒体
公开(公告)号：TW200807530A
公开(公告)日：2008-02-01
申请号：TW096109754
申请日：2007-03-21
申请人：東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：佐佐木慶介 SASAKI, KEISUKE , 江和善 ESHIMA, KAZUYOSHI
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67075 , H01L21/67023 , H01L21/67028 , H01L21/6704 , H01L21/67063 , H01L21/67253 , Y10T137/0352 , Y10T137/3127 , Y10T137/7303
摘要：本發明之處理液供給機構是具備:經供給管連接於處理槽之純水供給源;貯留藥液,將該貯留之藥液供給至供給管的藥液槽;和經加壓氣體供給管連接於藥液槽,藉由加壓氣體供給至該藥液槽,執行自該藥液槽供給藥液至供給管的加壓氣體供給源。於加壓氣體供給源和上述藥液槽之間介設有加壓氣體供給管,該壓力調整部是調整自加壓氣體供給源所供給之加壓氣體之壓力。於開始從藥液槽供給藥液至供給管之後,以使自加壓氣體供給源被供給至藥液槽之加壓氣體之壓力漸漸增加之方式,控制上述壓力調整部。
简体摘要：本发明之处理液供给机构是具备:经供给管连接于处理槽之纯水供给源;贮留药液,将该贮留之药液供给至供给管的药液槽;和经加压气体供给管连接于药液槽,借由加压气体供给至该药液槽,运行自该药液槽供给药液至供给管的加压气体供给源。于加压气体供给源和上述药液槽之间介设有加压气体供给管,该压力调整部是调整自加压气体供给源所供给之加压气体之压力。于开始从药液槽供给药液至供给管之后,以使自加压气体供给源被供给至药液槽之加压气体之压力渐渐增加之方式,控制上述压力调整部。

3. 发明专利

TW468102B 可保持恆定流量之液體供給裝置失效
简体标题：可保持恒定流量之液体供给设备
公开(公告)号：TW468102B
公开(公告)日：2001-12-11
申请号：TW090100992
申请日：2001-01-17
申请人：劉崇崑
发明人：劉崇崑
IPC分类号： G05D
CPC分类号： F04F10/00 , Y10T137/2795 , Y10T137/2904 , Y10T137/2917 , Y10T137/7303
摘要：本發明創作係關於一種可保持恆定流量之液體供給裝置，該液體供給裝置係於一液體容器設有一可隨液面昇降的液位控制裝置及一可隨液面昇降的浮動虹吸管裝置;該液位控制裝置設有一頂桿，配合液體容器的錐斜狀入口流道，達到控制液體容器內部液面高低之效能;該浮動虹吸管裝置的虹吸出口與液體容器的液面會保持一恆定的液位差，配合虹吸作用的自然原理，讓液體供給裝置保持恆定流量之輸出，組構成一種可保持恆定流量之液體供給裝置創新發明。
简体摘要：本发明创作系关于一种可保持恒定流量之液体供给设备，该液体供给设备系于一液体容器设有一可随液面升降的液位控制设备及一可随液面升降的浮动虹吸管设备;该液位控制设备设有一顶杆，配合液体容器的锥斜状入口流道，达到控制液体容器内部液面高低之性能;该浮动虹吸管设备的虹吸出口与液体容器的液面会保持一恒定的液位差，配合虹吸作用的自然原理，让液体供给设备保持恒定流量之输出，组构成一种可保持恒定流量之液体供给设备创新发明。

4. 发明专利

TW392238B 化學藥品供給裝置及方法失效
简体标题：化学药品供给设备及方法
公开(公告)号：TW392238B
公开(公告)日：2000-06-01
申请号：TW087104499
申请日：1998-03-25
申请人：富士通股份有限公司
发明人：平岡尚樹 , 平出健志
IPC分类号： H01L
CPC分类号： B24B37/04 , B01F3/088 , B01F13/10 , B01F13/1036 , B01F15/00019 , B01F2003/125 , B01F2215/0045 , B01F2215/0096 , B24B57/02 , Y10T137/7303
摘要：一種化學品供給裝置包括第一及第二混合槽供混合及供給用於半導體製造過程之化學品漿料。漿料由第一及第二混合槽交替提供故漿料可連續供應加工裝置利用俾獲得最高效率。當其中一槽供應該漿料時，另一槽可經清潔然後用於準備一批新漿料。
简体摘要：一种化学品供给设备包括第一及第二混合槽供混合及供给用于半导体制造过程之化学品浆料。浆料由第一及第二混合槽交替提供故浆料可连续供应加工设备利用俾获得最高效率。当其中一槽供应该浆料时，另一槽可经清洁然后用于准备一批新浆料。

5. 发明专利

TWI420582B 處理液供給機構、處理液供給方法及記憶媒體有权
简体标题：处理液供给机构、处理液供给方法及记忆媒体
公开(公告)号：TWI420582B
公开(公告)日：2013-12-21
申请号：TW096109754
申请日：2007-03-21
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：佐佐木慶介 , SASAKI, KEISUKE , 江嶋和善 , ESHIMA, KAZUYOSHI
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/306
CPC分类号： H01L21/67075 , H01L21/67023 , H01L21/67028 , H01L21/6704 , H01L21/67063 , H01L21/67253 , Y10T137/0352 , Y10T137/3127 , Y10T137/7303

6. 发明专利

TW201217929A 給水控制系統及方法 WATER SUPPLY CONTROL SYSTEM AND METHOD 审中-公开
简体标题：给水控制系统及方法 WATER SUPPLY CONTROL SYSTEM AND METHOD
公开(公告)号：TW201217929A
公开(公告)日：2012-05-01
申请号：TW099135720
申请日：2010-10-20
申请人：鴻海精密工業股份有限公司
发明人：朱哲毅 , 李駿宏
IPC分类号： G05D
CPC分类号： C02F1/008 , C02F2209/006 , C02F2209/008 , C02F2209/42 , Y10T137/7303
摘要：一種給水控制系統及方法,該系統包括:設置模組,用於預先設置用水高峰時段、最高水位及最低水位的位置;判斷模組,用於判斷當前是否為用水高峰時段,以及當前水塔中的水位與最低水位及最高水位的關係;控制模組,用於當不是用水高峰時段且當前水塔中的水位已經到達最低水位而並未到達最高水位時,控制使用太陽能發電板對給水馬達供電;當不是用水高峰時段且未到達最低水位時,或者當是用水高峰時段且未到達最高水位時,控制使用交流電源對給水馬達供電。
简体摘要：一种给水控制系统及方法,该系统包括:设置模块,用于预先设置用水高峰时段、最高水位及最低水位的位置;判断模块,用于判断当前是否为用水高峰时段,以及当前水塔中的水位与最低水位及最高水位的关系;控制模块,用于当不是用水高峰时段且当前水塔中的水位已经到达最低水位而并未到达最高水位时,控制使用太阳能发电板对给水马达供电;当不是用水高峰时段且未到达最低水位时,或者当是用水高峰时段且未到达最高水位时,控制使用交流电源对给水马达供电。

7. 发明专利

TW201021919A 上膠壓機用上膠液輸送系統及在上膠液操作期間減少上膠液體積的方法 SIZING SOLUTION DELIVERY SYSTEMS FOR A SIZING PRESS AND METHODS FOR REDUCING SIZING SOLUTION VOLUMES DURING OPERATION THEREOF 审中-公开
简体标题：上胶压机用上胶液输送系统及在上胶液操作期间减少上胶液体积的方法 SIZING SOLUTION DELIVERY SYSTEMS FOR A SIZING PRESS AND METHODS FOR REDUCING SIZING SOLUTION VOLUMES DURING OPERATION THEREOF
公开(公告)号：TW201021919A
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：TW098125546
申请日：2009-07-29
申请人：凱米拉化學股份有限公司
发明人：塞斯威廉
IPC分类号： B05C , D21H
CPC分类号： D21H21/16 , D21H23/56 , Y10T137/0318 , Y10T137/0424 , Y10T137/7303 , Y10T137/731
摘要：上膠壓機用上膠液輸送系統及減少上膠液體積的方法大體上包括含有未經處理之上膠液（例如澱粉）的供應槽，體積容量小於該供應槽的豎管，以及在該供應槽及豎管下游之輔助化學品槽。該豎管係經配置以收集來自使用中之上膠壓機的溢流流體。在此組態中，在迴路中所提供之溢流液的體積縮小，而減少在供紙級改變的清洗期間所需的上膠液體積。此外，同時減少時間及平衡循環。並且，揭示利用該上膠液輸送系統減少上膠液體積及／或增加上膠效率的方法。
简体摘要：上胶压机用上胶液输送系统及减少上胶液体积的方法大体上包括含有未经处理之上胶液（例如淀粉）的供应槽，体积容量小于该供应槽的竖管，以及在该供应槽及竖管下游之辅助化学品槽。该竖管系经配置以收集来自使用中之上胶压机的溢流流体。在此组态中，在回路中所提供之溢流液的体积缩小，而减少在供纸级改变的清洗期间所需的上胶液体积。此外，同时减少时间及平衡循环。并且，揭示利用该上胶液输送系统减少上胶液体积及／或增加上胶效率的方法。

8. 发明专利

TW200934974A 處理溶液之具感測器的閥以及使用該閥處理基板的裝置與方法 VALVE WITH SENSOR FOR PROCESS SOLUTION, AND APPARATUS AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATE USING THE SAME 审中-公开
简体标题：处理溶液之具传感器的阀以及使用该阀处理基板的设备与方法 VALVE WITH SENSOR FOR PROCESS SOLUTION, AND APPARATUS AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATE USING THE SAME
公开(公告)号：TW200934974A
公开(公告)日：2009-08-16
申请号：TW097138924
申请日：2008-10-09
申请人：細美事有限公司 SEMES CO., LTD.
发明人：鄭惠善 JUNG, HYE-SON , 秋永浩 CHOO, YOUNG-HO
IPC分类号： F16K , H01L
CPC分类号： H01L21/67086 , H01L21/67253 , Y10T137/7303
摘要：所提供的是一種用於製程溶液的具感測器的閥、使用此閥的基板處理裝置以及基板處理方法。此閥包括主體、入口、出口、閘門以及感測器。主體內提供一通道,提供給基板的製程溶液流經此通道。入口是連接到此通道的一端,製程溶液藉由此入口而流入主體。出口是連接到通道的另一端,製程溶液藉由此出口而排出主體之外。閘門是用來在入口與通道相連接的部位打開或關閉通道。感測器耦接到主體,以接觸流經通道的製程溶液,且感測製程溶液的成分。
简体摘要：所提供的是一种用于制程溶液的具传感器的阀、使用此阀的基板处理设备以及基板处理方法。此阀包括主体、入口、出口、闸门以及传感器。主体内提供一信道,提供给基板的制程溶液流经此信道。入口是连接到此信道的一端,制程溶液借由此入口而流入主体。出口是连接到信道的另一端,制程溶液借由此出口而排出主体之外。闸门是用来在入口与信道相连接的部位打开或关闭信道。传感器耦接到主体,以接触流经信道的制程溶液,且传感制程溶液的成分。

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